JP2014506380A - 有機発光素子用基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
|Na−Nb|≧0.2
|Nc−Nd|≦0.2
一実施例で、前記製造方法は、高屈折ナノ粒子、有機または無機バインダー及び散乱粒子を含む高屈折コーティング液を使用して犠牲基板上に高屈折散乱層を形成する段階と;形成された高屈折散乱層上に接着層を媒介で基材をラミネートする段階と;犠牲基板を除去する段階と;を含むことができる。
[発明を実施するための形態]
[有機発光素子用基板の製造]
内部に高屈折フィラーが分散されているUV硬化型有機バインダー(TYT−80−01、固形分含量:25wt%、Toyo ink製)10gに屈折率が約1.52の高分子ビーズ(XX75BQ、直径3μm、Sekisui製)1gを充分に混合し、コーティング液を調剤した。その後、プライマーが処理されていないポリエステルフィルム(PETフィルム)の表面上に前記コーティング液をコーター(6番Meyer bar coater)を使用してコーティングした。次いで、前記コーティングされたコーティング液を100℃で2分間乾燥し、UV硬化器を使用して1J/cm2のエネルギーで硬化させてフィルムを製造した。別にOLED用ガラス基板上にUV硬化型接着剤(NOA65、Norland Products Inc製)を適量落とした後、前記コーティングされたコーティングフィルムを、コーティング層がガラス基板に向けるように覆った後、ポリエステルフィルム面をゴムローラーで圧力を印加しつつラミネートし、高屈折コーティング層の表面とガラス基板との間に接着剤が充分に広がるようにした。その後、UV硬化器を使用して2J/cm2のエネルギーで前記接着剤層を硬化させた後、ポリエステルフィルムを除去し、有機発光素子用基板を製造した。
前記製造された有機発光素子用基板の平坦面(除去されたポリエステルフィルムと接した面)に下記表に記載されたIZO層からAl電極層までの層を順次に形成し、2x2mm2の発光領域を有する2スタック(stack)白色OLEDを製作した(平坦面上に下記表の1番層から13番層までを順次に形成)。この過程で、HIL、HTL、EML、ETL、CGL、HBLまたはEILの素材は、白色OLEDの製造分野で通常的に使用される素材を使用し、また、その形成方法も一般的な方式を使用した。OLEDの具体的な積層構造は、下記表1の通りである。
コーティング液の製造時に高分子ビーズの量を1.5gに変更したことを除いて、実施例1と同一の方式で基板を製造し、また、その平坦面にOLED素子を形成した。
OLED素子用として研磨処理されたムアルカリガラス基板上に前記実施例1の表で記載されたものと同一の構造のOLED素子を形成した。
基板上に実施例1で製造した高屈折散乱層用コーティング液をコーティングした。
実施例1、2及び比較例1、2で製作された基板に対する平坦度を測定した。具体的には、各実施例及び比較例で製作された基板の透明ガラス基板の反対面に対する最大高さ粗度(maximum height roughness)を測定した。最大高さ粗度は、製造されたサンプルに対して10x10μm2領域範囲内で測定した最大高さと最低高さとの差を測定した。測定結果はは、下記表2に示す。
実施例及び比較例で製造されたOLEDを0.4mAの定電流駆動条件下で駆動させ、抽出される光の光束を測定し、光抽出効率を評価した。光束の測定時には、OLED素子が形成されている面とは反対面のガラス基板にガラス基板と同一の屈折率である1.52の屈折率を有する半球型レンズを付着し、積分球を利用して素子から放出される光の量を測定した。測定結果は、下記表3に示す。
22 高屈折散乱層
21 接着層
30 散乱粒子
40 第1電極
50 有機層
60 第2電極
Claims (16)
- 基材と;前記基材上に形成され、高屈折物質内に光を散乱させる散乱粒子を含む高屈折散乱層と;前記基材と前記高屈折散乱層との間に形成され、基材と高屈折散乱層を接合する接着層と;を含み、
前記高屈折散乱層は、散乱粒子が高屈折物質に含浸された構造であり、
前記高屈折散乱層が接着層により基材と接合される面は、散乱粒子による凹凸が形成されており、高屈折散乱層が接着層により基材と接合された面の反対面は、平坦面が形成されていることを特徴とする有機発光素子用基板。 - 前記高屈折散乱層の一面に形成された平坦面の最大高さ粗度は、10x10μm2領域で、1μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子用基板。
- 前記高屈折散乱層の平均厚さは、散乱粒子の平均粒径より小さいことを特徴とする請求項1または2に記載の有機発光素子用基板。
- 前記高屈折散乱層内の高屈折物質の屈折率は、1.7以上であることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の有機発光素子用基板。
- 前記高屈折物質の屈折率Na、前記散乱粒子の屈折率Nb、前記基材の屈折率Nc及び前記接着層の屈折率Ndは、下記数式1及び数式2のうちいずれか1つの関系を満たすことを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の有機発光素子用基板。
[数式1]
|Na−Nb|≧0.2
[数式2]
|Nc−Nd|≦0.2 - 前記高屈折散乱層の平坦面上に形成された0.1から5μm厚さの高屈折物質コーティング層をさらに含むことを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の有機発光素子用基板。
- 有機または無機バインダー及び散乱粒子を含むコーティング液を使用して犠牲基板上に散乱層を形成する段階と;
形成された散乱層上に接着層を媒介で基材をラミネートする段階と;
前記犠牲基板を除去する段階と;を含む有機発光素子用基板の製造方法。 - 前記散乱層を形成する段階は、
コーティング液を前記犠牲基板に塗布する段階と;
塗布された前記コーティング液を乾燥する段階と;
乾燥した前記コーティング液を硬化させる段階と;を含むことを特徴とする請求項7に記載の有機発光素子用基板の製造方法。 - 前記犠牲基板を除去する段階後に、前記散乱層の前記犠牲基板が除去された面上に、
散乱粒子が含まれていないコーティング液を使用してコーティング層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項7または8に記載の有機発光素子用基板の製造方法。 - 前記コーティング液は、高屈折ナノ粒子をさらに含むことを特徴とする請求項7から9の何れか1項に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
- 前記高屈折ナノ粒子は、二酸化チタン、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ハフニウム、五酸化ニオブ、五酸化タンタル、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、酸化亜鉛、ケイ素、亜鉛黄、炭酸カルシウム、硫酸バリウム及び酸化マグネシウムよりなる群から選択される1種以上であることを特徴とする請求項10に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
- 前記高屈折ナノ粒子は、平均粒径が1から100nm範囲であることを特徴とする請求項10または11に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
- 前記散乱層内の散乱粒子は、単一層(monolayer)で形成されることを特徴とする請求項7から12の何れか1項に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
- 前記散乱粒子は、有機または無機粒子であることを特徴とする請求項7から13の何れか1項に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
- 前記散乱粒子は、球、楕円体または無定形であることを特徴とする請求項7から14の何れか1項に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
- 前記散乱粒子の平均粒径は、0.1μmから20μmであることを特徴とする請求項7から15の何れか1項に記載の有機発光素子用基板の製造方法。
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