JP2015015089A5 - 発光素子表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、発光素子表示装置及びその製造方法に関し、より詳しくは、各画素に配置された自発光体である発光素子に発光させて表示を行う発光素子表示装置及びその製造方法に関する。

本発明は、上述の事情を鑑みてしたものであり、水分侵入による表示不良を抑制し、長
期間品質を維持することのできる発光素子表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。

Claims (8)

1. 絶縁表面を有する基板と、
   前記絶縁表面上に形成され、発光領域をそれぞれ有する画素がマトリクス状に配置されると共に、有機絶縁材料からなる有機絶縁層を有する表示領域と、
   前記表示領域の周囲にあり、金属配線もしくは薄膜トランジスタを用いた回路が配置され、前記有機絶縁層を有する周辺回路領域と、
   前記表示領域と前記周辺回路領域との間に形成された遮断領域と、を備え、
   前記遮断領域は、
   前記表示領域を覆い、前記発光領域を発光させるための２つの電極のうちの一方であり、前記表示領域から連続して形成された電極層を有し、前記電極層から基材である絶縁基板までが無機材料の層のみで構成される第１遮断領域と、
   前記第１遮断領域を構成する複数の層及び有機層のみで構成される第２遮断領域と、を有する発光素子表示装置。
2. 絶縁表面を有する基板と、
   前記絶縁表面上に形成され、発光領域をそれぞれ有する画素がマトリクス状に配置されると共に、有機絶縁材料からなる有機絶縁層を有する表示領域と、
   前記表示領域の周囲にあり、金属配線もしくは薄膜トランジスタを用いた回路が配置され、前記有機絶縁層を有する周辺回路領域と、
   前記表示領域と前記周辺回路領域との間に形成された遮断領域と、
   前記表示領域を覆うと共に、前記表示領域から前記遮断領域にかけて連続的に形成された電極層と、
   前記表示領域を覆うと共に、前記電極層と前記有機絶縁層との間に設けられた有機層と、
   を備え、
   前記遮断領域において、前記有機絶縁層は開口部を有し、
   前記表示領域における前記有機絶縁層と、前記周辺回路領域における前記有機絶縁層とは、前記開口部を介して不連続であり、
   前記有機層は、前記遮断領域に重畳する領域であって、前記電極層の端部よりも前記表示領域に近い側に端部を有する、発光素子表示装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の発光素子表示装置であって、
   前記有機層は、前記発光領域を有する発光素子に含まれる発光層を含む少なくとも一層である、ことを特徴とする発光素子表示装置。
4. 請求項１又は請求項２に記載の発光素子表示装置であって、
   前記有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層のいずれかを含んでいる、ことを特徴とする発光素子表示装置。
5. 請求項１又は請求項２に記載の発光素子表示装置であって、
   前記遮断領域は、前記電極層と前記絶縁表面との間で、断面視で見て、無機材料の積層のみで形成された領域を含んでいる、ことを特徴とする発光素子表示装置。
6. 請求項１又は請求項２に記載の発光素子表示装置であって、
   前記遮断領域における、前記電極層と前記絶縁表面との間の距離は、前記表示領域における、前記電極層と前記絶縁表面との間の距離よりも短い、ことを特徴とする発光素子表示装置。
7. 絶縁基板上にＴＦＴ（Thin Film Transistor）を含む回路を表示領域及び表示領域の周囲の周辺回路領域に形成するＴＦＴ回路形成工程と、
   前記表示領域内の各画素において前記回路と電気的に接続された電極、及び前記電極の周囲に形成される有機絶縁膜を形成する電極・有機絶縁膜形成工程と、
   前記周辺回路領域を覆い、前記周辺回路領域のみに接するマスク領域を有する蒸着マスクを用いて発光有機層を蒸着する発光有機層形成工程と、
   少なくとも前記発光有機層を覆い、前記絶縁基板の全面を封止するための封止膜を形成する封止膜形成工程と、を有する発光素子表示装置製造方法。
8. 請求項７に記載の発光素子表示装置製造方法であって、
   前記発光有機層形成工程において、前記蒸着マスクの内側端が遮断領域内に配置されて
   いる、ことを特徴とする発光素子表示装置製造方法。