JP2014528598A - 画素ユニット、アレイ基板、液晶パネル及びアレイ基板の製造方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 131
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 131
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 40
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 96
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 43
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 42
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 17
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 5
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 5
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910003818 SiH2Cl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
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- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
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- G02F1/136218—Shield electrodes
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Abstract
Description
同列にある奇数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は該列の両側のデータラインの中の1つデータラインに接続され、偶数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は該列の両側のデータラインの中の他のデータラインに接続され、且つ隣接する2列において同行にある画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は2つの異なるデータラインに接続され、
同行にある上記画素ユニットにおいて、2つずつの画素ユニットはそれが有する薄膜トランジスタのゲート電極によって該行の画素ユニットの上方および下方にある2つのゲートラインに交替にそれぞれ接続され、且つ上記ゲートライン毎が接続される画素ユニットは同一行にあり、
隣接する2つのデータラインの間の、同行にあって隣接する2つの画素ユニットの薄膜トランジスタは、ゲート電極が2つのゲートラインにそれぞれ接続され、ソース電極が上記2つのデータラインにそれぞれ接続される。
第1回のパターニングによって画素電極を有するパターンを形成し、第2回のパターニングによって、複数のゲートライン、及び複数の画素ユニットの薄膜トランジスタのゲート電極を有するパターンを形成するS101、
或いは、第1回のパターニングによって、複数のゲートライン、及び複数の画素ユニットの薄膜トランジスタのゲート電極を有するパターンを形成し、第2回のパターニングによって画素電極を有するパターンを形成するS101と、
第3回のパターニングによって、ゲート絶縁層、活性層、複数のデータライン、及び上記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を有するパターンを形成するS102と、
第4回のパターニングによってパッシベーション層を有するパターンを形成するS103と、
第5回のパターニングによって共通電極を有するパターンを形成するS104と、を備える。
ステップS101が完了したベース基板上に、ゲート絶縁層、活性層及びソース・ドレイン金属薄膜を順に形成する工程と、
ソース・ドレイン金属薄膜上に一層のフォトレジストを塗布する工程と、
ハーフトンまたはグレートンマスクによってフォトレジストを露光し、フォトレジストにおいて、フォトレジストの完全除去領域、フォトレジストの完全保留領域、及びフォトレジストの半保留領域を形成させる工程であって、フォトレジストの完全保留領域は、データライン、ソース電極及びドレイン電極のパターンが所在する領域に対応し、フォトレジストの半保留領域は、薄膜トランジスタのチャンネル領域に対応し、フォトレジストの完全除去領域は、上述したパターン以外の領域に対応し、現像処理の後、フォトレジストの完全保留領域においてはフォトレジストの厚みが変化せず、フォトレジストの完全除去領域においてはフォトレジストが完全に除去され、フォトレジストの半保留領域においてはフォトレジストの厚みが薄くなる、工程と、
第1回のエッチングによって、フォトレジストの完全除去領域における活性層薄膜及びソース・ドレイン金属薄膜を完全にエッチングする工程と、
アッシングによって、フォトレジストの半保留領域におけるフォトレジストを完全に除去し、該領域のソース・ドレイン金属薄膜を露出させる工程と、
第2回のエッチングによって、フォトレジストの半保留領域におけるソース・ドレイン金属薄膜を完全にエッチングし、画素電極、データライン、ソース電極、ドレイン電極及び薄膜トランジスタのチャンネル領域を有するパターンを形成する工程と、
残りのフォトレジストを除去する工程と、を備える。
ステップS102が完了した基板上にパッシベーション層の薄膜を形成する工程と、
ハーフトンまたはグレートンマスクによって、画素電極の上方にパッシベーション層及びゲート絶縁層を貫通するビアホールを形成し、ドレイン電極の上方にパッシベーション層を貫通するビアホールを形成する工程と、を備える。
ステップS103が完了した基板上に透明導電薄膜を形成する工程と、
普通のマスクによって、共通電極のパターンを形成する工程と、を備える。
同列にある奇数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は、該列の両側のデータラインの中の1つのデータラインに接続され、偶数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は、該列の両側のデータラインの中の他のデータラインに接続され、且つ隣接する2列の中の同じ行にある画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は2つの異なるデータラインに接続され、
同行にある2つずつの画素ユニットは、それが有する薄膜トランジスタのゲート電極によって、該行の画素ユニットの上方および下方にある2つのゲートラインにそれぞれ交替に接続され、且つ各上記ゲートラインが接続する画素ユニットは同一行にあり、
隣接する2つのデータラインの間の、同行であって隣接する2つの画素ユニットの薄膜トランジスタは、ゲート電極が2つのゲートラインにそれぞれ接続され、ソース電極が上記2つのデータラインにそれぞれ接続される。
例えば、ステップS101では、ゲートライン及びゲート電極を形成するとともに、共通電極線を形成し、ステップS104では、共通電極と上記共通電極線とをアレイ基板の周辺でビアホールを介して接続する。
例えば、ステップS104では、形成された共通電極は、それが所在する画素ユニットの上方及び/または下方の1つのゲートラインの上方まで延び、上記1つのゲートラインと蓄積容量を形成する。
本発明の実施例は、画素ユニットを提供する。以下、図1及び図1Aを参照しながら本実施例の画素ユニットの構造を説明する。但し、本実施例における画素ユニットは、ゲートライン及びデータラインを備えない。前記画素ユニットは、ゲートライン及びデータラインを適当に設置した後、普通のアレイ基板、またはデュアルゲート構造のアレイ基板を形成することに用いられる。
本実施例はベース基板を有し、ゲートラインが上記基板上に設けられ、データラインが上記ゲートラインと垂直をなすように設けられるアレイ基板を提供する。上記ゲートラインと上記データラインとの間に画素領域が画成され、上記画素領域は上記実施例1における画素ユニット(図1を参照)を備える。上記薄膜トランジスタは、ゲート電極が上記ゲートラインに接続され、ソース電極が上記データラインに接続される。上述した画素ユニットを備えるアレイ基板は、I−ADS型アレイ基板と称してもよく、従来のADS型アレイ基板に対して、画素電極2と共通電極9との上下位置関係が変更したものである。
本実施例はアレイ基板の製造方法であって、
第1回のパターニングによって画素電極を有するパターンを形成し、第2回のパターニングによってゲートライン及び薄膜トランジスタのゲート電極を有するパターンを形成するか、或いは、第1回のパターニングによってゲートライン及び薄膜トランジスタのゲート電極を有するパターンを形成し、第2回のパターニングによって画素電極を有するパターンを形成するS101と、
第3回のパターニングによってゲート絶縁層、活性層、データライン及び薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を有するパターンを形成するS102と、
第4回のパターニングによってパッシベーション層を有するパターンを形成するS103と、
第5回のパターニングによって共通電極を有するパターンを形成するS104と、を備える。
ステップS101を完了したベース基板上にゲート絶縁層4、活性層及びソース・ドレイン金属薄膜を順に形成する工程と、
ソース・ドレイン金属薄膜上にフォトレジストを1層塗布する工程と、
ハーフトンまたはグレートンマスクによってフォトレジストを露光し、フォトレジストにおいて、フォトレジストの完全除去領域、フォトレジストの完全保留領域及びフォトレジストの半保留領域を形成させる工程であって、フォトレジストの完全保留領域は、データライン、ソース電極及びドレイン電極のパターンが存在する領域に対応し、フォトレジストの半保留領域は、薄膜トランジスタのチャンネル領域に対応し、フォトレジストの完全除去領域は上述したパターン以外の領域に対応し、現像された後、フォトレジストの完全保留領域はフォトレジストの厚みが変化せず、フォトレジストの完全除去領域はフォトレジストが完全に除去され、フォトレジストの半保留領域はフォトレジストの厚みが薄くなる、工程と、
第1回のエッチングによって、フォトレジストの完全除去領域における活性層薄膜及びソース・ドレイン金属薄膜を完全にエッチングする工程と、
アッシングによって、フォトレジストの半保留領域におけるフォトレジストを完全にエッチングし、この領域におけるソース・ドレイン金属薄膜を露出する工程と、
第2回のエッチングによって、フォトレジストの半保留領域におけるソース・ドレイン金属薄膜を完全にエッチングし、ソース電極61、ドレイン電極62、データライン63及び薄膜トランジスタのチャンネル領域を有するパターンを形成する工程と、
残りのフォトレジストを除去する工程と、を備えてもよい。
同じ列の奇数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極が該列の両側のデータラインの中の1つのデータラインに接続され、偶数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極が該列の両側のデータラインの中の他のデータラインに接続され、且つ隣り合う列において、同じ行にある画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極が異なる2つのデータラインに接続される工程と、
同じ行において、2つずつの画素ユニットは、それが有する薄膜トランジスタのゲート電極によってこの行の画素ユニットの上方および下方の2つのゲートラインにそれぞれ交替に接続され、且つ上記ゲートライン毎が接続する画素ユニットは同じ行にある工程と、
隣り合う2つのデータラインの間の、同じ行であって隣り合う画素ユニットにおける薄膜トランジスタは、ゲート電極を2つのゲートラインにそれぞれ接続し、ソース電極を上記2つのデータラインにそれぞれ接続する工程と、を備えてもよい。
本実施例は液晶パネルであって、図7に示すように、アレイ基板11と、カラーフィルタ基板14と、それらの間に充填される液晶12と、を備える。アレイ基板11及びカラーフィルタ基板14は互いに対向して液晶セルを形成し、それらの隙間を維持するように複数のスペーサ(図示しない)が用いられる。ここで、アレイ基板は、上述した実施例において提供されたアレイ基板である。カラーフィルタ基板14上に、ブラックマトリックス10及びカラー樹脂13が備えられる。ブラックマトリックス10はカラーフィルタ基板14の画素領域を画成する。これらの画素領域はアレイ基板11上の画素領域に対応する。さらに、図6に示すように、上記カラーフィルタ基板14上において、上記ゲートラインに対応する位置、上記データラインに対応する位置及び隣り合う2つのデータラインの間の2列の画素ユニットの境界に対応する位置に、ブラックマトリックス101、ブラックマトリックス102及びブラックマトリックス103を有するブラックマトリックスがいずれも設けられる。例えば、上記データラインに対応する位置のブラックマトリックス102は幅が17−23umであり、隣り合う2つのデータラインの間の2列の画素ユニットの境界に対応する位置のブラックマトリックス103は幅が6−10umである。
本実施例は液晶パネルの製造方法であって、上述した実施例に記載のアレイ基板の製造方法を備える。ここで、液晶パネルは、例えば、図6及び図7に示す。
本実施例は、上述した実施例に記載の液晶パネルを用いる表示装置である。上記表示装置は、携帯電話、フラットコンピュータ、モニター、テレビ、ノートパソコン、ネットブック等であってもよい。
本発明の実施例は表示装置の製造方法であって、上述した実施例に記載の液晶パネルの製造方法を備える。上記表示装置は、携帯電話、フラットコンピュータ、モニター、テレビ、ノートパソコン、ネットブックなどであってもよい。
2 画素電極
31 ゲート電極
321 ゲートライン1
322 ゲートライン2
4 ゲート絶縁層
5 活性層
61 ソース電極
62 ドレイン電極
63 データライン
7 パッシベーション層
81 ビアホール1
82 ビアホール2
9 共通電極
91 接続電極
10 ブラックマトリックス
11 アレイ基板
12 液晶
13 カラー樹脂
14 カラーフィルタ基板
100 薄膜トランジスタ
Claims (15)
- 画素ユニットであって、薄膜トランジスタ、画素電極及び共通電極を有し、上記薄膜トランジスタは、ゲート電極と、上記ゲート電極の上に設けられるゲート絶縁層と、上記ゲート絶縁層の上に設けられる活性層と、上記活性層の上に設けられるソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極及びドレイン電極の上に設けられるパッシベーション層とを備え、
上記共通電極は、上記パッシベーション層の上に直接に設けられ、上記画素電極は上記パッシベーション層の下に設けられて上記薄膜トランジスタのドレイン電極に接続されることを特徴とする画素ユニット。 - 上記画素電極及び上記ゲート電極は同一層に設けられ、上記パッシベーション層と上記画素電極との間にゲート絶縁層が設けられ、上記共通電極と同じ層の接続電極は2つのビアホールを介して上記薄膜トランジスタのドレイン電極及び上記画素電極にそれぞれ接続されることを特徴とする請求項1に記載の画素ユニット。
- 上記共通電極はスリット状をなし、上記画素電極は板状をなすことを特徴とする請求項1または2に記載の画素ユニット。
- 上記画素電極及び/または上記共通電極は透明電極であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の画素ユニット。
- 上記パッシベーション層は、酸化物、窒化物、窒素酸化物または有機樹脂であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の画素ユニット。
- アレイ基板であって、
ベース基板と、
上記ベース基板上に設けられる複数のゲートライン及び複数のデータラインを備え、
上記複数のデータラインは、上記複数のゲートラインと垂直をなし、上記ゲートライン及び上記データラインは互いに交差するように複数の画素領域を画成し、
上記複数の画素領域は、それぞれが請求項1〜5のいずれか1項に記載の画素ユニットを備え、各上記画素ユニットにおいて、薄膜トランジスタは、ゲート電極が対応するゲートラインに接続され、ソース電極が対応するデータラインに接続されることを特徴とするアレイ基板。 - 各行における上記画素ユニットの上方および下方において1つのゲートラインがともに設けられ、且つ隣接する2行にある上記画素ユニットの間に2つのゲートラインが設けられ、各列における上記画素ユニットの左側または右側において1つのデータラインが設けられ、且つ隣接する2つのデータラインの間に2列の上記画素ユニットを有することを特徴とする請求項6に記載のアレイ基板。
- 各上記画素ユニットの上記薄膜トランジスタのゲート電極は、それが存在する画素ユニットの上方または下方の1つのゲートラインに接続され、上記薄膜トランジスタのソース電極は、それが所在する画素ユニットの左側または右側の1つのデータラインに接続され、Z反転(Z−inversion)の画素構造が構成されることを特徴とする請求項7に記載のアレイ基板。
- 上記Z反転の画素構造は、
同列にある奇数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は該列の両側のデータラインの中の1つデータラインに接続され、偶数個の画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は該列の両側のデータラインの中の他のデータラインに接続され、且つ隣接する2列において同行にある画素ユニットにおける薄膜トランジスタのソース電極は2つの異なるデータラインに接続され、
同行にある上記画素ユニットにおいて、2つずつの前記画素ユニットはそれが有する薄膜トランジスタのゲート電極によって該行の画素ユニットの上方および下方にある2つのゲートラインに交替にそれぞれ接続され、且つ上記ゲートライン毎が接続される画素ユニットは同一行にあり、
隣接する2つのデータラインの間の、同行にあって隣接する2つの画素ユニットの薄膜トランジスタは、ゲート電極が2つのゲートラインにそれぞれ接続され、ソース電極が上記2つのデータラインにそれぞれ接続されるように構成されることを特徴とする請求項8に記載のアレイ基板。 - 各上記画素ユニットの上記共通電極は、それが所在する画素ユニットの上方及び/または下方の1つのゲートラインの上方まで延び、上記1つのゲートラインと蓄積容量を構成することを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載のアレイ基板。
- 液晶パネルであって、カラーフィルタ基板及び請求項6〜10のいずれか1項に記載のアレイ基板を備え、上記カラーフィルタ基板上にブラックマトリックスが備えられ、
上記カラーフィルタ基板上において、上記複数のゲートラインに対応する位置、上記複数のデータラインに対応する位置、及び隣接する2つのデータラインの間の2列の画素ユニットの境界に対応する位置には、ブラックマトリックスがいずれも設置されることを特徴とする液晶パネル。 - アレイ基板の製造方法であって、
第1回のパターニングによって画素電極を有するパターンを形成し、第2回のパターニングによって、複数のゲートライン、及び複数の画素ユニットの薄膜トランジスタのゲート電極を有するパターンを形成するS101、
或いは、第1回のパターニングによって、複数のゲートライン、及び複数の画素ユニットの薄膜トランジスタのゲート電極を有するパターンを形成し、第2回のパターニングによって画素電極を有するパターンを形成するS101と、
第3回のパターニングによって、ゲート絶縁層、活性層、複数のデータライン、及び上記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を有するパターンを形成するS102と、
第4回のパターニングによってパッシベーション層を有するパターンを形成するS103と、
第5回のパターニングによって共通電極を有するパターンを形成するS104と、を備えることを特徴とするアレイ基板の製造方法。 - 上記ステップS101で複数のゲートラインを形成することは、各行における画素ユニットの上方および下方に1つのゲートラインをともに形成し、かつ隣接する2行の画素ユニットの間に1つのゲートラインを形成することであり、
上記ステップS102でデータラインを形成することは、各列における前記画素ユニットの左側または右側に1つのデータラインを形成し、かつ隣接する2つのデータラインの間に2列の画素ユニットを有することであることを特徴とする請求項12に記載のアレイ基板の製造方法。 - ステップS101では、各前記画素ユニットの薄膜トランジスタのゲート電極は、それが所在する画素ユニットの上方または下方の1つのゲートラインに接続されるようにして、ステップS102では、各前記画素ユニットの薄膜トランジスタのソース電極は、それが所在する画素ユニットの左側または右側の1つのデータラインに接続されるようにして、Z反転の画素構造を構成することであることを特徴とする請求項13に記載のアレイ基板の製造方法。
- ステップS104では、形成された共通電極は、それが所在する画素ユニットの上方及び/または下方の1つのゲートラインの上方まで延び、上記1つのゲートラインと蓄積容量を形成することを特徴とする請求項12〜14のいずれか1項に記載のアレイ基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110315240.7A CN102645803B (zh) | 2011-10-17 | 2011-10-17 | 像素单元,阵列基板、液晶面板、显示装置及其制造方法 |
CN201110315240.7 | 2011-10-17 | ||
PCT/CN2012/082347 WO2013056617A1 (zh) | 2011-10-17 | 2012-09-28 | 像素单元、阵列基板、液晶面板及阵列基板的制造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014528598A true JP2014528598A (ja) | 2014-10-27 |
Family
ID=46658710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014534929A Pending JP2014528598A (ja) | 2011-10-17 | 2012-09-28 | 画素ユニット、アレイ基板、液晶パネル及びアレイ基板の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8982307B2 (ja) |
EP (1) | EP2770369B1 (ja) |
JP (1) | JP2014528598A (ja) |
KR (1) | KR20130055622A (ja) |
CN (1) | CN102645803B (ja) |
WO (1) | WO2013056617A1 (ja) |
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-
2011
- 2011-10-17 CN CN201110315240.7A patent/CN102645803B/zh active Active
-
2012
- 2012-09-28 EP EP12791677.3A patent/EP2770369B1/en active Active
- 2012-09-28 US US13/703,567 patent/US8982307B2/en active Active
- 2012-09-28 KR KR1020127032426A patent/KR20130055622A/ko active Search and Examination
- 2012-09-28 WO PCT/CN2012/082347 patent/WO2013056617A1/zh active Application Filing
- 2012-09-28 JP JP2014534929A patent/JP2014528598A/ja active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN102645803B (zh) | 2014-06-18 |
EP2770369A1 (en) | 2014-08-27 |
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US20140125909A1 (en) | 2014-05-08 |
WO2013056617A1 (zh) | 2013-04-25 |
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US8982307B2 (en) | 2015-03-17 |
KR20130055622A (ko) | 2013-05-28 |
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