JP2014501686A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. ガラスに孔の高密度アレイを作製する方法において、前記方法が、
   前面を有するガラス品を提供する工程、及び
   前記ガラス品の前記前面をＵＶレーザビームで照射する工程、
   を含み、
   前記ビームがレンズによって前記ガラス品の前記前面の±１００μｍ内に集束され、
   前記ガラス品の前記前面から前記ガラス品に延び込む開孔を形成するため、前記レンズが０.１〜０．４の範囲の開口数を有し、
   前記孔が５〜１５μｍの範囲の直径及び少なくとも２０：１のアスペクト比を有する、
   ことを特徴とする方法。
2. 前記照射する工程が近ＵＶレーザビームを使用する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記照射する工程に用いられる前記近ＵＶレーザが３３５μｍの波長で動作させたＮｄ：ＫＧＷ（ネオジムドープカリウム−ガドリニウムタングステン）レーザであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
4. 前記照射する工程に用いられる前記レンズの前記開口数が０.１〜０.１５の範囲内にあることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
5. 前記レンズの前記開口数が０.１２〜０.１３の範囲内にあることを特徴とする請求項４に記載の方法。
6. 前記照射する工程の間、前記レーザを１０〜２０ｋＨｚの範囲の繰返し数で動作させることを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 前記照射する工程が前記ガラス品の前記表面をＵＶレーザビームにより、孔当たり６０〜１２０ミリ秒の範囲の持続時間をかけて、照射する工程を含むことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の方法。
8. 前記照射する工程が前記ガラス品の前記表面をＵＶレーザビームにより、形成される孔を前記ガラス品のちょうど背面まで延びさせるであろう持続時間であるように実験または計算によって決定された持続時間をかけて、照射する工程を含むことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の方法。
9. 前記方法が前記ガラス品をＨＦ＋ＨＮＯ_３溶液内でエッチングする工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の方法。
10. 前記照射する工程の後で前記エッチングする工程の前に前記ガラス品の前記前面を研磨する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の方法。