JPH08309372A

JPH08309372A - 洗浄方法及び洗浄装置

Info

Publication number: JPH08309372A
Application number: JP7123273A
Authority: JP
Inventors: Hiroko Takehara; 裕子竹原; Megumi Hamano; 恵浜野; Hiroshi Kikuchi; 廣菊池
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-05-23
Filing date: 1995-05-23
Publication date: 1996-11-26

Abstract

(57)【要約】【目的】界面活性剤の使用量を低減可能ならしめる洗浄
方法及び洗浄装置と、廃棄物量の少ない洗浄廃液処理方
法及びその処理装置とを実現する。【構成】油分を含む有機性汚染物質が付着した被洗浄試
料を、水洗槽３で水洗してから界面活性剤溶液により洗
浄槽４で洗浄する洗浄装置であって、洗浄槽４の洗浄液
循環経路４ｃに洗浄液の再生処理装置（エマルジョン分
解槽）１０を設ける。この再生処理装置は、洗浄槽４で
形成された油と界面活性剤との乳化物を高周波通電で界
面活性剤と油分とに分解し、油分を洗浄液循環経路外に
分離、除去して洗浄液を浄化再生する。再生された洗浄
液は洗浄槽４に循環し繰り返し使用する。再生処理装置
１０には、高周波電源１３に接続された電極１１、１１
´が設けられ、これらに高周波を印加すると、乳化物は
油分と界面活性剤とに分解されて、比重の小さい油分は
上昇してオイルスキマー１４によって除去される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、界面活性剤を用いた洗
浄方法及び洗浄装置と、さらには洗浄廃液処理方法及び
処理装置に係り、特に界面活性剤使用量及び界面活性剤
溶液の無害化処理後の廃棄物量が少ない洗浄方法及び洗
浄装置と、さらには洗浄廃液処理方法及び処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】各種金属板材料には、通常、防錆のため
に油分を含む防錆油が塗布されている。また、切削、プ
レスなど加工後の金属材料には多量の切削油などが付着
している。従来、これら油分などの汚染物の洗浄には、
フッ素系溶剤や塩素系溶剤が広く使用されていた。しか
しこれら溶剤は、オゾン層破壊、地球温暖化といった環
境破壊をおこすために使用が制限され、界面活性剤溶液
を用いた洗浄に移行しつつある。

【０００３】界面活性剤を用いた洗浄においては、油分
などの有機性汚染物は界面活性剤ミセル中に取り込ま
れ、それらは乳化物となって洗浄水中に懸濁する。この
ようにして一度生成された乳化物を元の油分と界系面活
性剤に分離することは容易でなく、洗浄液中にこのよう
な乳化物が増加するに従って洗浄力の低下をきたすため
に洗浄工程においては頻繁に新しい洗浄液と交換する必
要があった。

【０００４】また、上記洗浄後の界面活性剤溶液は、水
質汚濁防止法によりそのまま河川などに放出することは
禁止されており、無害化処理を施す必要がある。通常、
有機性廃液はバクテリアの活動を利用した活性汚泥処理
法により分解処理されるが、界面活性剤はバクテリアの
活動を阻害したり、バクテリアに難分解性のものが多
い。また、活性汚泥法による処理においては、バクテリ
アが有機物を処理するにしたがってバクテリアの個体数
が増えることとなり、常時それら余剰汚泥の廃棄処理が
必要となる。

【０００５】なお、この種の界面活性剤溶液を用いた洗
浄方法と洗浄装置に関連するものとして、例えば特開平
５−２３９６７８号公報が挙げられる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術におい
ては、洗浄力の低下を防ぐためには頻繁に新しい洗浄液
と交換する必要があり、結果的に大量の界面活性剤を使
用するものであった。また、界面活性剤の活性汚泥処理
においては、多量の余剰汚泥が発生し、最終的にはそれ
らの廃棄処分が必要となるという問題があった。

【０００７】したがって、本発明の目的はこのような従
来の問題点を解消することにあり、第１の目的は、環境
有害物の一種である界面活性剤の使用量の少ない洗浄方
法を提供することにあり、第２の目的は、洗浄後の界面
活性剤溶液の無害化処理において、最終的に排出される
廃棄物量の少ない洗浄廃液処理方法を提供することにあ
り、そして第３の目的は、環境有害物の一種である界面
活性剤の使用量が少なく、かつ、界面活性剤溶液の無害
化処理後に排出される廃棄物量の少ない洗浄装置と洗浄
廃液処理装置とをそれぞれ提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的は、少な
くとも油分を有機汚染物質として付着した被洗浄試料を
水洗する工程と、水洗された試料を界面活性剤溶液で洗
浄する工程とを有して成る洗浄方法であって、界面活性
剤溶液で洗浄する工程に洗浄液の循環経路を設けると共
に、循環経路内に、洗浄液中の油と界面活性剤からなる
乳化成分を高周波通電により界面活性剤と油分とに分解
し、油分を経路外に分離除去する洗浄液の再生処理工程
を設けた洗浄方法によって達成される。

【０００９】これらの各工程についてさらに詳細に説明
すると、上記水洗する工程としては、被洗浄試料として
例えば機械加工され表面に油分が付着した金属部品を、
水もしくは温水等の洗浄水中に浸漬するか、もしくは洗
浄水をスプレーなどを用いて試料に噴射する等の通常の
水洗工程が用いられる。試料を洗浄水中に浸漬する場合
には、洗浄効果を大きくするために洗浄水に超音波を照
射することが望ましい。

【００１０】また、界面活性剤溶液で洗浄する工程にお
いても洗浄効果を大きくするために、洗浄液に超音波を
照射することは有効である。これによって油分を界面活
性剤によって容易に乳化することができる。

【００１１】本発明で重要なのは洗浄液の循環経路に洗
浄液（洗浄に使用後の界面活性剤溶液）の再生処理工程
を設けたことである。この洗浄液の再生処理工程は、洗
浄液に例えば１０ｋＨｚ以上、好ましくは２０〜１００
ｋＨｚの高周波を通電することにより、乳化物を界面活
性剤と油分とに分解し、油分を経路外に分離除去する。
油分は比重が小さく洗浄液の表面に浮くので、この油分
を例えば上澄をオーバーフローして除去する、オイルス
キマーで除去する、濾紙状のもので吸着除去する等の各
種の除去方法で分離除去すれば洗浄液は浄化再生されて
繰り返し循環使用される。

【００１２】また、上記目的は、上記洗浄液の再生処理
工程に直列に、もしくは並列に独立させて廃液処理工程
を設け、使用能力が低下した汚れた洗浄液を無公害物質
に分解、廃棄するようにしても達成される。この場合の
廃液処理工程は、洗浄液の循環経路上に、洗浄液の一部
を廃液として排出する経路を分岐し、排出された洗浄廃
液に酸素（実用的には空気で十分である）を吹き込み、
それを光照射下で半導体触媒に接触させるものであり、
これにより、光触媒分解反応を起こさせて廃液中の有機
物を無公害の低分子量成分ないしは水、炭酸ガスに分解
処理することができる。

【００１３】さらに好ましくは、上記廃液処理工程にお
いて分解生成した有機物の揮発性成分と廃液とを、ガス
透過膜で分離し、分離された揮発性成分を再び光照射下
で半導体触媒に接触させることにより光触媒分解反応を
起こさせて、さらに低分子量成分に分解処理する工程を
配設し、廃液中の有機物を最終的に主として水と炭酸ガ
スとに分解して逐次大気中に気化させるようにすること
である。

【００１４】また、上記光照射は紫外光もしくは可視光
照射とし、光触媒分解反応を起こし易い半導体触媒との
組み合わせによって適宜選択する。また、半導体触媒と
しては例えば二酸化チタンＴｉＯ₂、酸化亜鉛ＺｎＯ、
酸化錫ＳｎＯ₂及び酸化タングステンＷＯ₃のごとき酸化
物半導体、及び硫化モリブデンＭｏＳ及び硫化カドミウ
ムＣｄＳのごとき硫化物の少なくとも１種、もしくはこ
れら半導体に例えば白金のごとき貴金属を坦持させた半
導体触媒を使用する。実用的に好ましくは、二酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化タングステンのごとき酸
化物半導体触媒と、紫外線照射との組み合わせが挙げら
れる。

【００１５】上記第２の目的は、有機性汚染物質として
油もしくは油と界面活性剤よりなる乳化物を含む洗浄廃
液を、酸素が存在する光照射下で半導体触媒に接触させ
ることにより、光触媒分解反応を起こさせて廃液中の有
機物を分解処理する工程を有して成る洗浄廃液処理方法
によって達成される。これによって、有機汚染物質を含
んだ洗浄廃液を無公害の低分子物質ないしは水、炭酸ガ
スに分解して廃棄することができる。

【００１６】さらに好ましくは、上記廃液中の有機物を
分解処理する工程において分解生成した有機物の揮発性
成分と廃液とを、ガス透過膜で分離し、分離された揮発
性成分を、再び酸素が存在する光照射下で半導体触媒に
接触させることにより光触媒分解反応を起こさせて、さ
らに低分子量成分に分解処理する工程を配設し、廃液中
の有機物を最終的に主として水と炭酸ガスとに分解して
逐次大気中に気化させるようにすることである。光触媒
分解反応を起こさせる条件は、上記第１の目的を達成す
ることのできる水洗浄方法の発明の廃液処理工程と同様
の処理条件とする。

【００１７】上記第３の目的は、少なくとも油分を有機
汚染物質として付着した被洗浄試料を水洗する水洗槽
と、水洗された試料を界面活性剤溶液で洗浄する洗浄槽
と、被洗浄試料を水洗槽から洗浄槽に搬送する試料搬送
装置とを備える洗浄装置であって、洗浄槽には、洗浄液
の循環経路を備え、洗浄液の循環経路上には、油と界面
活性剤からなる乳化物を含む洗浄液を高周波通電により
界面活性剤と油分とに分解し、油分を洗浄液の循環経路
外に分離、除去する洗浄液の再生処理装置を備えた洗浄
装置によって達成される。この場合にも洗浄効果をより
発揮させるために上記水洗槽及び洗浄槽の少なくとも一
方に超音波照射手段を配設することが望ましい。

【００１８】そして好ましくは、上記洗浄槽の洗浄液の
循環経路上に、洗浄液の一部を廃液として排出する分岐
経路を設けると共に、この分岐経路に光触媒分解反応を
起こさせ廃液中の有機物を低分子量の物質に分解処理す
る廃液処理装置を設け、この廃液処理装置を洗浄廃液に
酸素を吹き込む手段と、酸素が吹き込まれた廃液を光照
射下で半導体触媒に接触させる手段とで構成することで
ある。

【００１９】洗浄廃液に酸素を吹き込む手段としては、
例えばポンプで空気を廃液中に吹き込む構成とする。ま
た、酸素が吹き込まれた洗浄廃液を光照射下で半導体触
媒に接触させる手段としては、光触媒分解反応を起こし
易くするため、例えば触媒床を多段階に設けて接触床の
面積を拡げ、触媒床の側面から紫外線ランプで照射しな
がら各触媒床を洗浄廃液が順次くぐり抜ける構成とす
る。

【００２０】また、上記第３の目的は、少なくとも油分
を有機汚染物質として付着した被洗浄試料を水洗する水
洗槽と、水洗された試料を界面活性剤溶液で洗浄する洗
浄槽と、被洗浄試料を水洗槽から洗浄槽に搬送する試料
搬送装置とを備える洗浄装置であって、洗浄槽に洗浄液
の一部を廃液として排出する経路を設けると共に、経路
に光触媒分解反応を起こさせ廃液中の有機物を低分子量
の物質に分解処理する廃液処理装置を設け、廃液処理装
置を洗浄廃液に酸素を吹き込む手段と、酸素が吹き込ま
れた廃液を光照射下で半導体触媒に接触させる手段とで
構成して成る洗浄装置によっても達成される。すなわ
ち、この発明は、先の洗浄装置の発明から、洗浄液の再
生処理装置を省略した構成となるものである。

【００２１】洗浄装置のさらに好ましい構成例として
は、上記廃液処理装置に隣接してガス透過膜で分離され
た第２の光触媒分解反応を起こさせる手段を配設し、廃
液処理装置において分解生成した有機物の揮発性成分と
廃液とをこのガス透過膜で分離すると共に、分離された
揮発性成分を光照射下で半導体触媒に接触させる第２の
光触媒分解反応を起こさせる手段によりさらに低分子量
成分に分解処理し、廃液中の有機物を最終的に主として
水と炭酸ガスとに分解して逐次大気中に気化させるよう
にすることである。

【００２２】すなわち、光触媒分解反応を起こさせる手
段をガス透過膜で分離して２段階に配設したものである
が、いずれの光触媒分解反応を起こさせる手段も、酸素
存在下の光照射下で半導体触媒に接触させる手段で構成
するものである。

【００２３】さらにまた、上記第３の目的は、有機性汚
染物質として油もしくは油と界面活性剤よりなる乳化物
を含む洗浄廃液貯槽に、光触媒分解反応を起こさせ廃液
中の有機物を低分子量の物質ないしは水、炭酸ガスに分
解処理する廃液処理装置を設け、この廃液処理装置を洗
浄廃液に酸素を吹き込む手段と、酸素が吹き込まれた廃
液を光照射下で半導体触媒に接触させる手段とで構成し
て成る洗浄廃液処理装置によっても達成される。

【００２４】この洗浄廃液の処理装置の性能を高めるた
めに、好ましくは上記廃液処理装置に隣接してガス透過
膜で分離された第２の光触媒分解反応を起こさせる手段
を配設し、廃液処理装置において分解生成した有機物の
揮発性成分と廃液とをこのガス透過膜で分離すると共
に、分離された揮発性成分を光照射下で半導体触媒に接
触させる前記第２の光触媒分解反応を起こさせる手段に
よりさらに低分子量成分に分解処理し、廃液中の有機物
を最終的に主として水と炭酸ガスとに分解して逐次大気
中に気化させるようにすることである。

【００２５】

【作用】第１の目的を達成することのできる洗浄方法の
発明については、洗浄液の再生処理工程を設けたことが
特徴である。そこで洗浄液の再生処理工程の作用につい
て以下に説明する。水もしくは温水での水洗工程の後に
界面活性剤溶液を用いた洗浄工程を行なうことにより、
洗浄効果を著しく上昇することが可能となる。

【００２６】界面活性剤溶液での洗浄効果については説
明するまでもなく、油分などの有機性汚染物は界面活性
剤ミセル中に取り込まれ、それらは乳化物となって洗浄
液中に懸濁する。この洗浄溶液に超音波を照射すると、
乳化物の形成が促進され洗浄効果をより上昇させること
ができる。しかし、洗浄効果が上昇すればそれだけ洗浄
液は汚染され、繰り返し使用回数は極端に制限され、頻
繁に洗浄液を交換せざるを得なかった。

【００２７】そこで本発明の洗浄液の再生処理工程で
は、洗浄液中に高周波を流すことによって、大量に存在
する油分などの有機性汚染物と界面活性剤とからなる乳
化物を分解して、油分と界面活性剤とに分離し、油分を
除去して洗浄液を再生しようと云うものである。油分は
比重が小さく洗浄液の表面に浮くので、上層を廃棄すれ
ば下層の界面活性剤を含む洗浄液を再生することがで
き、この工程を繰り返すことによって洗浄液を長期にわ
たって使用することができる。

【００２８】高周波電流を流すことによって乳化物が分
解するメカニズムについて説明すると、乳化物は、電価
を持ったコロイド粒子として存在しているものが多い。
そのため、上記界面活性剤溶液に高周波電流を流すとコ
ロイド粒子は微細な振動を開始して乳化が破壊される。
その結果、比重の小さい油分が上昇して分離し、下層は
油分含有量の少ない界面活性剤溶液となり、洗浄液が再
生される。この乳化物の分解に効果がある高周波電流
は、周波数が１０ｋＨｚ以上であるが、実用上好ましく
は２０〜１００ｋＨｚ程度である。

【００２９】また、洗浄液の廃液処理工程の作用につい
て説明すると、この工程は洗浄液の一部を廃棄して新鮮
な洗浄液を補給する際の廃液処理工程、もしくは使い古
された洗浄液の廃棄処理工程に該当するものであるが、
この工程では光分解触媒反応を起こして有機物を段階的
に低分子量の無公害物質に分解するものである。すなわ
ち、有機物を最終的には水と炭酸ガスに分解する。

【００３０】光分解触媒反応について説明すると、有機
性汚染物や界面活性剤を含む洗浄廃液を、例えば二酸化
チタンなどの半導体触媒と接触させ、紫外線を照射した
場合、二酸化チタンなどの触媒の表面で、次式（１）、
（２）、（３）に示すような酸化還元反応が起こる。

【００３１】

【化１】ＯＨ^- ＋ｈ⁺ → Ｏ^*Ｈ …（１）

【００３２】

【化２】Ｏ₂ ＋ｅ^- → Ｏ₂ ^- …（２）

【００３３】

【化３】Ｏ₂ ^- ＋Ｈ₂Ｏ→ ＯＨ^- ＋ＨＯ₂ ^* …（３）式（１）は酸化反応で、ｈ⁺は光照射によって半導体触
媒の表面に生じたホールを、式（２）は還元反応で、ｅ
^-は同様に半導体触媒の表面に生じたエレクトロンをそ
れぞれ示している。これらの反応で生成するラジカル種
〔式（１）、（２）中の＊印〕は酸化力が強く、バクテ
リアに難分解性の界面活性剤も酸化分解する。したがっ
て、最終的には水および炭酸ガスにまで分解されるた
め、余剰汚泥のような廃棄物が排出されない。

【００３４】更に、この光分解触媒反応は液体中よりも
空気中での反応速度が早いことから、界面活性剤などの
分解過程で生成された低分子量の有機物を逐次疎水性の
ガス透過膜などを介して空気中に気化させ、空気中でさ
らに第２の半導体触媒と接触させる光分解触媒反応を繰
り返すことにより高効率に分解することができる。

【００３５】第２の目的を達成することのできる洗浄廃
液処理方法の発明については、洗浄廃液中の有機物を分
解処理する工程に特徴がある。しかし、この工程は前述
した水洗浄方法の発明における廃液処理工程と実質的に
同一の処理工程となるものであることから、その作用の
説明は省略する。

【００３６】第３の目的を達成することのできる洗浄装
置及び洗浄廃液処理装置の発明についても、洗浄液の再
生処理工程及び洗浄液の廃液処理工程と処理の原理がそ
れぞれ同一なので作用の説明は省略する。

【００３７】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面にしたがって
説明する。〈実施例１〉（１）洗浄装置の構成例図１は、本発明の一実施例となる洗浄方法及び洗浄装置
の概略を示すブロック図である。この洗浄装置は、被洗
浄試料を水洗するための水洗槽３と、界面活性剤溶液で
洗浄する洗浄槽４と、被洗浄試料を収容した搬送かご２
を、水洗槽３及び界面活性剤溶液が循環する洗浄槽４へ
順次搬送するための搬送装置１より構成されている。

【００３８】水洗槽３には洗浄水を最高温度８０℃まで
加熱可能なヒーター５ａが内部に設けられており、同時
に、洗浄水に超音波を照射するための超音波発振器６ａ
が外部に設けられている。また、水洗槽内の洗浄水を常
時もしくは間歇的に循環するためのポンプ７ａが洗浄水
循環経路（配管）３ｃに接続されており、さらに循環経
路３ｃの途中には油水分離器８が設けられている。油水
分離器８の内部には仕切り板９が設けられており、ま
た、上部には洗浄水中から分離して浮上した油分をオー
バーフローにより排出するための油分取り出し口１０が
設けられている。

【００３９】また、界面活性剤溶液で洗浄する洗浄槽４
には、界面活性剤洗浄液を最高温度６０℃まで加熱可能
なヒーター５ｂが内部に設けられており、同時に、この
洗浄液に超音波を照射するための超音波発振器６ｂが外
部に設けられている。また、洗浄槽内の洗浄液を常時も
しくは間歇的に循環するためのポンプ７ｂが洗浄液循環
経路（配管）４ｃに接続されており、この洗浄液循環経
路（配管）４ｃの途中には洗浄液の再生処理装置となる
エマルジョン分解槽１１及び界面活性剤濃度調整槽１５
が設けられている。

【００４０】エマルジョン分解槽１１内には二対のＴｉ
板よりなる電極１２、１２’が設置されており、高周波
電源１３より高周波が印加されている。これらの電極材
質としては、Ｔｉ板の他にＰｔ板やＰｔめっきを施した
Ｔｉ板、ＳＵＳ（ステンレス鋼）板などを用いることが
できる。上記電極１２、１２’へ印加する高周波は、１
０ｋＨｚ以上、好ましくは２０〜１００ｋＨｚであり、
ここでは５０ｋＨｚを印加した。この高周波通電により
エマルジョン分解槽１１では、洗浄液中に懸濁する乳化
物が油と界面活性剤とに分解される。

【００４１】また、エマルジョン分解槽１１の上部に
は、界面活性剤とエマルジョンを生成していた油分が、
エマルジョンの分解により浮上してきたものを除去する
ためのオイルスキマー１４が設けられている。なお、油
分の除去にはこのオイルスキマー１４の代わりに、例え
ば上澄をオーバーフローして除去する、濾紙状のもので
吸着除去するなど、その他の分離除去する構成としても
よい。このエマルジョン分解槽１１によって浄化再生さ
れた洗浄液は、界面活性剤濃度調整槽１５を経て洗浄槽
４に戻され、繰り返し循環使用される。界面活性剤濃度
調整槽１５は、洗浄液中の界面活性剤の濃度を管理維持
する機能を有しており、洗浄に適した特定濃度に常時調
整、維持できるようになっている。

【００４２】（２）被洗浄試料の洗浄例以上のように構成された洗浄装置を用いて、プレス加工
後の金属部品を被洗浄試料として下記の手順にしたがっ
て洗浄を行なった。被洗浄部品の搬送かご２に洗浄用の
金属部品を入れ、それを先ず、水洗槽３内に５分間浸漬
した。水洗槽内の水は、ヒーター５ａにより６０℃に加
温されており、さらに超音波発振器６ａより４０ｋＨｚ
の超音波が照射されているため、水洗槽内に５分間浸漬
する間に、金属加工部品に付着していた加工油の５０〜
８０％は金属部品から脱離して洗浄水中に分散した。

【００４３】このように界面活性剤が添加されていない
洗浄水中に分散した状態の油分粒子は不安定で、洗浄部
品に再付着し易いため、油水分離槽８内で油分の分離除
去を行ない、繰り返し使用した。即ち、水洗槽３内の洗
浄水を循環経路３ｃを通してポンプ７ａを用いて毎分
０．５リットルの流速で油水分離槽８を通して循環させ
たが、洗浄水には界面活性剤が含まれていないために、
洗浄水中に分散している加工油は水と分離し易く、油水
分離槽８内の仕切り板の間を移動している２〜３時間の
間に油分は容易に浮上した。浮上油は、定期的に油分取
り出し口１０からオーバーフローさせて排出した。

【００４４】次に、水洗槽３内で５分間洗浄後、洗浄部
品（金属加工部品）を収容した搬送かご２を搬送装置１
により洗浄槽４に送り、１０分間洗浄を行なった。洗浄
槽４の洗浄液としては非イオン系界面活性剤の１０％溶
液を用い、ヒーター５ｂを用いて５５℃に加温し、さら
に超音波発振器６ｂより４０ｋＨｚの超音波照射を行な
った。これにより、水洗槽３内での洗浄において除去さ
れずに金属加工部品に残留していた付着油は、界面活性
剤洗浄液で完全に洗浄された。

【００４５】界面活性剤洗浄液中に溶出した油分の大半
は、界面活性剤と乳化物（エマルジョン）を形成し、比
較的安定に存在しているが、洗浄液内の油分濃度が高く
なるに従って洗浄部品への油分の再付着が起こるため、
エマルジョン分解槽１１を通して油分を分離除去し、繰
り返し使用した。

【００４６】エマルジョン分解槽内の電極１２、１２’
には、高周波電源１３より５０ｋＨｚの高周波を印加し
た。上記エマルジョン粒子は負に帯電しており、高周波
の印加に伴い細かい振動を起こしてエマルジョンの分解
が生じ、油分は比重が小さいので浮上した。浮上油は、
オイルスキマー１４で定期的に除去し、下層の界面活性
剤洗浄液は洗浄槽４に戻して繰り返し使用した。

【００４７】なお、界面活性剤洗浄液の濃度は、水洗槽
３からの水の持込み、ヒーター５ａによる加熱に伴う蒸
発、オイルスキマー１４による油分除去時に界面活性剤
が一部同伴除去されることなどから濃度変化を起こすた
め、一定期間ごとに界面活性剤濃度調整槽１５内で界面
活性剤濃度を所定濃度に調整した。

【００４８】上記方法でプレス加工後の電子銃用金属部
品の洗浄を行なった結果、１部品当り平均０．２ｍｇ付
着していた油分を０．００１ｍｇ以下にまで洗浄するこ
とができた。また、界面活性剤洗浄槽４の前工程に水洗
槽３を設け、更に界面活性剤洗浄槽４に洗浄液の再生処
理装置となるエマルジョン分解槽１１を設けて油分の分
離除去を行なったことにより、界面活性剤洗浄液の使用
液寿命を５倍に延ばすことができ、また、界面活性剤の
使用量を１／３以下にすることができた。

【００４９】〈実施例２〉（１）洗浄装置の構成例図２は、他の実施例となる洗浄方法及び洗浄装置の概略
を示すブロック図である。この洗浄装置の構成上の特徴
は、実施例１の図１に示した洗浄装置の洗浄液循環経路
４ｃを分岐し、バルブ２０ａを介して廃液処理装置とし
て廃液分解槽２４を設けた点にあり、これによって洗浄
液が一定レベル以上汚染された場合、洗浄液の一部を循
環経路から取り出し、有機物を無公害の物質に分解処理
して廃棄することができるようにしたものである。

【００５０】上記分岐経路上には繰り返し使用後の界面
活性剤洗浄液を一時保管するための洗浄廃液貯槽２１、
洗浄廃液中の固形物などを除去するためのろ過器２２、
廃液分解槽２４及び洗浄廃液をろ過器２２を通して廃液
分解槽２４に送るためのポンプ７ｃが設けられている。
廃液分解槽２４の外周部には高圧水銀燈２６が設置され
ている。

【００５１】また、廃液分解槽２４内には、紫外線照射
下で廃液中の界面活性剤などの有機物を光触媒分解する
ための触媒床として二酸化チタン板２５が、一定間隔で
平行に設置されているが、高圧水銀燈２６から照射され
る紫外線の受光量を最大にするため、触媒床は上記高圧
水銀燈２６の照射光路に対して２０度の傾斜角度をなし
て設置されている。二酸化チタン板２５は、洗浄廃液と
の接触面積を大きく、かつ廃液の流通を良くするために
ハニカム状に成形されている。

【００５２】更に、光触媒による有機物の分解を促進す
る酸素を供給するために、空気送入ポンプ２３からの配
管が廃液分解槽２４の前段に接続されている。また廃液
分解槽２４には、分解処理後の廃液の排出口２７が設け
られている。

【００５３】なお、上記高圧水銀燈２６は、廃液分解槽
２４の内部に設置することもでき、その場合は照射効率
が更に向上する。また、二酸化チタン板２５の傾斜角度
は、二酸化チタン板の設置間隔が狭い場合は角度を小さ
く、間隔が広い場合は角度を大きくして、二酸化チタン
触媒床の全表面に高圧水銀燈から照射される紫外線が当
たるようにすることが望ましい。

【００５４】（２）被洗浄試料の洗浄例以上のように構成された洗浄装置を用いて実施例１と同
様な方法で、非イオン性界面活性剤１０％溶液を用いて
プレス加工後の金属部品の洗浄を繰り返し、１か月間行
なった後、使用後の界面活性剤洗浄液を洗浄廃液貯槽２
１に一時保管し、洗浄廃液の分解処理を下記のように行
なった。

【００５５】即ち、洗浄廃液貯槽２１内の廃液を、ポン
プ７ｃを用いて毎分１リットルの流速でろ過装置２２を
通って廃液分解槽２４に送った。空気送入ポンプ２３か
らは、毎分１０リットルの流速で空気を送って廃液中に
混合させ、同時に、高圧水銀燈２６を点燈して紫外線を
二酸化チタン板２５の表面に照射して酸化分解反応（光
分解触媒反応）を行なわせた。

【００５６】洗浄廃液中の界面活性剤など有機物は、廃
液分解槽２４内を通過する約２時間の間に酸化分解さ
れ、分解前約１０００ｐｐｍであったＢＯＤ濃度が分解
後には３０ｐｐｍにまで低下し、公共用水への排出が可
能となった。なお、ポンプ７ｃで洗浄廃液を廃液分解槽
２４に送入後、一時ポンプ７ｃを停止して洗浄廃液の分
解槽内での滞留時間を４時間にしたところ、分解後のＢ
ＯＤ濃度は１５ｐｐｍにまで低下した。

【００５７】なお、本実施例によれば、洗浄廃液中の界
面活性剤は炭酸ガス、水やアルコールなどの低分子有機
物にまで分解されるため、ろ過器２２で分離除去される
固形物以外の固形廃棄物は排出されず、従来の活性汚泥
法による分解に比べて廃棄物量を１／２０以下に低減す
ることができた。

【００５８】〈実施例３〉（１）洗浄装置の構成例図３は、廃液処理装置を備えた洗浄装置のさらに異なる
実施例を示したブロック図である。本実施例の洗浄装置
は、被洗浄試料を収容する搬送かご２を各槽に移動する
搬送装置１と、界面活性剤溶液による洗浄槽４と、洗浄
液の液切り槽２８と、すすぎ槽３０とを備えると共に、
さらに各槽から排出される廃液を処理する廃液処理装置
を備えて構成されている。

【００５９】図示のように、界面活性剤溶液による洗浄
槽４は、バルブ２０ａを介して洗浄廃液貯槽２１と接続
しており、すすぎ槽３０は、バルブ２０ｂを介して洗浄
廃液貯槽２１’と接続している。また、洗浄液液切り槽
２８の上方にはエアーブロー２９が設けられている。洗
浄廃液貯槽２１、２１’は、切り換えバルブ３１を介し
て図２に示した実施例２記載の廃液分解槽２４と同様の
構成を持つ光触媒分解法による洗浄廃液分解槽２４と接
続している。

【００６０】（２）被洗浄試料の洗浄例以上のように構成された洗浄装置を用いて、金属加工部
品の洗浄及び廃液処理を行なった。洗浄槽４で非イオン
性界面活性剤１０％溶液を用いて１０分間洗浄した後、
被洗浄部品を収容した搬送かご２を、搬送装置１によっ
て洗浄液の液切り槽２８に搬送した。

【００６１】液切り槽２８内では、洗浄部品及び搬送か
ご２に付着してすすぎ槽３０へ持ちこまれる界面活性剤
を低減するため、３分間のエアーブローをおこなった。
その後、さらに搬送かご２をすすぎ槽３０に搬送し、１
０分間のすすぎ洗浄を行った。

【００６２】１週間使用後の界面活性剤の洗浄液を洗浄
廃液貯槽２１に一次保管後、ポンプ７ｃを用いて毎分１
リットルの流速でろ過器２２から廃液処理装置となる廃
液分解槽２４へ送り、実施例２と同様の方法で光触媒分
解を行ったところ、ＢＯＤ濃度を３０ｐｐｍ以下にする
ことができ、公共用水への排出が可能となった。

【００６３】また、１日使用後のすすぎ水は、洗浄槽４
から排出される界面活性剤洗浄廃液とは別個に洗浄廃液
貯槽２１’に一次保管し、別途ポンプ７ｃを用いて廃液
分解槽２４へ送って光触媒分解を行った。高圧水銀燈２
６を点燈し、ポンプ２３を用いて毎分１０リットルの流
速で空気を送りながら廃液分解槽内に４時間滞留させる
方法で分解を行ったところ、分解処理前に７０ｐｐｍあ
ったＴＯＣ（全有機炭素）濃度を３ｐｐｍにまで低下す
ることができ、すすぎ水として再利用可能なレベルとな
った。

【００６４】〈実施例４〉（１）洗浄装置の構成例図４は、廃液処理装置を備えた洗浄装置のさらに異なる
実施例を示したブロック図である。本実施例の洗浄装置
は、水洗槽３と、界面活性剤溶液による洗浄槽４と、洗
浄液の液切り槽２８と、一次すすぎ槽３５と、カスケー
ド型の二次すすぎ槽３６、３６’と、水切り槽３７と、
熱風乾燥器３８と、これら各槽に被洗浄部品を収容した
搬送かご２を搬送する搬送装置１とを備えると共に、さ
らに各槽から排出される廃液を処理する廃液処理装置を
備えて構成されている。

【００６５】また、水洗槽３及び界面活性剤溶液による
洗浄槽４には、実施例１に記載した洗浄装置と同様の構
成の油水分離器８及びエマルジョン分解槽１１が接続さ
れている。

【００６６】また、二次すすぎ槽３６内のすすぎ水は、
ポンプ７ｄにより活性炭塔３９及びイオン交換樹脂塔４
０に送られた後、すすぎ槽３６’に戻され、すすぎ槽３
６’からのオーバーフロー水は、すすぎ槽３６に入る構
造となっている。

【００６７】洗浄槽４からの洗浄液廃棄用の配管が、洗
浄液循環経路４ｃの途中に設けられた分岐からバルブ２
０ａを介して洗浄廃液貯槽２１に接続されている。同様
に水洗槽３からも、洗浄水循環経路３ｃを分岐して、バ
ルブ２０ｅを介して洗浄廃液貯槽２１に廃液配管が接続
されている。一次すすぎ槽３５及び二次すすぎ槽３６の
すすぎ水循環経路からも、それぞれバルブ２０ｃ，２０
ｄを介して廃液配管が洗浄廃液貯槽２１に接続されてい
る。

【００６８】ポンプ７ｃは、実施例２の図２に示した構
成と同様に、洗浄廃液貯槽２１内の廃液を、ろ過器２２
を経て廃液分解槽２４へ送るためのポンプで、配管途中
には空気送入用ポンプ２３からの配管が接続されてい
る。

【００６９】廃液分解槽２４内には実施例２と同様に、
触媒床として二酸化チタン板２５が高圧水銀燈２６の光
路と２０度の傾斜角度をなして設置されている。さら
に、廃液分解槽２４の一方の側面は、ポリビニルアルコ
ール製のガス透過膜４１を介してガス分解槽４３と接し
ており、ガス分解槽４３内には廃液分解槽２４と同様に
触媒床として二酸化チタン板２５が同じく高圧水銀燈と
２０度の傾斜角度で設置されている。

【００７０】減圧ポンプ４２は、ガス分解槽４３内を減
圧状態にして、廃液分解槽２４内での光触媒分解反応に
より生成された低分子量の有機物をガス透過膜４１を通
してガス分解槽４３に移行させるものである。上述の低
分子量有機物の透過を効率よく行なうためには、ガス分
解槽４３の内圧は１０ｍｍＨｇ以下、好ましくは１ｍｍ
Ｈｇ以下とする。また、ポンプ４２のガス循環経路には
バルブ２０ｆが設けられており、上記バルブ２０ｆの開
放により、ガス分解槽４３内で分解処理後の廃ガスが排
気孔４４より外部に排出される。

【００７１】（２）被洗浄試料の洗浄例以上のように構成された洗浄装置を用いて、プレス加工
後の金属部品の洗浄を行なった。プレス加工後の金属部
品を搬送かご２に入れ、先ず、水洗槽３内に浸漬し、超
音波発信器６ａにより４０ｋＨｚの超音波を照射しつ
つ、６０℃で５分間温水洗浄を行った。

【００７２】次に搬送かご２を搬送装置１により洗浄槽
４に搬送し、非イオン性界面活性剤１０％溶液を用いて
１０分間、同じく超音波発信器６ｂにより４０ｋＨｚの
超音波を照射しつつ、５５℃で洗浄を行った。

【００７３】界面活性剤溶液による洗浄後、さらに搬送
かご２を液切り槽２８に送ってエアーブロー２９で洗浄
液を除去してから、一次すすぎ槽３５内で温水によるす
すぎ洗浄を５分間行った。一次すすぎ洗浄は、６０℃で
超音波発信器６ｃにより４０ｋＨｚの超音波を照射しつ
つ行った。

【００７４】更に、搬送かご２を二次すすぎ槽３６から
隣のすすぎ槽３６’へと搬送し、５分ずつ１０分間のす
すぎ洗浄を行なった後、水切り槽３７内でエアーブロー
２９’による水切りを行ない、最後に熱風乾燥器３８内
で１２０℃の熱風による乾燥をおこなった。二次すすぎ
槽３６内のすすぎ水は、ポンプ７ｄを用いて毎分１０リ
ットルの流速で活性炭塔３９及びイオン交換樹脂塔４０
に順次送り、すすぎ水中に溶解している低濃度の界面活
性剤及びイオン類を除去した後、二次すすぎ槽３６’に
循環させ、繰り返し使用した。

【００７５】水洗槽３内で使用の洗浄水は、一週間毎に
バルブ２０ｅを開いて洗浄廃液貯槽２１に送り一時保管
し、界面活性剤洗浄槽４内で使用の界面活性剤洗浄液は
１か月毎にバルブ２０ａを開いて洗浄廃液貯槽２１に送
って保管した。同様に、一次すすぎ槽３５内のすすぎ水
は、一週間毎にバルブ２０ｃを開いて洗浄廃液貯槽２１
に送って保管した。

【００７６】ポンプ７ｃを用いて廃液貯槽２１内に保管
中の廃液を、ろ過器２２を通して廃液分解槽２４に送っ
た後、ポンプ７ｃを３時間停止して廃液を廃液分解槽内
に滞留させ、その間高圧水銀燈２６から二酸化チタン板
２５に紫外線を照射して、界面活性剤などの有機物の分
解を行なった。

【００７７】なお、この光分解触媒反応による有機物の
分解を促進するため、配管の途中に接続した空気送入ポ
ンプ２３から毎分１０リットルの流速で廃液中に空気を
送入した。同時に減圧ポンプ４２を稼働させてガス分解
槽４３内の圧力を１ｍｍＨｇ以下とし、廃液分解槽２４
からガス拡散膜４１を通って移行してきた低分子有機物
を同じく紫外線照射下で二酸化チタン触媒上で酸化分解
し、より低分子の物質に分解した。このガス分解槽４３
内での光分解触媒反応は、循環経路４３ｃを通して低分
子有機物を循環させることにより繰り返し行なうことが
でき、有機物は最終的に主として水と炭酸ガスにまで分
解することができる。

【００７８】以上の洗浄工程により、プレス加工後の電
子銃用金属部品１個当りの油分付着量を１ｎｇにまで洗
浄することができた。また、界面活性剤溶液の洗浄後の
廃液処理工程においては、光触媒分解処理により、ＢＯ
Ｄ濃度を処理前の３５０ｐｐｍから２５ｐｐｍにまで低
減することができ、公共排水への放流が可能となった。
また、廃液処理により発生した廃棄物は、ろ過器２２か
ら排出された固形分が大半で、従来の活性汚泥処理によ
り発生する余剰汚泥量の１／２０以下であった。

【００７９】〈実施例５〉図２〜図４に示した実施例２
〜４の洗浄装置から、洗浄廃液貯槽２１〜洗浄廃液処理
装置となる廃液分解槽２４までを一つの装置として、そ
れぞれ独立させて洗浄廃液処理装置を構成した。これら
の洗浄廃液処理装置は、いずれも実施例２〜４の廃液処
理工程を施す装置部分と基本的に同一なので、装置構成
の図面と処理方法に関する記載は省略した。

【００８０】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明により所期
の目的を達成することができた。すなわち、本発明の洗
浄方法によれば、洗浄液となる界面活性剤溶液を浄化す
る再生処理工程を有していることから、汚れた洗浄液が
浄化され繰り返し長期にわたって使用できるため、結果
として界面活性剤の使用量を低減することが可能となっ
た。

【００８１】また、本発明の洗浄廃液処理方法によれ
ば、光分解触媒反応によって洗浄廃液中の有機物を分解
する工程を有していることから、廃液中の有機物は無公
害の低分子量成分にまで分解できるため環境にやさし
く、最終的な廃棄物量を大幅に削減できる。

【００８２】さらにまた、本発明の洗浄装置及び洗浄廃
液処理装置は、上記の洗浄方法及び洗浄廃液処理方法の
発明を、それぞれ容易に実施可能とするものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例となる洗浄方法及び洗浄装置
の概略を説明するブロック図。

【図２】同じく他の実施例となる洗浄廃液処理工程及び
洗浄廃液処理装置を備えた洗浄方法及び洗浄装置の概略
を説明するブロック図。

【図３】同じくさらに異なる洗浄廃液処理工程及び洗浄
廃液処理装置を備えた洗浄方法及び洗浄装置の概略を説
明するブロック図。

【図４】同じくさらに異なる洗浄廃液処理工程及び洗浄
廃液処理装置を備えた洗浄方法及び洗浄装置の概略を説
明するブロック図。

【符号の説明】

１…搬送装置、２…搬送かご、３…水洗槽（水洗浄用）、４…洗浄槽（界面活性剤洗浄用）、５ａ〜５ｄ…ヒーター、６ａ〜６ｄ…超音波発振器、７ａ〜７ｃ…ポンプ、８…油水分離器、９…仕切り板、１０…油分取り出し口、１１…エマルジョン分解槽、１２、１２’…電極、１３…高周波電源、１４…オイルスキマー、１５…界面活性剤濃度調整槽、２０ａ〜２０ｆ…バルブ、２１…洗浄廃液貯槽、２２…ろ過器、２３…空気送入ポンプ、２４…廃液分解槽、２５…二酸化チタン板、２６…高圧水銀燈、２７…排水排出口、２８…洗浄液の液切り槽、２９…エアーブロー、３０…すすぎ槽、３１…切り換えバルブ、３５…一次すすぎ槽、３６、３６’…二次すすぎ槽、３７…水きり槽、３８…熱風乾燥器、３９…活性炭塔、４０…イオン交換樹脂塔、４１…ガス透過膜、４２…減圧ポンプ、４３…ガス分解槽、４４…排気孔。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ０８Ｂ 3/14 2119−3ＢＢ０８Ｂ 3/14 Ｃ０２Ｆ 1/30 Ｃ０２Ｆ 1/30 1/463 1/46 １０２ 1/465

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも油分を有機汚染物質として付着
した被洗浄試料を水洗する工程と、水洗された試料を界
面活性剤溶液で洗浄する工程とを有して成る洗浄方法で
あって、前記界面活性剤溶液で洗浄する工程に洗浄液の
循環経路を設けると共に、前記循環経路内に、前記洗浄
液中の油と界面活性剤からなる乳化成分を高周波通電に
より界面活性剤と油分とに分解し、油分を経路外に分離
除去する洗浄液の再生処理工程を設けて成る洗浄方法。
【請求項２】上記水洗する工程及び水洗された試料を界
面活性剤溶液で洗浄する工程の少なくとも一方に超音波
照射下で洗浄する工程を付加して成る請求項１記載の洗
浄方法。
【請求項３】上記洗浄液の循環経路上に、洗浄液の一部
を廃液として排出する経路を分岐し、排出された洗浄廃
液に酸素を吹き込み、それを光照射下で半導体触媒に接
触させることにより、光触媒分解反応を起こさせて廃液
中の有機物を分解処理する廃液処理工程を配設して成る
請求項１記載の洗浄方法。
【請求項４】少なくとも油分を有機汚染物質として付着
した被洗浄試料を水洗する工程と、水洗された試料を界
面活性剤溶液で洗浄する工程とを有して成る洗浄方法で
あって、前記界面活性剤溶液で洗浄する工程に、洗浄液
の一部を廃液として排出する経路を分岐し、排出された
洗浄廃液に酸素を吹き込み、それを光照射下で半導体触
媒に接触させることにより、光触媒分解反応を起こさせ
て廃液中の有機物を分解処理する廃液処理工程を配設加
して成る洗浄方法。
【請求項５】上記廃液処理工程において分解生成した有
機物の揮発性成分と廃液とを、ガス透過膜で分離し、分
離された揮発性成分を再び光照射下で半導体触媒に接触
させることにより光触媒分解反応を起こさせて、さらに
低分子量成分に分解処理する工程を配設し、廃液中の有
機物を最終的に主として水と炭酸ガスとに分解して逐次
大気中に気化させるようにして成る請求項３もしくは４
記載の洗浄方法。
【請求項６】上記光照射を紫外光もしくは可視光照射と
し、半導体触媒を二酸化チタン及び酸化亜鉛の少なくと
も１種、もしくはこれら半導体に貴金属を坦持させた半
導体触媒で構成して光触媒分解反応を起こさせるように
して成る請求項２乃至５のいずれか一つに記載の洗浄方
法。
【請求項７】有機性汚染物質として油もしくは油と界面
活性剤よりなる乳化物を含む洗浄廃液を、酸素が存在す
る光照射下で半導体触媒に接触させることにより、光触
媒分解反応を起こさせて廃液中の有機物を分解処理する
工程を有して成る洗浄廃液処理方法。
【請求項８】上記廃液中の有機物を分解処理する工程に
おいて分解生成した有機物の揮発性成分と廃液とを、ガ
ス透過膜で分離し、分離された揮発性成分を、再び酸素
が存在する光照射下で半導体触媒に接触させることによ
り光触媒分解反応を起こさせて、さらに低分子量成分に
分解処理する工程を配設し、廃液中の有機物を最終的に
主として水と炭酸ガスとに分解して逐次大気中に気化さ
せるようにして成る請求項７記載の洗浄廃液処理方法。
【請求項９】上記光照射を紫外光もしくは可視光照射と
し、半導体触媒を二酸化チタン及び酸化亜鉛の少なくと
も１種、もしくはこれら半導体に貴金属を坦持させた半
導体触媒で構成して光触媒分解反応を起こさせるように
して成る請求項７もしくは８記載の洗浄廃液処理方法。
【請求項１０】少なくとも油分を有機汚染物質として付
着した被洗浄試料を水洗する水洗槽と、水洗された試料
を界面活性剤溶液で洗浄する洗浄槽と、被洗浄試料を水
洗槽から洗浄槽に搬送する試料搬送装置とを備える洗浄
装置であって、前記洗浄槽には、洗浄液の循環経路を備
え、前記洗浄液の循環経路上には、油と界面活性剤から
なる乳化物を含む洗浄液を高周波通電により界面活性剤
と油分とに分解し、油分を洗浄液の循環経路外に分離、
除去する洗浄液の再生処理装置を備えて成る洗浄装置。
【請求項１１】上記水洗槽及び洗浄槽の少なくとも一方
に超音波照射手段を配設して成る請求項１０記載の洗浄
装置。
【請求項１２】上記洗浄槽の洗浄液の循環経路上に、洗
浄液の一部を廃液として排出する分岐経路を設けると共
に、前記分岐経路に光触媒分解反応を起こさせ廃液中の
有機物を低分子量の物質に分解処理する廃液処理装置を
設け、前記廃液処理装置を洗浄廃液に酸素を吹き込む手
段と、酸素が吹き込まれた廃液を光照射下で半導体触媒
に接触させる手段とで構成して成る請求項１０もしくは
１１記載の洗浄装置。
【請求項１３】少なくとも油分を有機汚染物質として付
着した被洗浄試料を水洗する水洗槽と、水洗された試料
を界面活性剤溶液で洗浄する洗浄槽と、被洗浄試料を水
洗槽から洗浄槽に搬送する試料搬送装置とを備える水洗
浄装置であって、前記洗浄槽に洗浄液の一部を廃液とし
て排出する経路を設けると共に、前記経路に光触媒分解
反応を起こさせ廃液中の有機物を低分子量の物質に分解
処理する廃液処理装置を設け、前記廃液処理装置を洗浄
廃液に酸素を吹き込む手段と、酸素が吹き込まれた廃液
を光照射下で半導体触媒に接触させる手段とで構成して
成る洗浄装置。
【請求項１４】上記廃液処理装置に隣接してガス透過膜
で分離された第２の光触媒分解反応を起こさせる手段を
配設し、前記廃液処理装置において分解生成した有機物
の揮発性成分と廃液とを前記ガス透過膜で分離すると共
に、分離された揮発性成分を光照射下で半導体触媒に接
触させる前記第２の光触媒分解反応を起こさせる手段に
よりさらに低分子量成分に分解処理し、廃液中の有機物
を最終的に主として水と炭酸ガスとに分解して逐次大気
中に気化させるようにして成る請求項１２もしくは１３
記載の洗浄装置。
【請求項１５】上記光照射下で半導体触媒に接触させる
手段における光照射を紫外光もしくは可視光照射とし、
半導体触媒を二酸化チタン及び酸化亜鉛の少なくとも１
種、もしくはこれら半導体に貴金属を坦持させた半導体
触媒で構成して成る請求項１２乃至１４のいずれか一つ
に記載の洗浄装置。
【請求項１６】有機性汚染物質として油もしくは油と界
面活性剤よりなる乳化物を含む洗浄廃液貯槽に、光触媒
分解反応を起こさせ廃液中の有機物を低分子量の物質に
分解処理する廃液処理装置を設け、前記廃液処理装置を
洗浄廃液に酸素を吹き込む手段と、酸素が吹き込まれた
廃液を光照射下で半導体触媒に接触させる手段とで構成
して成る洗浄廃液処理装置。
【請求項１７】上記廃液処理装置に隣接してガス透過膜
で分離された第２の光触媒分解反応を起こさせる手段を
配設し、前記廃液処理装置において分解生成した有機物
の揮発性成分と廃液とを前記ガス透過膜で分離すると共
に、分離された揮発性成分を光照射下で半導体触媒に接
触させる前記第２の光触媒分解反応を起こさせる手段に
よりさらに低分子量成分に分解処理し、廃液中の有機物
を最終的に主として水と炭酸ガスとに分解して逐次大気
中に気化させるようにして成る請求項１６記載の洗浄廃
液処理装置。
【請求項１８】上記光照射下で半導体触媒に接触させる
手段における光照射を紫外光もしくは可視光照射とし、
半導体触媒を二酸化チタン及び酸化亜鉛の少なくとも１
種、もしくはこれら半導体に貴金属を坦持させた半導体
触媒で構成して成る請求項１６もしくは１７記載の洗浄
廃液処理装置。