CN110828517A - 显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开一些实施例公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于提高显示装置的显示亮度，从而提升显示装置的显示效果。所述显示基板，包括显示层、以及设置于所述显示层的出光面上的多个微透镜，所述多个微透镜中每个微透镜的光入射面和光出射面分别为凸面。其中，所述显示层包括至少一层薄膜，所述至少一层薄膜中与所述微透镜接触的薄膜的折射率小于所述微透镜的折射率。本公开一些实施例提供的显示基板及其制作方法、显示装置用于微显示。

Description

显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

微显示装置中的像素尺寸通常在微米级或者亚微米级。微显示装置的显示图像需要经过其内对应光学器件的放大，才能投影到人眼中完成显示。

目前，微显示装置能够应用于液晶显示(Liquid Crystal Display，简称LCD)、有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)显示或微机电系统(Micro-Electro-Mechanical System，简称MEMS)显示等技术领域。

然而，微显示装置中的显示光信号在经过对应光学器件的传播之后，容易因光损而出现亮度较低的问题，从而很难满足用户在户外使用时的需求。

发明内容

本公开一些实施例的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于提高显示装置的显示亮度，以满足显示装置在户外显示下的亮度需求，从而提升显示装置的显示效果。

为达到上述目的，本公开一些实施例提供了如下技术方案：

第一方面，提供了一种显示基板，包括显示层、以及设置于显示层的出光面上的多个微透镜。所述多个微透镜中每个微透镜的光入射面和光出射面分别为凸面。所述显示层包括至少一层薄膜，所述至少一层薄膜中与微透镜接触的薄膜的折射率小于微透镜的折射率。

在本公开一些实施例中，显示层的出光面上设有多个微透镜，且每个微透镜的光入射面和光出射面分别为凸面。这样当显示层的显示光信号入射至对应的微透镜中时，由于显示层中与微透镜接触的薄膜的折射率小于该微透镜的折射率，且每个微透镜的光入射面为凸面，因此，显示光信号在入射至微透镜的光入射面时会发生折射，且具有较小的折射角，从而能够对显示光信号进行聚拢，以确保显示光信号具有较高的显示亮度。此外，每个微透镜的光出射面为凸面，这样当位于微透镜的光出射面一侧的介质的折射率小于该微透镜的折射率时，利用微透镜的光出射面能够进一步对显示光信号进行聚拢，从而进一步提高显示光信号的显示亮度。

由此，本公开一些实施例提供的显示基板具有较高的显示亮度，能够确保包含该显示基板的显示装置的显示亮度较高，以满足显示装置在户外显示下的亮度需求，从而有效提升显示装置的显示效果。

在一些实施例中，所述凸面包括：弧形凸面；或，由至少两个平面连接构成的弯折曲面，所述弯折曲面向所述微透镜的光心所在的一侧弯折。

在一些实施例中，微透镜的第一尺寸与微透镜的第二尺寸的比值小于或等于三分之一，其中，微透镜的第一尺寸为微透镜的沿出光面的垂直方向上的最大尺寸，微透镜的第二尺寸为微透镜的沿出光面的平行方向上的最大尺寸。

在一些实施例中，显示层具有多个子像素。每个微透镜对应一个子像素，且该子像素在出光面上的正投影位于对应的微透镜在出光面上的正投影内。

在一些实施例中，每相邻的两个子像素之间具有间隔。在沿出光面的平行方向上，微透镜的最大尺寸小于或等于对应的子像素的最大尺寸与所述间隔的二分之一之和。

在一些实施例中，显示基板还包括覆盖于所述多个微透镜的远离显示层的表面上的平坦层，平坦层的折射率小于或等于微透镜的折射率。

第二方面，提供了一种显示基板的制作方法。所述显示基板的制作方法包括：形成显示层，所述显示层包括至少一层薄膜；在所述至少一层薄膜上形成多个微槽；在所述多个微槽的每个内形成微透镜，所述微透镜的光入射面与对应的所述微槽的内表面接触，所述微透镜的光入射面和光出射面分别为凸面。其中，所述至少一层薄膜中形成有所述多个微槽的薄膜的折射率小于所述微透镜的折射率。

本公开一些实施例提供的显示基板的制作方法所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

在一些实施例中，在所述多个微槽的每个内形成微透镜，包括：在所述至少一层薄膜上形成透光层，透光层填充满所述多个微槽；对透光层进行刻蚀，形成多个微透镜。

在一些实施例中，对透光层进行刻蚀，形成多个微透镜，包括：将透光层图案化，形成多个透光部，所述多个透光部中每个的光出射面为平面；对所述多个透光部进行加热烘干，得到多个微透镜。

第三方面，提供了一种显示装置。所述显示装置包括上述一些实施例所提供的显示基板。本公开一些实施例提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本公开一些实施例的进一步理解，构成本公开实施例的一部分，本公开的示意性实施例及其说明用于解释本公开，并不构成对本公开的不当限定。在附图中：

图1为本公开一些实施例提供的一种显示基板的俯视示意图；

图2为图1所示的显示基板中的一种A-A’向的剖面示意图；

图3为本公开一些实施例提供的另一种显示基板的俯视示意图；

图4为图3所示的显示基板中的一种A-A’向的剖面示意图；

图5为本公开一些实施例提供的又一种显示基板的俯视示意图；

图6为图5所示的显示基板中的一种A-A’向的剖面示意图；

图7为图6所示的微透镜的一种光路示意图；

图8为图5所示的显示基板中的另一种A-A’向的剖面示意图；

图9为图5所示的显示基板中的又一种A-A’向的剖面示意图；

图10为本公开一些实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程示意图；

图11为本公开一些实施例提供的另一种显示基板的制作方法的流程示意图；

图12为本公开一些实施例提供的又一种显示基板的制作方法的流程示意图；

图13为图9所示的显示基板的一种制作方法的步骤示意图。

具体实施方式

为便于理解，下面结合说明书附图，对本公开一些实施例提供的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是所提出的技术方案的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开的一些实施例，本领域技术人员所能获得的所有其他实施例，均属于本公开保护的范围。

在微显示装置中，其像素尺寸通常在微米级或者亚微米级，使得其所显示的图像需要经过其内对应光学器件的放大，才能投影到人眼中完成显示。

基于此，请参阅图1-图9，本公开一些实施例提供了一种显示基板01。显示基板01包括显示层1、以及设置于显示层1的出光面S上的多个微透镜211，所述多个微透镜21中每个微透镜21的光入射面和光出射面分别为凸面。

上述显示层1是指显示基板01中配置为显示图像的膜层，通常包括至少一层薄膜。例如，显示层1为至少包括像素层13在内的多层薄膜，该显示层1具体包括层叠设置的衬底11、像素电路层12、像素层13和封装层14。显示层1的出光面S为其配置为出射显示光信号的表面。

请参阅图2，上述衬底11配置为向衬底11上的其他薄膜提供支撑，该衬底11例如是玻璃基板或硅基板等硬性衬底，或者是聚酰亚胺(Polyimide，简称PI)薄膜、聚乙烯(polyethylene,简称PE)、聚丙烯(Polypropylene，简称PP)、聚苯乙烯(Poly(styrene),简称PS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate,简称PET)或聚对萘二甲酸乙二醇酯(Polyethylene naphthalate two formic acid glycol ester,简称PEN)等柔性衬底。

上述像素层13通常包括多个子像素130。在一些示例中，显示基板01采用RGB色彩模式进行显示，像素层13中的多个子像素130包括多个红色子像素R、多个绿色子像素G和多个蓝色子像素B，且各红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B按照三原色混色原则进行排布。

需要说明的是，每个子像素130包括一个发光器件。本公开一些实施例对发光器件的类型不做限定，具体根据实际需求选择设置便可。

在一些示例中，发光器件为主动式发光器件，例如OLED或量子点发光二极管(QLED)。可选的，发光器件为OLED。OLED通常包括相对设置的阳极和阴极，以及位于阳极和阴极之间的发光层；其中，阳极位于阴极的靠近衬底11的一侧，发光层为单层结构或多层结构。示例的，发光层包括层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电子复合层、电子传输层和电子注入层。

在又一些示例中，OLED为顶发光结构，也即从其阴极所在的一侧出射光信号。该OLED还包括位于阴极的远离发光层的一侧的光取出层，这样利用光取出层，能够有效提升OLED的光取出效率，从而提高其发光亮度。

此外，上述发光器件采用微发光器件，例如Mini LED、Micro LED、Micro OLED或微型量子点有机发光二极管(Micro Quantum Dot Light Emitting Diodes，简称MicroQLED)等，均可。

上述像素电路层12通常包括多个像素驱动电路以及多条信号线，以向对应的各子像素130分别提供像素驱动信号。其中，每个像素驱动电路包括至少一个薄膜晶体管和/或至少一个电容。每个薄膜晶体管的结构，可以根据实际需求选择设置。示例的，薄膜晶体管为非晶硅(α-Si)薄膜晶体管、低温多晶硅(LTPS)薄膜晶体管、高温多晶硅(HTPS)薄膜晶体管、单晶硅薄膜晶体管或氧化物(Oxide)薄膜晶体管。

上述封装层14通常设置于像素层13的远离像素驱动电路层12的一侧，能够对像素层13中的各发光器件(例如OLED)进行有效封装。示例的，封装层14为柔性封装层，其采用单层结构或多层结构，均可。

在一些示例中，封装层14包括层叠设置的无机层、有机层和无机层；其中，无机层为氮化硅层、氧化硅层或二者的叠层。

此外，在封装层14位于像素层13的出光侧的情况下，封装层14的远离像素层13的表面一般平坦化处理，这样能够确保显示层1具有平整的出光面S，进而确保显示层1具有均匀的出光亮度。

在上述一些实施例中，显示层1的至少一层薄膜中与微透镜21接触的薄膜的折射率小于微透镜21的折射率。例如，请参阅图2，显示层1中与微透镜21接触的薄膜为封装层14，封装层14的折射率小于微透镜21的折射率。

在封装层14采用无机层、有机层和无机层三叠层结构的情况下，与微透镜21接触的薄膜为封装层14的无机层，则该无机层的折射率小于微透镜21的折射率。进一步的，封装层14中无机层、有机层和无机层的折射率均小于微透镜21的折射率，只是该三层薄膜的折射率之间的大小关系，本公开一些实施例不作限定。

可选的，微透镜21采用具有高折射率、高粘度以及可热固化成型等特点的材料制作形成，例如聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane，简称PDMS)、聚甲基丙烯酸甲脂(poly(methyl methacrylate)，简称PMMA)、酚醛树脂或包含甲基烯丙基型含巯酯基单体的有机物等。这样不仅方便于制作微透镜21，还能确保其制作形成的微透镜21具有较高的折射率，以实现微透镜21对显示层1的出射光线的聚拢。

此外，在一些示例中，微透镜21的折射率的取值范围为1.5～1.8，对应与微透镜21接触的薄膜14的折射率的取值范围为1.0～1.5。

请参阅图6和图7，当显示层1的显示光信号入射至对应的微透镜21中时，由于显示层1中与微透镜21接触的薄膜的折射率小于该微透镜21的折射率，且每个微透镜21的光入射面为凸面，因此，显示光信号在入射至微透镜21的光入射面时会发生折射且具有较小的折射角，例如图7中所示，显示光信号在入射至微透镜21后折射角β＜其入射角θ，从而能够对显示光信号进行聚拢，以确保显示光信号具有较高的显示亮度。

上述微透镜21的光出射面也为凸面。微透镜21的光出射面是否设置透光介质，根据实际需求选择设置即可。

在一些示例中，请继续参阅图6和图7，微透镜21的光出射面与空气接触(未设置介质)，也即微透镜21的光出射面为显示基板01的显示面。空气的折射率为1，微透镜21的折射率通常大于空气的折射率，这样从微透镜21出射的显示光信号在微透镜21与空气二者的交界面会发生折射且具有较大的折射角。例如图7中所示，显示光信号从微透镜21出射后的折射角μ＞其在微透镜21与空气二者的交界面的入射角δ。由于微透镜21的光出射面为凸面，所以从微透镜21出射的显示光信号会在微透镜21的光出射面的作用下进一步聚拢，从而进一步提高显示光信号的显示亮度。

在另一些示例中，微透镜21的光出射面设置有透光介质。如图9所示，显示基板01还包括覆盖于多个微透镜21的光出射面(即远离显示层1的表面)上的平坦层3，该平坦层3的折射率小于或等于微透镜21的折射率。这样从微透镜21出射的显示光信号在入射至平坦层3时会发生折射且具有较大的折射角。由于微透镜21的光出射面为凸面，所以从微透镜21出射的显示光信号会在微透镜21的光出射面的作用下进一步聚拢，从而进一步提高显示光信号的显示亮度。

此外，平坦层3可以对多个微透镜21的光出射面进行平整化处理，也即确保显示基板01具有平整的光出射面，以使得从各微透镜21的光出射面出射的显示光信号能够在显示基板01上均匀出光，从而有效提升显示基板01的显示效果。

进一步的，如图9所示，显示基板01还包括覆盖于平坦层3的远离微透镜21的表面上的透光盖板4，例如玻璃盖板。在微透镜21的光出射面上设置平坦层3，方便于实现透光盖板4与平坦层3的贴合。

需要说明的是，上述微透镜21的光入射面和光出射面分别为凸面。

在一些示例中，所述凸面包括弧形凸面。

请参阅图2和图4，微透镜21的光入射面和光出射面均为弧形凸面，也即该光入射面和光出射面在沿显示层1的垂直方向上的剖面形状为圆弧形。此处，光入射面和光出射面具备相同的曲率或不同的曲率，均可。

可选的，光入射面和光出射面均呈轴对称的弧形凸面。

在另一些示例中，所述凸面包括由至少两个平面连接构成的弯折曲面，所述弯折曲面向微透镜21的光心所在的一侧弯折。

请参阅图6，微透镜21的光入射面为由至少两个平面连接构成的弯折曲面，也即其在沿显示层1的垂直方向上的剖面形状为不封闭的多边形，例如三角形或七边形等，该多边形的几何中心位于其远离显示层1的一侧。

值得一提的是，请参阅图2、图4和图6，在本公开一些实施例中，微透镜21的第一尺寸H与其第二尺寸L的比值小于或等于三分之一。其中，微透镜21的第一尺寸H为其沿显示层1的出光面S的垂直方向上的最大尺寸，例如微透镜21的高度。微透镜21的第二尺寸L为其沿显示层1的出光面S的平行方向上的最大尺寸，例如微透镜21的长度。

通过合理控制微透镜21中第一尺寸H和第二尺寸L之间的比值，能够在微透镜21的光入射面和光出射面分别为凸面的情况下，确保微透镜21的表面曲率位于一合理的范围内，以使得各微透镜21对显示光信号的聚拢作用能够较好地满足用户的需求，从而确保显示基板01具有较好的显示效果。

可以理解的是，在本公开一些实施例中，如图1、图3和图5所示，显示层1包含多个子像素130。各微透镜21与多个子像素130一一对应，也即每个微透镜21对应一个子像素130。并且，每一子像素130在显示层1的出光面S上的正投影位于对应的微透镜21在显示层1的出光面S上的正投影内。这样每个子像素130的显示光信号均能在穿过对应的微透镜21之后出射，从而有效实现显示光信号的聚拢出光，以提升显示基板01的显示亮度。

此处，各子像素130的形状可以根据实际需求选择设置，例如子像素130在显示层1的出光面S上的正投影为如图1所示的圆形、如图3所示的椭圆形或如图5所示的矩形等。各微透镜21的形状通常匹配对应子像素130的形状设置。示例的，如图8所示，显示基板01为OLED显示基板，各子像素130的形状通过像素界定层的像素开口区予以限定。

在一些实施例中，请继续参阅图1、图3和图5，各子像素130在显示层1的出光面S上的正投影的形状与对应的微透镜21在显示层1的出光面S的正投影的形状相同或相似。当然，二者不同也是允许的，本公开一些实施例对此不做限定。

需要说明的是，考虑到显示基板01的制作工艺，各子像素130在沿衬底11的垂直方向上的剖面形状通常呈梯形。如此，如图8所示，上述子像素130在显示层1的出光面S上的正投影，是指该子像素130的沿衬底11的平行方向上的最小平面Q在出光面S上的正投影。

当然，由于本公开一些实施例应用于微显示领域，因此，即使各子像素130在沿衬底11的垂直方向上的剖面形状呈梯形，各子像素130的上下底面在出光面S上的正投影之间的间隔可以忽略不计，也即取任一底面在出光面S上的正投影均可。

可以理解的是，在本公开一些实施例中，在沿显示层1的出光面S的平行方向上，每相邻的两个子像素130之间具有间隔。相应的，与各子像素130一一对应的每两个微透镜21之间也具有间隔。

基于此，在沿显示层1的出光面S的平行方向上，控制微透镜21的最大尺寸小于或等于一阈值，该阈值为对应的子像素130的最大尺寸与每相邻的两个子像素130之间间隔的二分之一之和。也即，如图9所示，在沿显示层1的出光面S的平行方向上，若每相邻的两个子像素之间的间隔为M，子像素的最大尺寸为Q，微透镜21最大尺寸为N，则N≤Q+1/2M。这样通过限制微透镜21在沿显示层1的出光面S的平行方向上的最大尺寸，能够合理分布各微透镜21，以避免多个微透镜21发生干涉，或对相邻微透镜21的光路造成不良影响。

本公开一些实施例还提供了一种显示基板的制作方法，用于制作上述一些实施例所述的显示基板01。如图10所示，该显示基板的制作方法包括S100～S300。

S100，形成显示层，该显示层包括至少一层薄膜。

示例的，显示层为至少包括像素层13在内的多层薄膜。如图2所示，该显示层1具体包括层叠设置的衬底11、像素电路层12、像素层13和封装层14。

S200，在显示层的至少一层薄膜上形成多个微槽。

示例的，请参阅图13中的(a)和(b)，采用旋涂或狭缝涂布的方式，在显示层1(例如封装层14)上涂布光刻胶5。根据掩膜板(MASK)的图案，通过曝光、显影及刻蚀等工艺，在显示层的至少一层薄膜上形成多个微槽，该多个微槽与显示层1中的多个子像素130一一对应。

可选的，显示层包括封装层，该封装层采用氮化硅材料制作形成。在封装层上形成多个微槽一般采用干法刻蚀完成，其对应的反应方程式为：

Si₃N₄+18HF＝3H₂(SiF₆)+4NH₃。

此处，光刻胶5为正性光刻胶或负性光刻胶，均可。掩膜板的图案与光刻胶的正负性匹配设置。

S300，在多个微槽的每个内形成微透镜21，微透镜21的光入射面与对应的微槽的内表面接触，微透镜21的光入射面和光出射面分别为凸面。

此处，微槽的内表面与待形成的微透镜的光入射面相关，也即微槽的内表面的形状与待形成的微透镜的光入射面的形状相同。微透镜的光入射面的形状可参考前述一些实施例，此处不做赘述。

此外，显示层的至少一层薄膜中形成有多个微槽的薄膜的折射率小于微透镜的折射率，也即，微透镜采用折射率大于其接触薄膜的折射率的透光材料制作形成，例如聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane，简称PDMS)、聚甲基丙烯酸甲脂(poly(methylmethacrylate)，简称PMMA)、酚醛树脂或包含甲基烯丙基型含巯酯基单体的有机物等材料。这样不仅方便于制作微透镜，还能确保其制作形成的微透镜具有较高的折射率，以实现微透镜对显示层的出射光线的聚拢。

本公开一些实施例提供的显示基板的制作方法所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

在一些实施例中，请参阅图11，上述S300包括S301～S302。

S301，在显示层的至少一层薄膜上形成透光层，所述透光层填充满所述多个微槽。

示例的，请参阅图13中的(c)，采用旋涂或狭缝涂布方式，在显示层的形成有多个微槽的薄膜上涂布透光材料，形成透光层2。该透光层2填充满各微槽，以利用其位于各微槽内的部分以及其沿显示层的平行方向上的平铺部分形成微透镜。

S302，对透光层进行刻蚀，形成多个微透镜。

此处，透光层的刻蚀方式可以有多种，例如湿法刻蚀、干法刻蚀或等离子刻蚀等。

可选的，根据半色调掩膜板的图案，对透光层的沿显示层的平行方向上的平铺部分直接刻蚀，形成光出射面为凸面的多个微透镜。各微透镜的结构及其形状等，请参见前述一些实施例中的相关记载，此处不做赘述。

在另一些实施例中，请参阅图12，上述S302中对透光层2进行刻蚀，形成多个微透镜21，包括S3021～S3022。

S3021，将透光层图案化，形成多个透光部，所述多个透光部中每个的光出射面为平面。

示例的，请参阅图13中的(d)，将透光层2图案化，一般是根据掩膜板的图案，采用曝光、显影及刻蚀等工艺实现。请参阅图13中的(e)，在将透光层2图案化之后，可以得到多个透光部210。其中，每一透光部210的与对应微槽接触的表面为相应微透镜的光入射面；每一透光部210的远离微槽的表面为光出射面，该光出射面为平面，需要再进行处理形成凸面后方能作为相应微透镜的光出射面，并得到相应的微透镜21。

S3022，对所述多个透光部进行加热烘干，得到多个微透镜。

示例的，请参阅图13中的(f)，在透光部210的表面为平面的情况下，在各透光部210的上方设置加热板6，并通过加热板6对各透光部210进行温度为100°～120°的加热，可以在不影响显示层1中各薄膜性能的基础上，通过加热使得各透光部210的棱角平滑收缩，并在烘干后形成弧形凸面，从而得到如图13中的(g)所示的多个微透镜21。

此处，加热板6的结构及其加热温度，可以根据实际需求选择设置，例如结合显示层1的各薄膜材料以及微透镜21制作材料的特性综合确定。

此外，在利用加热板6加热之后，每一透光部210位于不同区域的棱角能够实现相同或近似相同程度的收缩，也即该不同区域的棱角的收缩偏差可以忽略不计，从而获得较为对称平滑的弧形凸面。

在一些实施例中，显示基板还包括形成在各微透镜21的光出射面的平坦层，请参阅图13中的(h)，显示基板的制作方法还包括在各微透镜21的光出射面形成平坦层3。平坦层3采用折射率小于或等于微透镜21的折射率的材料制作形成，能够使得从微透镜21出射的显示光信号在入射至平坦层3时发生折射且具有较大的折射角。由于微透镜21的光出射面为凸面，所以从微透镜21出射的显示光信号会在微透镜21的光出射面的作用下进一步聚拢，从而进一步提高显示光信号的显示亮度。

此外，平坦层3可以对多个微透镜21的光出射面进行平整化处理，也即确保显示基板01具有平整的光出射面，以使得从各微透镜21的光出射面出射的显示光信号能够在显示基板01上均匀出光，从而有效提升显示基板01的显示效果。

在一些实施例中，显示基板还包括透光盖板。上述显示基板的制作方法还包括在平坦层的远离微透镜的表面上贴合透光盖板。

本公开一些实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述一些实施例提供的显示基板。本公开一些实施例提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

在一些示例中，所述显示装置为LCD显示装置、MEMS显示装置、OLED显示装置、micro OLED显示装置、QLED显示装置、Mini LED、或Micro LED显示装置等。

本公开一些实施例提供的上述显示装置可以是应用于微显示领域，不论是运动(例如，视频)的还是固定(例如，静止图像)的，且不论是文字还是图画的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中，所述多种电子装置包括但不限于移动电话、无线装置、个人数据助理(Portable Android Device，缩写为PAD)、手持式或便携式计算机、GPS(Global Positioning System，全球定位系统)接收器/导航器、相机、MP4(全称为MPEG-4Part 14)视频播放器、摄像机、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、美学结构(例如，对于显示一件珠宝的图像的显示器)等。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

显示层；以及，

设置于所述显示层的出光面上的多个微透镜，所述多个微透镜中每个微透镜的光入射面和光出射面分别为凸面；

其中，所述显示层包括至少一层薄膜，所述至少一层薄膜中与所述微透镜接触的薄膜的折射率小于所述微透镜的折射率。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸面，包括：

弧形凸面；或，

由至少两个平面连接构成的弯折曲面，所述弯折曲面向所述微透镜的光心所在的一侧弯折。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述微透镜的第一尺寸与所述微透镜的第二尺寸的比值小于或等于三分之一；

其中，所述微透镜的第一尺寸为所述微透镜的沿所述出光面的垂直方向上的最大尺寸，所述微透镜的第二尺寸为所述微透镜的沿所述出光面的平行方向上的最大尺寸。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示层包括多个子像素；

每个所述微透镜对应一个子像素，且所述子像素在所述出光面上的正投影位于对应的所述微透镜在所述出光面上的正投影内。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，每相邻的两个子像素之间具有间隔；

在沿所述出光面的平行方向上，所述微透镜的最大尺寸小于或等于对应的所述子像素的最大尺寸与所述间隔的二分之一之和。

6.根据权利要求1～5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括覆盖于所述多个微透镜的光出射面上的平坦层，所述平坦层的折射率小于或等于所述微透镜的折射率。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成显示层，所述显示层包括至少一层薄膜；

在所述至少一层薄膜上形成多个微槽；

在所述多个微槽的每个内形成微透镜，所述微透镜的光入射面与对应的所述微槽的内表面接触，所述微透镜的光入射面和光出射面分别为凸面；

其中，所述至少一层薄膜中形成有所述多个微槽的薄膜的折射率小于所述微透镜的折射率。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，

在所述多个微槽的每个内形成微透镜，包括：

在所述至少一层薄膜上形成透光层，所述透光层填充满所述多个微槽；

对所述透光层进行刻蚀，形成多个所述微透镜。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制作方法，其特征在于，对所述透光层进行刻蚀，形成多个所述微透镜，包括：

将所述透光层图案化，形成多个透光部，所述多个透光部中每个的光出射面为平面；

对所述多个透光部进行加热烘干，得到多个所述微透镜。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～6任一项所述的显示基板。

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