JP2015084353A - 圧粉磁心、その製造方法、該圧粉磁心を用いたインダクタンス素子および回転電機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る圧粉磁心は、Fe基アモルファス金属の粉末と樹脂バインダとを主体とし、温間成形してなる圧粉磁心であって、前記Fe基アモルファス金属の結晶化温度Tx(K)と前記樹脂バインダの融点Tm(K)との関係がTm/Tx ≧0.70であり、前記Fe基アモルファス金属粉末は、前記温間成形において塑性変形されており、その占積率が80%超99%以下であることを特徴とする。
【選択図】図5
Description
球体の充填率は、該球体が変形しない真球である場合、球径分布を最適に制御したとしても理論的に78%程度が上限とされている。圧粉磁心においてアモルファス金属の占積率(相対密度)を高めるためには、原理的にアモルファス金属粒子自体を塑性変形させてアモルファス金属粒子の充填率(占積率)を高めることが望ましい。
(i)前記Fe基アモルファス金属の結晶化温度Txが823 K以下であり、前記樹脂バインダの融点Tmが533 K以上である。
(ii)前記Fe基アモルファス金属は、Fe-Si-B(鉄−ケイ素−ホウ素)系アモルファス金属であり、前記樹脂バインダは、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイドおよびポリアミド66のいずれかである。
(iii)前記インダクタンス素子は、リアクトルまたはチョークコイルである。
(iv)前記圧粉磁心は、ステータコアおよび/またはロータコアである。
(v)前記Fe基アモルファス金属は、Fe-Si-B系アモルファス金属であり、前記樹脂バインダは、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイドおよびポリアミド66のいずれかである。
(vi)前記温間成形工程および/または前記歪み緩和熱処理工程における加熱がマイクロ波加熱によってなされる。
上述したように、本発明に係る圧粉磁心は、Fe基アモルファス金属の結晶化温度Tx(K)と樹脂バインダの融点Tm(K)との関係が「Tm/Tx ≧0.70」となるように、Fe基アモルファス金属および樹脂バインダを選択する。なお、本発明において、アモルファス金属は「金属ガラス」と表現されるアモルファス材料を含むものと定義する。
前述した本発明に係る圧粉磁心を利用することによって、従来よりも小型化・高効率化が可能なインダクタンス素子や回転電機を提供することができる。図1は、本発明に係るインダクタンス素子の一例(チョークコイル)を示す斜視模式図である。図2は、本発明に係るインダクタンス素子の他の一例(リアクトル)を示す斜視模式図である。
(圧粉磁心の作製)
Fe基アモルファス金属の粉末として、Metglas, Inc. 製の2605HB1アモルファスリボン相当の組成を有し水アトマイズ法で作製したFe-Si-B系アモルファス金属粉末(結晶化温度Tx=739 K)を用意した。該アモルファス金属粉末をふるいにより分級し、粒径100μm以下の粉末を実験に供した。次に、樹脂バインダとしてポリエーテルエーテルケトン(PEEK、融点Tm=613 K)を用意し、10体積%となるようにアモルファス金属粉末に加え、ラボプラストミル装置(ブラベンダー社製、型式:W50EHT)で混練を行った。得られた混練粉(混練によって凝集している)を乳鉢で解砕し、平均サイズ0.5 mm以下の粒とした。
(1)Fe基アモルファス金属の占積率の評価
作製した圧粉磁心の断面組織を走査型電子顕微鏡(SEM、株式会社日立製作所製、型式:S-2380N)で観察し、Fe基アモルファス金属の占積率を算出した。Fe基アモルファス金属の占積率の算出には、以下の式を用いた。結果を後述する表1に示す。
「Fe基アモルファス金属の占積率(%)=(視野に占めるFe基アモルファス金属の面積)/(視野の面積)×100」
なお、「視野の面積」は、顕微鏡(例えば、走査型電子顕微鏡や光学顕微鏡)の1視野の観察像の全面積であり、Fe基アモルファス金属の粒子が100〜300個程度含まれる面積(拡大倍率としては200〜500倍程度)に調整されることが望ましい。また、「Fe基アモルファス金属の面積」は、例えば、当該観察像を画像解析することにより求めることができる。
作製した圧粉磁心の機械的強度を評価した。本発明では、機械的強度の指標として圧環強さを測定した。圧環強さの測定は、焼結軸受−圧環強さ試験法(JIS Z 2507)に準じて行った。圧環強さは「K=F(D-e)/(L・e2)」で与えられる。Kは圧環強さ(単位:MPa)、Fは破壊した時の最大荷重(単位:N)、Lは円環ペレットの厚さ(単位:mm)、Dは円環ペレットの外径(単位:mm)、eは円環ペレットの外径/内径差(単位:mm)である。結果を後述する表1に併記する。
作製した圧粉磁心の磁気特性を評価した。本実験では、磁気特性の指標として、一定の外部磁場を印加したときの磁束密度を測定した。磁束密度の測定は、試料振動型磁力計(VSM)を用いて行い、印加磁界10000 Oe(約795800 A/m)における磁束密度を「B100」(単位:T)と表した。結果を後述する表1に併記する。
(圧粉磁心の作製)
Fe基アモルファス金属の粉末として、2605HB1アモルファスリボン相当の組成を有し水アトマイズ法で作製したFe-Si-B系アモルファス金属粉末(結晶化温度Tx=739 K)及びKUAMET(登録商標、エプソンアトミックス株式会社製、結晶化温度Tx=813 K)を用意した。該アモルファス金属粉末をふるいにより分級し、粒径100μm以下の粉末を実験に供した。樹脂バインダとして、PEEK(融点Tm=613 K)、ポリフェニレンサルファイド(PPS、融点Tm=563 K)及びポリアミド66(PA66、融点Tm=538 K)を用意した。それら以外は実験1と同様にして圧粉磁心を作製した。
作製した実験2の圧粉磁心に対して、実験1と同様に、Fe基アモルファス金属の占積率の評価および機械的強度の評価を行った。磁気特性の評価については、本実験では鉄損を測定した。鉄損の測定は、B-Hアナライザ(岩通計測株式会社製)を用いて行い、0.1 T中、10 kHzにおける鉄損を「W1/10k」(単位:kW/m3)と表した。結果を表2に併記する。
(圧粉磁心の作製)
Fe基アモルファス金属粉末の粒度分布が二峰分布となるように、2605HB1アモルファスリボンの粉砕粉末(平均粒径100μm、75質量%)とAW2-08(エプソンアトミックス株式会社製、結晶化温度Tx=813 K、平均粒径6μm、25質量%)とを混合した。樹脂バインダとしてPEEKを用い0.5〜16体積%となるように、該混合粉末に添加した。温間成形工程における成形温度は673 Kとした。それら以外は実験1と同様にして圧粉磁心を作製した。
作製した実験3の圧粉磁心に対して、実施例1と同様に、Fe基アモルファス金属の占積率の評価および機械的強度の評価を行った。磁気特性の評価については、本実験では磁束密度評価および鉄損評価の両方を行った。結果を表3に併記する。
本実験では、温間成形工程後の歪み緩和熱処理の方法として、マイクロ波加熱を利用した実験・評価を行った。加熱装置には2.45 GHzのシングルモード炉を用い、磁場中で圧粉磁心の加熱を行った。マイクロ波の初期出力は0.7 kWとし、 Fe基アモルファス金属として2605HB1相当組成の水アトマイズ粉末を用いた圧粉磁心の目標温度は673 K、KUAMET(登録商標)を用いた圧粉磁心の目標温度は698 Kとした。保持時間は20分間とした。温度の測定は、放射温度計(株式会社チノー社製、型式:IR-CAI)を用いて行った。
20…リアクトル、21…圧粉磁心、22…ストレート部材、23…U字部材。
Claims (10)
- Fe基アモルファス金属の粉末と樹脂バインダとを主体とし、温間成形してなる圧粉磁心であって、
前記Fe基アモルファス金属の結晶化温度Tx(K)と前記樹脂バインダの融点Tm(K)との関係がTm/Tx ≧0.70であり、
前記Fe基アモルファス金属粉末は、前記温間成形において塑性変形されており、その占積率が80%超99%以下であることを特徴とする圧粉磁心。 - 請求項1に記載の圧粉磁心において、
前記Fe基アモルファス金属の結晶化温度Txが823 K以下であり、
前記樹脂バインダの融点Tmが533 K以上であることを特徴とする圧粉磁心。 - 請求項1又は請求項2に記載の圧粉磁心において、
前記Fe基アモルファス金属は、Fe-Si-B系アモルファス金属であり、
前記樹脂バインダは、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイドおよびポリアミド66のいずれかであることを特徴とする圧粉磁心。 - 圧粉磁心を用いたインダクタンス素子であって、
前記圧粉磁心の少なくとも一部が、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の圧粉磁心であることを特徴とするインダクタンス素子。 - 請求項4に記載のインダクタンス素子において、
前記インダクタンス素子は、リアクトルまたはチョークコイルであることを特徴とするインダクタンス素子。 - 圧粉磁心を用いた回転電機であって、
前記圧粉磁心の少なくとも一部が、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の圧粉磁心であることを特徴とする回転電機。 - 請求項6に記載の回転電機において、
前記圧粉磁心は、ステータコアおよび/またはロータコアであることを特徴とする回転電機。 - Fe基アモルファス金属の粉末と樹脂バインダとを主体とする圧粉磁心の製造方法であって、
前記Fe基アモルファス金属粉末の粒子表面上に前記樹脂バインダを被覆する樹脂被覆工程と、
前記樹脂バインダが被覆された前記Fe基アモルファス金属粉末に対して所定の温度・圧力で成形体を形成する温間成形工程と、
前記成形体における前記Fe基アモルファス金属粉末に蓄積した歪みを緩和する歪み緩和熱処理工程とを有し、
前記Fe基アモルファス金属の結晶化温度Tx(K)と前記樹脂バインダの融点Tm(K)との関係がTm/Tx ≧0.70であり、
前記温間成形工程における前記所定の温度が前記結晶化温度の0.75超0.95以下であり、前記所定の圧力が500 MPa以上1000 MPa以下であり、
前記成形体における前記Fe基アモルファス金属粉末の占積率が80%超99%以下であることを特徴とする圧粉磁心の製造方法。 - 請求項8に記載の圧粉磁心の製造方法において、
前記Fe基アモルファス金属は、Fe-Si-B系アモルファス金属であり、
前記樹脂バインダは、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイドおよびポリアミド66のいずれかであることを特徴とする圧粉磁心の製造方法。 - 請求項8又は請求項9に記載の圧粉磁心の製造方法において、
前記温間成形工程および/または前記歪み緩和熱処理工程における加熱がマイクロ波加熱によってなされることを特徴とする圧粉磁心の製造方法。
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