JP2015097733A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 第１開口および第２開口と、前記第１開口および前記第２開口を仕切る壁部と、を有する基板と、
   前記第１開口を塞ぐ第１振動膜と、
   前記第２開口を塞ぐ第２振動膜と、
   前記第１振動膜の前記基板とは反対側の面上に形成された第１圧電素子と、
   前記第２振動膜の前記基板とは反対側の面上に形成された第２圧電素子と、
   前記第１振動膜および前記第２振動膜に接するように前記第１開口内および前記第２開口内に配置される音響整合層と、
   を備えることを特徴とする超音波デバイス。
2. 請求項１に記載の超音波デバイスにおいて、前記第１開口は複数であって列状に配列され、前記第２開口は複数であって前記第１開口の配列に並列な列状に配列されることを特徴とする超音波デバイス。
3. 請求項１または２に記載の超音波デバイスにおいて、前記壁部は、前記基板の厚み方向に関して第１高さの第１壁部と、前記第１高さよりも高い第２高さの第２壁部とを有することを特徴とする超音波デバイス。
4. 請求項３に記載の超音波デバイスにおいて、前記第２壁部に接して前記音響整合層に結合される音響レンズをさらに備えることを特徴とする超音波デバイス。
5. 請求項４に記載の超音波デバイスにおいて、前記音響レンズと前記第１壁部との間には前記音響整合層が配置されることを特徴とする超音波デバイス。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の超音波デバイスにおいて、前記基板の厚み方向からの平面視において前記第１開口および前記第２開口を連続して囲み、前記基板の厚み方向に関して前記壁部よりも高い外枠を備えることを特徴とする超音波デバイス。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の超音波デバイスにおいて、前記第１振動膜は第１共振周波数を有し、前記第２振動膜は前記第１共振周波数とは相違する第２共振周波数を有することを特徴とする超音波デバイス。
8. 請求項７に記載の超音波デバイスにおいて、前記音響整合層は前記第１開口および前記第２開口で等しい厚みを有することを特徴とする超音波デバイス。
9. 請求項７に記載の超音波デバイスにおいて、前記音響整合層は前記第１開口および前記第２開口で異なる厚みを有することを特徴とする超音波デバイス。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の超音波デバイスと、前記超音波デバイスを支持する筐体とを備えることを特徴とするプローブ。
11. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の超音波デバイスと、前記超音波デバイスに接続されて、前記超音波デバイスの出力を処理する処理装置とを備えることを特徴とする電子機器。
12. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の超音波デバイスと、前記超音波デバイスの出力から生成される画像を表示する表示装置とを備えることを特徴とする超音波画像装置。
13. 第１面に膜材を有する基板の前記膜材の表面に第１圧電素子および第２圧電素子を形成する工程と、
    前記第１面の裏側の第２面から前記基板に、相互に壁部で仕切られる第１開口および第２開口を形成し、前記第１圧電素子を支持する第１振動膜、および、前記第２圧電素子を支持する第２振動膜を前記膜材に形成する工程と、
    前記第１開口および前記第２開口に音響整合層の素材の流動体を流し込む工程と、
    流し込まれた前記流動体に音響レンズを被せ、前記流動体を硬化させて前記音響レンズを接着する工程と、
    を備えることを特徴とする超音波デバイスの製造方法。
14. 請求項１３に記載の超音波デバイスの製造方法において、前記壁部は、前記基板の厚み方向に関して第１高さの第１壁部と、前記第１高さよりも高い第２高さの第２壁部とを有することを特徴とする超音波デバイスの製造方法。
15. 請求項１３または１４に記載の超音波デバイスの製造方法において、前記第１開口および前記第２開口の形成にあたって、前記膜材の平らな前記表面から第１膜厚の前記第１振動膜、および、第２膜厚の前記第２振動膜を形成することを特徴とする超音波デバイスの製造方法。