JP2015071258A - アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法 - Google Patents

アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2015071258A
JP2015071258A JP2013208186A JP2013208186A JP2015071258A JP 2015071258 A JP2015071258 A JP 2015071258A JP 2013208186 A JP2013208186 A JP 2013208186A JP 2013208186 A JP2013208186 A JP 2013208186A JP 2015071258 A JP2015071258 A JP 2015071258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum
resin
metal
laser
nanoporous layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013208186A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5916678B2 (ja
Inventor
金 容薫
Yokun Kin
容薫 金
小泉 正治
Masaharu Koizumi
正治 小泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP2013208186A priority Critical patent/JP5916678B2/ja
Priority to CN201480053317.XA priority patent/CN105579229B/zh
Priority to EP14851072.0A priority patent/EP3053737A4/en
Priority to PCT/JP2014/076303 priority patent/WO2015050166A1/ja
Publication of JP2015071258A publication Critical patent/JP2015071258A/ja
Priority to US15/084,907 priority patent/US11114216B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5916678B2 publication Critical patent/JP5916678B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B7/00Insulated conductors or cables characterised by their form
    • H01B7/02Disposition of insulation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C21/00Alloys based on aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/04Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/303Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups H01B3/38 or H01B3/302
    • H01B3/306Polyimides or polyesterimides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/308Wires with resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B7/00Insulated conductors or cables characterised by their form
    • H01B7/0009Details relating to the conductive cores
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B7/00Insulated conductors or cables characterised by their form
    • H01B7/08Flat or ribbon cables

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

【課題】樹脂とアルミニウムの複合体に関し、金属と樹脂間の密着特性に優れ、かつ電線製造工程などの連続製造工程に対応可能なアルミニウムと樹脂との複合体などを提供する。
【解決手段】アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属3と、金属3の表面に形成されたアルミナナノポーラス層5を介して金属3と接合する樹脂7と、を有することを特徴とするアルミニウム・樹脂複合体を用いる。アルミナナノポーラス層5は、平均粒径5〜100nmのアルミナナノ粒子を含み、3次元的に連通する孔を有することを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、電子機器、家電機器、車両用部品、車両搭載用品等に用いる樹脂とアルミニウムの複合体に関し、金属と樹脂間の密着特性に優れ、かつ電線製造工程などの連続製造工程に対応可能なアルミニウムと樹脂との複合体の製造方法、及びそれを用いた絶縁電線及びフラットケーブルに関するものである。
近年、将来の銅価の高騰リスク回避と資源調達の容易性、及び特に車載向けに軽量化を目的とし、従来の銅の代わりにアルミニウムを導体として使うニーズが高まっている中、アルミニウムと樹脂との低い密着力が大きな課題になっている。すなわち、アルミニウムと樹脂との密着力が低いため、樹脂で被覆したアルミニウム線を巻きつけるために張力を印加した際に、アルミニウムと樹脂の界面破壊が発生し、樹脂の絶縁被膜が剥離する。絶縁被膜が剥離しないように巻きつけるためには、低速かつ低い張力で巻きつける必要があり、巻きつけの密度が低くなるという問題が生じていた。
従来、アルミニウムと樹脂との密着改善法としてアンモニアやヒドラジンにアルミニウムを浸漬してからポリブチレンテレフタレート樹脂などの熱可塑性樹脂を射出成形によって金属と接触させる方法(特許文献1)が提案されているが、この方法は、熱可塑性樹脂に制限され、又、射出成形による金属と樹脂との接触法に制限される。そのため、金属表面上に溶液をコートし、その後の焼付け工程によって形成されるポリアミドイミド、ポリイミド等熱硬化性樹脂被膜に対しては、アルミニウムとの十分な密着特性の改善が期待できない。更に、アンモニア水溶液は強アルカリであり、ヒドラジンは発ガン性物質であるため、環境への負荷が大きく、より環境にやさしい工程の開発が要求されている。
また、樹脂とアルミニウム合金との密着改善方法としてアルミニウム表面をエポキシ基、アミノ基など官能基を有するシランカップリング剤で処理し、フェノール樹脂を接触させる方法(特許文献2)が提案されているが、アルミニウム表面は疎水性であるためにシランカップリング剤水溶液のぬれ性は悪く、そのため、密着改善の効果のあるシランカップリング剤の本来特性を十分引き出すことはできなかった。
また、アルミニウムと樹脂との密着改善方法として、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂(PPS)、ナイロン樹脂等熱可塑性樹脂に対し、アルミニウム表面上に金属化合物被膜を形成させた後、トリアジンチオール誘導体を使い、アルミニウム表面処理を行う方法(特許文献3)が提案されている。しかしながら、この方法においては、金属化合物被膜形成のための15分間の処理時間、更にトリアジンチオール誘導体処理のための液浸漬と熱処理工程で50分間の長時間処理が必要とされ、絶縁電線、又は金属条などの製造に必要とされる連続処理工程には対応できず、バッチ製造工程のみに制限され、生産性が非常に劣っていた。
これらの点から電子機器、家電機器、車両用部品、車両搭載用品等に用いるポリアミドイミド、ポリイミド等熱硬化性絶縁材料とアルミニウムとの高密着な密着改善法、又は電線、金属条製造工程などの連続工程に対応可能な密着改善法の開発が要求されている。
また、金属部品と熱可塑性樹脂製部品との密着性を向上させるために、レーザで金属表面に、隣り合う粗面の間隔が250μm以下であり、粗面を形成する凹凸の深さが10μm以上50μm以下であるように加工を施す方法が開示されている(特許文献4)。しかしながら、熱可塑性樹脂に代えて熱硬化性樹脂を用いる場合、製造工程に熱処理を含むため、金属表面の凹凸が深くなると、液状の熱硬化性樹脂が金属表面にコートされた際に凹凸内の空気が十分抜けずに、その結果、焼付け熱処理の際に多数の気泡が発生する原因となる。
国際公開第03/064150号 特開2009−126126号公報 特開2011−052292号公報 特開2013−111881号公報
本発明では、ポリアミドイミド、ポリイミド等熱硬化性絶縁材料とアルミニウムとの高密着な密着改善法を提供し、電子機器、家電機器、車両用部品、車両搭載用品等に用いる樹脂とアルミニウムとの複合体に関し、金属と樹脂間の密着特性に優れ、かつ電線製造工程などの連続製造工程に対応可能なアルミニウムと樹脂との複合体及びそれを用いた絶縁電線及びフラットケーブルを提供することを目的とする。
前述した目的を達成するために、以下の発明を提供する。
(1)アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属と、前記金属の表面に形成されたアルミナナノポーラス層を介して前記金属と接合する樹脂と、を有することを特徴とするアルミニウム・樹脂複合体。
(2)前記アルミナナノポーラス層は、平均粒径5〜100nmのアルミナナノ粒子を含み、3次元的に連通する孔を有することを特徴とする(1)に記載のアルミニウム・樹脂複合体。
(3)前記樹脂が、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミドヒダントイン変性ポリエステル、ホルマール、ポリウレタン、ポリエステル、ポリビニルホルマール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリヒダントインからなる群より選ばれる少なくとも一つを含む熱硬化性樹脂であることを特徴とする(1)または(2)に記載のアルミニウム・樹脂複合体。
(4)前記金属と前記樹脂との界面において、前記金属の十点平均粗さRzが20μm以下であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のアルミニウム・樹脂複合体。
(5)アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属線と、前記金属線の表面に形成されたアルミナナノポーラス層を介して前記金属線を被覆する絶縁被膜と、を有することを特徴とするアルミニウム絶縁電線。
(6)アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導体と、前記導体の表面に形成されたアルミナナノポーラス層を介して前記導体を両側から挟む樹脂層と、を有することを特徴とするフラットケーブル。
(7)アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属の表面に、レーザを照射してアルミナナノポーラス層を形成する工程と、前記アルミナナノポーラス層の上に樹脂を形成する工程と、を有することを特徴とするアルミニウム・樹脂複合体の製造方法。
(8)アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属線の表面に、レーザを照射してアルミナナノポーラス層を形成する工程と、前記アルミナナノポーラス層を介して前記金属線の上に絶縁被膜を形成する工程と、を有することを特徴とするアルミニウム絶縁電線の製造方法。
(9)アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導体の表面に、レーザを照射してアルミナナノポーラス層を形成する工程と、前記アルミナナノポーラス層を介して前記導体に樹脂層を形成する工程と、を有することを特徴とするフラットケーブルの製造方法。
本発明では、アルミニウムと樹脂との複合体に関し、金属と樹脂間の密着特性を高め、かつ電線製造工程などの連続製造工程に対応可能なアルミニウムと樹脂との複合体を提供する共に、これを用いた複合絶縁電線及びフラットケーブルと、これらの製造方法を提供することができる。
本発明の実施形態に係るアルミニウム・樹脂複合体を示す断面図。 本発明の実施形態に係るアルミニウム・樹脂複合体の製造工程を示すフローチャート。 本発明の実施形態に係るアルミニウム絶縁電線11を示す断面図。 本発明の実施形態に係るフラットケーブル21を示す断面図。 図4中のA部分の拡大図。 実施例12〜14において、金属表面の一部にレーザ加工を行う場合のビームスポットの位置を説明する図。 (a)実施例1に係るレーザ表面処理後のアルミニウムの表面の走査型電子顕微鏡写真、(b)その拡大図。 アルミニウム金属・ポリアミドイミド樹脂の界面の断面写真。
以下、本発明の実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示すように、アルミニウム・樹脂複合体1は、金属3と、金属3表面に設けられたアルミナナノポーラス層5上に設けられた樹脂7を有する。金属3は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。また、アルミナナノポーラス層5は、アルミナナノ粒子を含むアルミナナノポーラス層である。また、樹脂7としては、絶縁性を有する樹脂であり、更に、使用目的により、熱硬化性を有する樹脂が好ましい。アルミニウム・樹脂複合体1は、図2に示すように、主に、洗浄処理101、レーザ表面処理102、樹脂形成103の3つの工程で形成される。以下に各々の工程について説明する。
<洗浄処理>
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属3の表面は、製造工程で生じる偏析、酸化被膜により不均一となったり、加工成形時に使用した圧延油、切削油、プレス油などが付着したり、あるいは搬送時に、錆の発生、指紋の付着等などで汚れる場合がある。このため、金属3の表面の状態によっては適切な洗浄方法を用いて洗浄処理を行うのが好ましい。ただし、次工程となるアルミ表面のレーザ処理によって上記汚染物は除去できる点からレーザ処理前の金属表面の洗浄処理は、省略可能なものと判断される。
洗浄方法には、研削、バフ研磨、ショットブラストなどの物理的方法、例えばアルカリ性の脱脂液中で電解処理を行い、発生する水素や酸素を利用して洗浄を行う電気化学的方法、アルカリ性の溶剤(洗浄剤)による化学的方法、その後、中和処理として酸性液による後処理を行うことが好ましい。更にUV−オゾン処理、プラズマ処理等乾式法を用いることもできる。
<レーザ表面処理>
本発明で用いるレーザによる金属表面処理は、レーザアブレーション技術をベースとする。レーザアブレーションとはレーザ光を固体に照射した場合、レーザ光の照射強度がある大きさ(しきい値)以上になると、固体表面で、電子、熱的、光化学的、および力学(機械)的エネルギーに変換され、その結果、中性原子、分子、正負のイオン、ラジカル、クラスター、電子、光(光子)が爆発的に放出され、固体の表面がエッチングされるプロセスのことである。具体的にはレーザ光を金属表面に照射すると、固体に吸収され、様々な素過程を経て自由電子やイオンや原子などが放出される。放出された粒子がレーザ光を吸収して高温のプラズマが生成され、固体から多量の粒子が放出される。これら粒子群は、雰囲気が真空であれば自由膨張により飛散するし、ガス雰囲気中であれば衝突・反応を繰り返しながら膨張する。放出粒子の一部は、雰囲気ガスとの相互作用の結果アブレーションされた固体表面に再付着するが、この残滓はデブリ(debris)と呼ばれ、汚染物として固体表面の微細加工で大きな問題になっている(レーザアブレーションとその応用、電気学会レーザアブレーションとその産業応用調査専門委員会編、コロナ社、(1999)より引用)。
本発明では、従来レーザアブレーションの課題であった再付着粒子を使い、アルミニウム表面上にナノ粒子を含むナノポーラス層を形成させ、金属・樹脂間の密着性を著しく改善させることを特徴とする。
金属・樹脂との密着性向上のメカニズムは、以下のとおりと考えられる。レーザアブレーションの際に噴出されたナノ粒子が、表面に再付着し、その際にこれらナノ粒子を含むポーラス層が表面に形成される。その上に、液状の熱硬化性樹脂をコートするとナノポーラス層のナノ空間に樹脂が隙間なく入り込む。その後、樹脂の焼付けを行うと、ナノスケールの無数のアンカーが金属と樹脂との界面に形成されることで密着力が著しく向上するものと考えられる。
レーザ処理は、ナノ粒子を再付着しやすくするため、雰囲気の圧力を高めることが好ましく、そのため、大気中、又はアルゴン等密度の高いガス雰囲気中で行うことが好ましい。
<ナノポーラス層>
ナノ粒子の再付着によって金属表面上に形成されるナノポーラス層の厚さとしては、特に限定するものではないが、厚さが5nmから1000nmのナノポーラス層が挙げられ、更に厚さが10nmから500nmであることが好ましい。5nm以下の厚さでは本発明の効果を期待することができなく、1000nm以上の厚さのナノポーラス層を形成するには長時間のレーザ表面処理が必要とされ、連続処理工程が困難となるうえに、ナノポーラス層が1000nm以上に厚くなっても、アンカー効果が上昇することはないと考えられる。また、再付着するアルミナのナノ粒子の平均粒径は5〜100nm程度であり、10〜50nm程度であることが好ましい。ナノポーラス層は、平均粒径5〜100nmのアルミナナノ粒子で主に構成されるが、ナノポーラス層には平均粒径5〜100nmのアルミナナノ粒子以外の粒子が、不純物や副生成物などとして混入する可能性もある。ナノポーラス層を構成する粒子のうち粒子数で50%以上、好ましくは80%以上の粒子が、平均粒径5〜100nmのアルミナナノ粒子であることが好ましい。また、粒子は密に積層するわけではなく、空隙を持って付着するため、ナノポーラス層には3次元的に連通する孔が形成される。
レーザ表面処理のためのレーザ光としては特に限定するものではないが、レーザアブレーションに使われるエキシマレーザ、COレーザ等気体レーザ、YAG等の固体レーザ、ファイバーレーザが好ましく、更に短い時間幅の中にエネルギーを集中させることで高いピーク出力が得られる短パルス光を使うことが有効であることから固体レーザ、ファイバーレーザがより好ましい。短パルス光としてはナノ秒〜フェムト秒のパルス光を使うことが有効であり、更にピコ秒〜フェムト秒のパルス光を使うことがより有効である。
レーザ光を固体に照射した場合、粒子が放出されるためには、レーザ光の照射強度をある大きさ(しきい値)以上にする必要があり、そのパラメータとしてレーザ光強度(単位面積および単位時間当たりのエネルギー量)の制御が必要となり、例えば、10W/cm以上が好ましい。更にレーザ光強度を高めると、レーザ表面加工速度が速くなり、連続工程に好ましい点から、1010W/cm以上が好ましく、更に1011W/cm以上がより好ましい。
ただし、レーザ光強度が高すぎると、レーザアブレーションが過度に進行することでマクロスケールの金属表面凹凸が深くなり、特許文献4と同様に、金属表面に深さ10μm〜50μmの凹凸が形成されることとなる。凹凸が深くなると、液状の熱硬化性樹脂が金属表面にコートされた際に凹凸内の空気が十分抜けずに、その結果、焼付けの際に多数の気泡が発生する原因となる。
また、レーザのスキャン速度によって制御可能な面積当りの加工速度(mm/sec)は、遅くなると、レーザアブレーションの進行によって凹凸が大きくなること、更に連続加工工程が難しくなることから100mm/sec以上にすることが好ましく、更に1000mm/sec以上にすることがより好ましい。
また、レーザのスキャン方法としては、一定速度で走査して金属の全面にレーザを照射する方法以外にも、レーザの加工速度を高める目的で金属の一部箇所のみレーザを照射する方法も可能である。試料の一部のみレーザを照射する方法として、例えば、長手(X)方向と長手に対する垂直(Y)方向のいずれかの方向、又は図6のようにXとYとの両方向に一定間隔でレーザを照射することが挙げられる。レーザを金属表面に照射すると、ビームスポットの周辺箇所までナノ粒子は飛散し、ナノ粒子を含むナノポーラス層が形成されるので、金属の表面の一部箇所のみレーザを照射した場合でも密着改善効果が期待できる。
また、樹脂の粘度、樹脂コート後焼付けまでの放置時間などを考慮し、上記のレーザ光強度と加工速度を制御することで、例えば、凹凸レベル(十点平均粗さRz)を20μm以下、より好ましくは10μm以下、更に好ましくは5μm以下に凹凸を調整することが好ましい。本発明に係るレーザ表面処理がなされたアルミニウム材料は、凹凸が5μm以下でも表面上に形成されたナノポーラス層由来のナノアンカー効果によって熱硬化性樹脂と非常に高い密着性が得られることから、本発明は金属と熱硬化性樹脂との密着性の改善に非常に有効な方法と言える。また、前述のとおり、凹凸が大きすぎると、液状の熱硬化性樹脂が金属表面にコートされた際に凹凸内の空気が十分抜けずに、その結果、焼付けの際に多数の気泡が発生する原因となる。
レーザ加工によって形成される金属表面の凹凸レベルをマクロ的に確認する方法として、例えば、レーザ顕微鏡による解析方法が挙げられる。又、ミクロレベルの詳細観察方法としては、Arイオンミリングで断面加工を行い、金属・樹脂界面を走査型電子顕微鏡(SEM)によって確認することができる。
なお、十点平均粗さRzは、基準長さの粗さ曲線において、最も高い山頂から5番目までの山高さの平均値と、最も深い谷底から5番目までの谷深さの平均値との和を求めるため、ナノポーラス層を構成するナノ粒子が形成するナノレベルの微小な凹凸を反映せず、マクロな凹凸を反映する。そのため、ナノポーラス層の有無によって、十点平均粗さRzは特に変化せず、ナノポーラス層の形成後であっても十点平均粗さRzにより、表面のマクロな凹凸を評価することができる。
<樹脂形成>
本発明において、樹脂材料に使用する熱硬化性樹脂には、耐熱性を有し、更に、使用目的により、絶縁性を有する樹脂が好ましい。例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミドヒダントイン変性ポリエステル、ホルマール、ポリウレタン、ポリエステル、ポリビニルホルマール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリヒダントインを使用でき、好ましくは耐熱性において優れる、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミドヒダントイン変性ポリエステルなどのポリイミド系樹脂を使用できる。また、これらは1種を単独で使用してもよく、また、2種以上を混合して使用するようにしてもよい。
更にUV硬化性樹脂等液状の樹脂に対しても同様な密着性の改善が期待できる。
<アルミニウム絶縁電線>
本発明の実施形態にかかるアルミニウム・樹脂複合体は、アルミニウム絶縁電線として用いることができる。図3に示すように、アルミニウム絶縁電線11は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属線13と、金属線13の表面に形成されたナノポーラス層15を介して、金属線13を被覆する絶縁被膜17とを有する。すなわち、アルミニウム絶縁電線11は、金属線13と絶縁被膜17の界面に、本発明の実施形態にかかるアルミニウム・樹脂複合体1と同様の金属3/アルミナナノポーラス層5/樹脂7の積層構造を有する。金属線13が金属3に、ナノポーラス層15がナノポーラス層5に、絶縁被膜17が樹脂7にそれぞれ対応し、同様の材料を使用することができる。このようなアルミニウム絶縁電線11を巻いてコイルを作成することができる。アルミニウム絶縁電線11は、金属線13と絶縁被膜17との密着性が良好であるため、強い張力で、高い回転数で巻くことができ、巻きが高密度なコイルを高い生産性で得ることができる。
<フラットケーブル>
本発明の実施形態にかかるフラットケーブル21は、図4に示すように、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導体23を樹脂層27および樹脂層29で、両側から挟み込む構成となっている。図4中のA部分の拡大図が図5である。図5に示す通り、フラットケーブル21は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導体23と、導体23の表面に形成された、ナノポーラス層25を介して、導体23を両側から挟む樹脂層27、29と、を有する。すなわち、フラットケーブル21は、導体23と樹脂層27又は樹脂層29の界面に本発明の実施形態にかかるアルミニウム・樹脂複合体1と同様の金属3/アルミナナノポーラス層5/樹脂7の積層構造を有する。導体23が金属3に、ナノポーラス層25がナノポーラス層5に、樹脂層27、29が樹脂7にそれぞれ対応し、同様の材料を使用することができる。このようなフラットケーブル21は、電気機械の配線などに使用することができる。フラットケーブル21は、導体23と樹脂層27、29との密着性が良好であるため、折り曲げを繰り返しても導体23と樹脂層27、29との間に剥離が生じない。
<本実施形態に係る効果>
金属・樹脂との密着性向上のメカニズムは、レーザアブレーションの際に噴出されたナノ粒子が、表面に再付着し、その際にこれらナノ粒子を含むナノポーラス層が表面に形成される。その上に、液状の熱硬化性樹脂をコートするとナノポーラス層のナノ空間に樹脂が隙間なく入り込み、その後、樹脂の焼付けを行うと、ナノスケールの無数のアンカーが金属と樹脂界面に形成されることより金属3と樹脂7との密着力が著しく向上するものと考えられる。
さらに、本実施形態におけるアルミニウムと樹脂との複合体の製造方法は、従来に比べて短時間で処理が可能であるため、電線製造工程などの連続製造工程に適用可能である。
次に、本発明の効果をさらに明確にするために、実施例および比較例について詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
<実施例1>
1.アルミニウム表面処理
アルミニウム合金(A1N30H、厚さ=100μm)の試料(大きさ=3mm×120mm)を用い、以下の順で表面処理を行った。
1−1.脱脂・酸洗浄処理
(1)脱脂処理:水酸化ナトリウム溶液(10g/L、常温、400A/m)中、30秒間浸漬
(2)水洗:イオン交換水(抵抗率=18.0Ω・cm、Millipore Corp.)へ30秒間浸漬
(3)中和(酸)処理:硝酸(100g/L)中、30秒間浸漬
(4)水洗:イオン交換水へ30秒間浸漬
1−2.レーザ表面処理
浜松ホトニクス社の固体レーザ(YAGパルスレーザ、中心波長=515nm、パルス幅=0.9psec)を使い、パルスエネルギー:90μJ、繰返周波数:40kHz、ビームスポット:66μm、レーザ光強度:2.9×1012 W/cm、レーザ走査速度:長手(X)方向2mm/sec、長手に対する垂直(Y)方向1600mm/sec、加工速度:3200mm/secの条件下で大気中レーザ処理を行った。
その結果、図7(a)に示すように微細凹凸の形成が電子顕微鏡により確認でき、図7(b)の拡大写真では、約10nmのアルミナ粒子からなる、3次元的に連通する孔を有するナノポーラス層が表面に形成されていることが分かった。
マクロレベルの表面凹凸を確認するため、レーザ顕微鏡(KEYENCE、VK−X200)を用い、×150のレンズを使い、アルミ表面の観察写真を用い、画像解析アプリケーション(KEYENCE、Ver.3.2.0.0)を使い、十点平均粗さRzの値を測定した。
2.アルミニウム表面上への樹脂形成
上記処理のアルミニウム表面上にコーターを用い、均一にポリアミドイミド(PAI、HI406SA)樹脂をコートした(樹脂厚さ=約30μm)。その後、150℃、200℃、250℃の各条件下で20分ずつ熱処理を行い、金属表面上樹脂の焼付けを実施した。その結果、図8の樹脂コートレーザ処理アルミニウム試料(アルミニウム・樹脂複合体)の断面写真に示した通り、約10nmのナノ粒子からなるナノポーラス層に樹脂が隙間なく入り込んでいる様子が確認できた。
<実施例2>
レーザ処理条件を、ビームスポット:150μm、レーザ光強度:5.7×1011 W/cmに変更した以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例3>
レーザ処理条件を、ビームスポット:300μm、レーザ光強度:1.4×1011 W/cmに変更した以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例4>
レーザ処理条件を、レーザ走査速度:長手に対する垂直(Y)方向10000mm/sec、加工速度:20000mm/secに変更した以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例5>
レーザ処理条件を、レーザ走査速度:長手(X)方向10mm/sec、長手に対する垂直(Y)方向10000mm/sec、加工速度:100000mm/secに変更した以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例6>
レーザ処理条件を、ビームスポット:300μm、レーザ光強度:1.4×1011 W/cm、レーザ走査速度:長手に対する垂直(Y)方向10000mm/sec、加工速度:20000mm/secに変更した以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例7>
レーザ処理前の洗浄処理方法として、UV−オゾン装置(セン特殊光源(株)、PL17−110、紫外線ランプ=189.9nm、253.7nm)を用い、3分間処理を行う条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<比較例1>
実施例1と同様に脱脂・酸洗浄処理のみ行い、レーザ処理を行わずに試験片を作製した。
<比較例2>
実施例7と同様にUV−オゾン装置による洗浄処理のみ行い、レーザ処理を行わずに試験片を作製した。
<実施例8>
パルスエネルギー:150μJ、繰返周波数:20kHz、レーザ光強度:4.9×1012 W/cm、レーザ走査速度:長手(X)方向1mm/sec、長手に対する垂直(Y)方向3200mm/sec、加工速度:3200mm/secの条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例9>
パルスエネルギー:150μJ、繰返周波数:20kHz、ビームスポット:145μm、レーザ光強度:1.0×1012 W/cm、レーザ走査速度:長手(X)方向0.125mm/sec、加工速度:200mm/secの条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例10>
パルスエネルギー:150μJ、繰返周波数:20kHz、ビームスポット:460μm、レーザ光強度:1.0×1011 W/cm、レーザ走査速度:長手(X)方向0.042mm/sec、加工速度:67mm/secの条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例11>
パルスエネルギー:150μJ、繰返周波数:20kHz、ビームスポット:125μm、レーザ光強度:1.4×1012 W/cm、レーザ走査速度:長手(X)方向0.025mm/sec、加工速度:40mm/secの条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<比較例3>
パルスエネルギー:150μJ、繰返周波数:20kHz、ビームスポット:250μm、レーザ光強度:3.4×1011 W/cm、レーザ走査速度:長手(X)方向0.025mm/sec、加工速度:40mm/secの条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例12>
コヒレント社の固体レーザ(YAGパルスレーザ、中心波長=532nm、パルス幅=約600psec)を使い、パルスエネルギー:23.2μJ、繰返周波数:50kHz、ビームスポット:20μm、レーザ光強度:1.2×1010 W/cm、加工速度:20mm/sec、図6のように長手(X)と長手に対する垂直(Y)方向に30μmのピッチでビームスポット31を配置し、金属表面の一部レーザ加工を行う条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例13>
コヒレント社の固体レーザ(YAGパルスレーザ、中心波長=532nm、パルス幅=約600psec)を使い、パルスエネルギー:11.4μJ、繰返周波数:50kHz、ビームスポット:18μm、レーザ光強度:7.5×10W/cm、加工速度:20mm/sec、図6のように長手(X)と長手に対する垂直(Y)方向に30μmのピッチでビームスポット31を配置し、金属表面の一部レーザ加工を行う条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
<実施例14>
コヒレント社の固体レーザ(YAGパルスレーザ、中心波長=532nm、パルス幅=約600psec)を使い、パルスエネルギー:5.8μJ、繰返周波数:50kHz、ビームスポット:15μm、レーザ光強度:5.5×10W/cm、加工速度:20mm/sec、図6のように長手(X)と長手に対する垂直(Y)方向に30μmのピッチでビームスポット31を配置し、金属表面の一部レーザ加工を行う条件以外は実施例1と同様に試験片を作製した。
(試験片の密着力評価)
金属・樹脂の密着力評価のため、90°ピール試験を行った。樹脂側をピール速度10mm/min(島津オートクラブ、AG−10kNI)で引っ張り、そのときの応力を測ることで密着力を評価した。試験結果を表に示した。
表1から明らかなように実施例1から3までレーザ強度を変化し、加工を行ったところ、888N/m以上の密着力が得られた。又、実施例4から6まで示すように加工速度を変化してレーザ加工を行った場合でも402N/m以上の密着値が確認できた。更に前処理をUVに変えてその後レーザ表面処理を行った実施例7でも剥離不可の高い密着性の発現が確認できた。以上のようにレーザ処理なしの比較例1、2と比べ、明らかに高い密着特性の発現が確認できた。
一方、レーザ強度を高くした実施例8では実施例1に比べて凹凸(Rz)が大きくなった。また、レーザの加工速度を遅くした実施例9〜11と比較例3では、レーザ強度や加工速度に応じて凹凸が大きくなった。比較例3のように凹凸が過度に大きい場合には、焼付けの後、樹脂の気泡発生が確認できた。
更に実施例12から実施例14まで示すように試料の一部箇所のみレーザ処理を行った場合でも388N/m以上の密着力が確認できた。
また、表4に示すように、各実施例の金属樹脂複合体の金属・樹脂界面のイオンミリング断面のSEM観察を行った結果、厚さ50nmから350nmまでのナノポーラス層が確認できた。
以上の結果より、レーザ強度とレーザ加工速度の調整によって金属と樹脂との密着性を高めることができ、更に焼付け後の良好な樹脂表面を得ることができた。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しえることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
1………アルミニウム・樹脂複合体
3………金属
5………ナノポーラス層
7………樹脂
11………アルミニウム絶縁電線
13………金属線
15………ナノポーラス層
17………絶縁被膜
21………フラットケーブル
23………導体
25………ナノポーラス層
27………樹脂層
29………樹脂層
31………ビームスポット

Claims (9)

  1. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属と、前記金属の表面に形成されたアルミナナノポーラス層を介して前記金属と接合する樹脂と、を有することを特徴とするアルミニウム・樹脂複合体。
  2. 前記アルミナナノポーラス層は、平均粒径5〜100nmのアルミナナノ粒子を含み、3次元的に連通する孔を有することを特徴とする請求項1に記載のアルミニウム・樹脂複合体。
  3. 前記樹脂が、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミドヒダントイン変性ポリエステル、ホルマール、ポリウレタン、ポリエステル、ポリビニルホルマール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリヒダントインからなる群より選ばれる少なくとも一つを含む熱硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1または2に記載のアルミニウム・樹脂複合体。
  4. 前記金属と前記樹脂との界面において、前記金属の十点平均粗さRzが20μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアルミニウム・樹脂複合体。
  5. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属線と、前記金属線の表面に形成されたアルミナナノポーラス層を介して前記金属線を被覆する絶縁被膜と、を有することを特徴とするアルミニウム絶縁電線。
  6. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導体と、前記導体の表面に形成されたアルミナナノポーラス層を介して前記導体を両側から挟む樹脂層と、を有することを特徴とするフラットケーブル。
  7. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属の表面に、レーザを照射してアルミナナノポーラス層を形成する工程と、
    前記アルミナナノポーラス層の上に樹脂を形成する工程と、
    を有することを特徴とするアルミニウム・樹脂複合体の製造方法。
  8. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属線の表面に、レーザを照射してアルミナナノポーラス層を形成する工程と、
    前記アルミナナノポーラス層を介して前記金属線の上に絶縁被膜を形成する工程と、
    を有することを特徴とするアルミニウム絶縁電線の製造方法。
  9. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導体の表面に、レーザを照射してアルミナナノポーラス層を形成する工程と、
    前記アルミナナノポーラス層を介して前記導体に樹脂層を形成する工程と、
    を有することを特徴とするフラットケーブルの製造方法。
JP2013208186A 2013-10-03 2013-10-03 アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法 Active JP5916678B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013208186A JP5916678B2 (ja) 2013-10-03 2013-10-03 アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法
CN201480053317.XA CN105579229B (zh) 2013-10-03 2014-10-01 铝‑树脂复合体、铝绝缘电线和扁平电缆以及它们的制造方法
EP14851072.0A EP3053737A4 (en) 2013-10-03 2014-10-01 Aluminum-resin composite, insulated aluminum wire, flat cable and processes for producing same
PCT/JP2014/076303 WO2015050166A1 (ja) 2013-10-03 2014-10-01 アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法
US15/084,907 US11114216B2 (en) 2013-10-03 2016-03-30 Aluminum-resin composite, insulated aluminum wire, flat cable and processes for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013208186A JP5916678B2 (ja) 2013-10-03 2013-10-03 アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015071258A true JP2015071258A (ja) 2015-04-16
JP5916678B2 JP5916678B2 (ja) 2016-05-11

Family

ID=52778754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013208186A Active JP5916678B2 (ja) 2013-10-03 2013-10-03 アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11114216B2 (ja)
EP (1) EP3053737A4 (ja)
JP (1) JP5916678B2 (ja)
CN (1) CN105579229B (ja)
WO (1) WO2015050166A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020192825A (ja) * 2019-05-24 2020-12-03 トヨタ車体株式会社 車両用窓枠の接着構造

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017163077A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 Cambridge Nanotherm Limited Multi-metal conductors with inorganic insulation
CN106158119B (zh) * 2016-07-14 2018-01-23 广东成天泰电缆实业有限公司 一种高温相变陶瓷电缆
CN106435609A (zh) * 2016-08-24 2017-02-22 瓦房店轴承集团有限责任公司 轴承零件酸洗的新方法
US10638604B1 (en) 2019-06-19 2020-04-28 Borgwarner, Inc. Insulated metal printed circuit board
JP2021004377A (ja) * 2019-06-25 2021-01-14 本田技研工業株式会社 アルミニウム部材の製造方法及びアルミニウム部材
CN113039617B (zh) 2019-08-23 2022-08-02 宙斯有限公司 聚合物涂覆的电线
KR20220100940A (ko) * 2020-01-31 2022-07-18 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 도전용 부재, 도전용 부재의 제조 방법, 전력 변환 장치, 모터, 이차 전지 모듈 및 이차 전지 팩

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57180812A (en) * 1981-05-01 1982-11-08 Fujikura Ltd Method of producing alumite wire
JPS63299922A (ja) * 1987-05-30 1988-12-07 Nissha Printing Co Ltd 表面多孔性を有する基板
JPH049597A (ja) * 1990-04-25 1992-01-14 Sky Alum Co Ltd 熱交換器用アルミニウムフィン用材及びその製造方法
JP2007277613A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Hokkaido Univ 細孔を有する金多孔質体およびその製造方法
JP2010000679A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Furukawa-Sky Aluminum Corp アルミニウム材及びその製造方法
JP2012166546A (ja) * 2011-01-27 2012-09-06 Furukawa Electric Co Ltd:The インク受容層、インク受容層形成用塗布液、インク受容層の形成方法、及び導電パターンの形成方法
JP2012220675A (ja) * 2011-04-07 2012-11-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
JP2012227114A (ja) * 2011-04-07 2012-11-15 Hitachi Cable Ltd 接着フィルム及びそれを用いたフラットケーブル

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3702788A (en) * 1971-03-05 1972-11-14 Minnesota Mining & Mfg Insulated electrical conductors coated with polyimide-amide modified polyimide
US4985313A (en) * 1985-01-14 1991-01-15 Raychem Limited Wire and cable
JPH0364150A (ja) 1989-08-01 1991-03-19 Nec Corp 電話機
JPH1075053A (ja) * 1996-09-02 1998-03-17 Mitsui Petrochem Ind Ltd フレキシブル金属箔積層板の製造方法
KR100562968B1 (ko) 2001-12-28 2006-03-23 다이세이 플라스 가부시끼가이샤 알루미늄합금과 수지의 복합체와 그 제조방법
JP2007220785A (ja) 2006-02-15 2007-08-30 Nippon Steel Materials Co Ltd 導電性金属層付きステンレス基体とその製造方法及びハードディスクサスペンション材料、ハードディスクサスペンション
US10876193B2 (en) * 2006-09-29 2020-12-29 University Of Rochester Nanostructured materials, methods, and applications
JP5094839B2 (ja) * 2007-03-12 2012-12-12 大成プラス株式会社 アルミニウム合金複合体
JP5101983B2 (ja) * 2007-10-23 2012-12-19 大成プラス株式会社 金属コート物及びその製造方法
JP2009126126A (ja) 2007-11-27 2009-06-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 金属インサート樹脂複合成形品の製造方法及び金属インサート樹脂複合成形品
JP2012066383A (ja) * 2009-01-19 2012-04-05 Taisei Plas Co Ltd 金属合金を含む接着複合体とその製造方法
JP2010167475A (ja) * 2009-01-26 2010-08-05 Yamase Denki Kk 異種材料と金属材料との界面が気密性を有する異種材料接合金属材料及びその製造方法
JP5419211B2 (ja) * 2009-07-29 2014-02-19 日立金属株式会社 エナメル被覆絶縁電線およびその製造方法
JP2011052292A (ja) 2009-09-03 2011-03-17 Shingijutsu Kenkyusho:Kk アルミニウム合金物品、アルミニウム合金部材およびその製造方法
FR2975864A1 (fr) * 2011-05-27 2012-11-30 Eads Europ Aeronautic Defence Semi-produit sous la forme d'une bande conductrice integrable dans un materiau composite et procede de fabrication d'une telle bande
US20120305651A1 (en) * 2011-05-31 2012-12-06 Wisconsin Alumni Research Foundation Electrochemical capacitor battery hybrid energy storage device capable of self-recharging
JP2013111881A (ja) * 2011-11-29 2013-06-10 Polyplastics Co 金属部品の製造方法、及び複合成形体
DE102011121546B4 (de) * 2011-12-20 2013-07-11 Eads Deutschland Gmbh Verfahren zur Strukturierung einer Oberfläche eines Werkstücks
CN103297565B (zh) * 2012-02-24 2015-07-22 比亚迪股份有限公司 一种手机壳体及其制备方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57180812A (en) * 1981-05-01 1982-11-08 Fujikura Ltd Method of producing alumite wire
JPS63299922A (ja) * 1987-05-30 1988-12-07 Nissha Printing Co Ltd 表面多孔性を有する基板
JPH049597A (ja) * 1990-04-25 1992-01-14 Sky Alum Co Ltd 熱交換器用アルミニウムフィン用材及びその製造方法
JP2007277613A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Hokkaido Univ 細孔を有する金多孔質体およびその製造方法
JP2010000679A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Furukawa-Sky Aluminum Corp アルミニウム材及びその製造方法
JP2012166546A (ja) * 2011-01-27 2012-09-06 Furukawa Electric Co Ltd:The インク受容層、インク受容層形成用塗布液、インク受容層の形成方法、及び導電パターンの形成方法
JP2012220675A (ja) * 2011-04-07 2012-11-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
JP2012227114A (ja) * 2011-04-07 2012-11-15 Hitachi Cable Ltd 接着フィルム及びそれを用いたフラットケーブル

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020192825A (ja) * 2019-05-24 2020-12-03 トヨタ車体株式会社 車両用窓枠の接着構造
JP7275858B2 (ja) 2019-05-24 2023-05-18 トヨタ車体株式会社 車両用窓枠の接着構造

Also Published As

Publication number Publication date
US20160211051A1 (en) 2016-07-21
JP5916678B2 (ja) 2016-05-11
CN105579229B (zh) 2018-04-17
WO2015050166A1 (ja) 2015-04-09
EP3053737A4 (en) 2017-06-14
EP3053737A1 (en) 2016-08-10
US11114216B2 (en) 2021-09-07
CN105579229A (zh) 2016-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5916678B2 (ja) アルミニウム・樹脂複合体、アルミニウム絶縁電線及びフラットケーブル並びにそれらの製造方法
JP6062341B2 (ja) 銅・樹脂複合体、及びその製造方法
JP3506002B2 (ja) プリント配線板の製造方法
TWI579137B (zh) Coarse copper foil, copper clad laminate and printed circuit board
JP4738308B2 (ja) 金属皮膜付シクロオレフィンポリマー材の製造方法及びその製造方法を用いて得られる金属皮膜付シクロオレフィンポリマー材
TWI766064B (zh) 用於印刷電路板的半加成方法
JP6887210B2 (ja) レーザ処理方法、接合方法、銅部材、多層プリント配線基板の製造方法、及び多層プリント配線基板
KR101393892B1 (ko) 배선판 및 그 제조 방법
JP5794740B2 (ja) プリント配線板の製造方法及びそのプリント配線板の製造方法を用いて得られたプリント配線板
KR100661108B1 (ko) 레이저 가공방법
JP2630858B2 (ja) プリント配線用基板の製造方法
CN105593949B (zh) 铜‑树脂复合体、及其制造方法
JP2004273707A (ja) 薄膜回路の形成方法
JP4252939B2 (ja) レーザ加工方法
JP5839876B2 (ja) レーザ加工用銅板および該レーザ加工用銅板を用いたプリント基板、並びに銅板のレーザ加工方法
JP2006152329A (ja) 銅層の表面処理法および当該処理をした銅層を含む積層板ならびに配線板
JP6531556B2 (ja) 配線基板の製造方法、および配線基板
JP2006253424A (ja) プリント配線板の製造方法
JP2009200301A (ja) プリント配線板、およびその製造方法
JP2015177018A (ja) 配線板の製造方法
JP2023059620A (ja) 金属部材及び金属樹脂接合体並びにそれらの製造方法
JP2011161609A (ja) 中高圧用アルミニウム箔の製造方法
TW201016092A (en) Hole-drilling method using laser for printed circuit board
JP2008266679A (ja) プリント回路基板用基材およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150406

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151224

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160405

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5916678

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350