JP2014182794A - 半導体装置及び半導体パッケージ - Google Patents

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泰 善 金
Kyoungmook Lim
慶 默 林
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Abstract

【課題】システムオンチップ(System on Chip;SOC)及び少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置(WideI/O memory device)を含み、システムオンチップは互いに独立的な入出力チャネルを提供する半導体装置を提供する。
【解決手段】複数のSOCバンプ部を含む。少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置はシステムオンチップの上部に積層され、複数のSOCバンプ部を通じてシステムオンチップとデータを送受信する。第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置が複数のSOCバンプ部に連結され、システムオンチップとデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置が複数のSOCバンプ部のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、システムオンチップとデータを送受信する。半導体装置は同様のシステムオンチップに多様な容量または、帯域幅を有するワイド入出力メモリ装置を積層してもよい。
【選択図】 図3

Description

本発明は、半導体装置に係り、より詳細にはシステムオンチップ(System on Chip;SOC)上にマルチチャネルインターフェース方式のワイド入出力メモリ装置(WideIO memory)が積層される半導体装置及びこれを含む半導体パッケージに関する。
最近、貫通シリコンビア(Through Silicon Via;TSV)を用い、SOC上にマルチチャネルインターフェース方式のワイド入出力メモリ装置(WideI/O memory)を積層した半導体装置が用いられている。
しかしながら、SOCで使用しようとするメモリの容量(density)または、帯域幅(band width)が増加する場合、SOCに積層しなければならないワイド入出力メモリ装置の個数が増加することにより、SOCに形成されるTSV領域の大きさも増加させなければならない。
したがって、使おうとするメモリの容量(density)または、帯域幅(bandwidth)に係るSOCを改めて設計しなければならないという問題点がある。
米国公開特許第2012−0059984号公報 米国公開特許第2011−0193086号公報 米国公開特許第2010−0174858号公報
前記のような問題点を解決するための本発明の一目的は、一定の大きさのTSV領域を有するSOCに多様な容量または、帯域幅を有するワイド入出力メモリ装置を積層できる半導体装置を提供することにある。
本発明における、その他の目的は、前記半導体装置を含む半導体パッケージを提供することにある。
上述した本発明の目的を達成するために、本発明のある実施例に係る半導体装置はシステムオンチップ(System on Chip;SOC)及び少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置(WideIO memory device)を含む。前記システムオンチップは互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部を含む。前記少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置は前記システムオンチップの上部に積層され、前記複数のSOCバンプ部を通じて前記システムオンチップとデータを送受信する。第1モードにおいて、ひとつのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部のすべてに連結され、前記システムオンチップとデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれが連結され、前記システムオンチップとデータを送受信する。
一実施例において、前記ワイド入出力メモリ装置は、複数のメモリセルアレイ及び前記複数のメモリセルアレイに連結され、互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のメモリバンプ部を含んでもよい。
前記システムオンチップは互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供する第1〜第4SOCバンプ部を含み、前記ワイド入出力メモリ装置は互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供する第1〜第4メモリバンプ部を含んでもよい。
前記第1モードにおいて、前記ワイド入出力メモリ装置に含まれる前記第1〜第4メモリバンプ部は前記システムオンチップに含まれる前記第1〜第4SOCバンプ部にそれぞれ連結され、前記第2モードにおいて、第1ワイド入出力メモリ装置に含まれる前記第1〜第4メモリバンプ部のうちの二つは前記システムオンチップに含まれる前記第1〜第4SOCバンプ部のうちの二つにそれぞれ連結され、第2ワイド入出力メモリ装置に含まれる前記第1〜第4メモリバンプ部のうちの二つは前記システムオンチップに含まれる前記第1〜第4SOCバンプ部のうちの残りの二つにそれぞれ連結してもよい。
前記ワイド入出力メモリ装置は、前記第1〜第4メモリバンプ部にそれぞれ連結され、前記第1〜第4メモリバンプ部のそれぞれを通じてデータを送受信する第1〜第4制御回路及び前記第1〜第4制御回路の動作を制御するコントローラをさらに含んでもよい。
前記ワイド入出力メモリ装置に含まれる前記複数のメモリセルアレイはそれぞれが少なくとも一つのメモリセルアレイを含む第1〜第4メモリセルアレイブロックに区分され、前記第1及び第3メモリセルアレイブロックに含まれるメモリセルアレイは前記第1及び第3制御回路に共通に連結され、前記第2及び第4メモリセルアレイブロックに含まれるメモリセルアレイは前記第2及び第4制御回路に共通に連結してもよい。
前記第1モードにおいて、前記第1〜第4制御回路はそれぞれの前記第1〜第4メモリバンプ部を通じて前記第1〜第4メモリセルアレイブロックと前記システムオンチップの間にデータ送受信を行い、前記第2モードにおいて、前記第3及び第4制御回路はターンオフされ、前記第1制御回路は前記第1メモリバンプ部を通じて前記第1及び第3メモリセルアレイブロックと前記システムオンチップの間にデータ送受信を行い、前記第2制御回路は前記第2メモリバンプ部を通じて前記第2及び第4メモリセルアレイブロックと前記システムオンチップの間にデータ送受信を行ってもよい。
前記ワイド入出力メモリ装置は、前記第1モードにおいて第1周波数を有する第1クロック信号に同期され動作し、前記第2モードにおいて、前記第1周波数の二倍に相応する第2周波数を有する第2クロック信号に同期され動作してもよい。
前記ワイド入出力メモリ装置は、前記第1モードにおいて、SDR(Single Date Rate)方式で作動し、前記第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式で動作してもよい。
一実施例において、前記システムオンチップは、前記複数のSOCバンプ部のそれぞれに連結される複数のメモリコントローラ、前記複数のメモリコントローラにクロック信号を提供するクロック信号生成部及び第1制御信号を用いて前記クロック信号生成部の動作を制御し、第2制御信号を用い、前記複数のメモリコントローラの動作を制御する中央処理装置(Central Processing Unit;CPU)をさらに含んでもよい。
前記クロック信号生成部は前記第1制御信号に基づいて前記第1モードで第1周波数を有する前記クロック信号を生成し、前記第2モードで、前記第1周波数の二倍に相応する第2周波数を有する前記クロック信号を生成してもよい。
前記複数のメモリコントローラは前記第2制御信号に基づいて前記第1モードにおいて、SDR(Single Date Rate)方式で作動し、前記第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式で働いてもよい。
前記中央処理装置は外部から受信される設定値に基づいて、前記第1制御信号及び前記第2制御信号を生成してもよい。
一実施例において、前記システムオンチップは、前記複数のSOCバンプ部に連結され、前記システムオンチップを貫通し、前記少なくともいずれの一つかにワイド入出力メモリ装置と電気的に連結される貫通シリコンビア(Through Silicon Via;TSV)をさらに含んでもよい。
上述した本発明の目的を達成するために、本発明の一例に係る半導体パッケージはベース基板、システムオンチップ及び少なくともいずれの一つかにワイド入出力メモリ装置を含む。前記システムオンチップは前記ベース基板の上部に積層され、それぞれが互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部を含み、前記複数のSOCバンプ部を通じて前記ベース基板に連結される。前記少なくともいずれの一つかにワイド入出力メモリ装置は前記システムオンチップの上部に配置され、前記複数のSOCバンプ部を通じて前記システムオンチップとデータを送受信する。前記少なくともいずれの一つかに少なくともいずれの一つかにワイド入出力メモリ装置は前記複数のSOCバンプ部に連結され、前記システムオンチップを貫く貫通シリコンビア(Through Silicon Via;TSV)を通じて前記システムオンチップと電気的に連結される。第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部のすべてに連結され、前記システムオンチップとデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、前記システムオンチップとデータを送受信する。
本発明の実施例に係る半導体装置は同様のSOCに多様な容量または、帯域幅を有するワイド入出力メモリ装置を積層してもよい。
本発明の一実施例に係る半導体装置に含まれるSOC及びワイド入出力メモリ装置を示したブロック図。 本発明の一実施例に係る半導体装置が第1モードにより形成された場合を示したブロック図。 本発明の一実施例に係る半導体装置が第2モードにより形成された場合を示したブロック図。 図2及び図3の半導体装置でSOCとワイド入出力メモリ装置の連結を説明するための断面図。 図2及び図3の半導体装置に含まれるSOCの一例を示したブロック図。 図2及び図3の半導体装置に含まれるワイド入出力メモリ装置の一例を示したブロック図。 図2及び図3の半導体装置に含まれるワイド入出力メモリ装置の他の例を示したブロック図。 本発明の一実施例に係る半導体パッケージを示したブロック図。 本発明の実施例に係る半導体パッケージがモバイルシステムに応用された例を示した図。
本文に開示されている本発明の実施例に対し、特定の構造的または機能的説明は単に本発明の実施例を説明するための目的として例示され、本発明の実施例は多様な形態で実施することができる。本文に説明された実施例に限定されるものと解釈してはならない。
本発明は多様な変更を加えることができ、様々な形態を有することができるため、特定実施例を図面に示し、本文に詳細に説明する。しかしながら、これは本発明を特定した開示形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物または代替物を含むものとして理解しなければならない。
第1、第2等の用語は多様な構成要素を説明するために使うことができるが、これらの構成要素は前記用語によって限定されるものではない。前記用語は一つの構成要素をその他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から離脱せずに、第1構成要素は第2構成要素と命名することができ、同様に第2構成要素も第1構成要素と命名してもよい。
ある構成要素が異なる構成要素に「連結され」あるいは「接続され」と言及された場合には、その他の構成要素に直接的に連結されるか、または、接続されていることもあり得るが、間にその他の構成要素が存在してもよいと、理解しなければならない。反面、ある構成要素が異なる構成要素に「直接連結され」、あるいは「直接接続され」と言及された場合には、間にその他の構成要素が存在しないと理解しなければならない。構成要素どうしの関係を説明するその他の表現、即ち「〜間に」と「すぐに〜間に」または「〜に隣り合わせる」と「〜に直接隣り合う」等も同様に解釈しなければならない。
明細書中で用いられた用語は単に特定の実施例を説明するために用いられるもので、本発明を限定しようとする意図はない。単数の表現は文脈上、明確に異なることを意味しない限り、複数の表現を含む。明細書中において、「含む」または「持つ」等の用語は実施された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品または、これらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするものであって、一つまたは、それ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部分品または、これらを組み合わせたものなどの存在、または、付加の可能性をあらかじめ排除しないものとして理解しなければならない。
異なって定義されない限り、技術的や科学的な用語を含め、明細書中で使われるすべての用語は本発明が属する技術分野において通常の知識を持った者によって一般的に理解されるものと同様の意味を有する。一般的に使われる辞書に定義されているような用語は関連技術の文脈上の持つ意味と一致する意味であると解釈されるべきで、明細書中で明確に定義しない限り、理想的や過度に形式的な意味と解釈してはならない。
以下、添付した図面を参照し、本発明の望ましい実施例をより詳細に説明する。図面上、同様の構成要素に対しては同様の参照符号を用い、同様の構成要素に対して重複した説明は省略する。
図1は本発明の一実施例に係る半導体装置に含まれるSOC及びワイド入出力メモリ装置を示したブロック図である。
図1を参照すると、半導体装置10はSOC100及び少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200を含む。
SOC100は互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部110a乃至110dを含む。
ワイド入出力メモリ装置200は複数のメモリセルアレイを含む。また、ワイド入出力メモリ装置200は複数のメモリセルアレイに連結され、互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のメモリバンプ部210a乃至210dを含む。
少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200はSOC100の上部に積層され、複数のSOCバンプ部110a乃至110dを通じてSOC100とデータを送受信する。
例えば、SOC100上に積層されるワイド入出力メモリ装置200に含まれる複数のメモリバンプ部210a乃至210dのうちの少なくとも一つはSOC100に含まれる複数のSOCバンプ部110a乃至110dのうちの少なくとも一つと連結してもよい。
具体的に、第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置200が複数のSOCバンプ部110a乃至110dすべてに連結され、SOC100とデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置200が複数のSOCバンプ部110a乃至110dのうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、SOC100とデータを送受信する。
SOC100は複数のSOCバンプ部110a乃至110dが提供する互いに独立的な複数のチャネルを通じて上部に配置される少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200とデータを送受信するのでデータの高速送受信が可能である。
一実施例において、図1に示すように、SOC100は互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供する第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dを含み、ワイド入出力メモリ装置200は互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供する第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dを含んでもよい。
図2は本発明の一実施例に係る半導体装置が第1モードにより形成された場合を示したブロック図である。
図2を参照すれば、半導体装置10aは第1モードにおいてSOC100上に積層された一つのワイド入出力メモリ装置200を含んでもよい。
具体的に、図2に示すように、第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置200に含まれる第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dはSOC100に含まれる第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dにそれぞれ連結してもよい。したがって、SOC100は一つのワイド入出力メモリ装置200と4チャネルインターフェースに連結され、データを送受信してもよい。
図3は本発明の一実施例に係る半導体装置が第2モードによって形成された場合を示したブロック図である。
図3を参照すれば、半導体装置10bは第2モードにおいて、SOC100上に積層された2つのワイド入出力メモリ装置200を含んでもよい。
具体的に、図3に示すように、第2モードにおいて、第1ワイド入出力メモリ装置200-1に含まれる第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dのうちの2つの210c、210dはSOC100に含まれる第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dのうちの2つの110a、110bに連結され、第2ワイド入出力メモリ装置200-2に含まれる第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dのうちの二つの210a及び210bはSOC100に含まれる第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dのうちの二つの110c、110dに連結運がある。したがってシステムオンチップ100は2つのワイド入出力メモリ装置200-1及び200-2とそれぞれの2チャネルインターフェースに連結され、データを送受信してもよい。
上述したように、第2モードにおいて、SOC100に連結されるワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)は第1モードにおいて、SOC100に連結されるワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)の二倍になってもよい。
図4は図2及び図3の半導体装置において、SOCとワイド入出力メモリ装置の連結を説明するための断面図である。
図4を参照すれば、SOC100は複数のSOCバンプ部110に連結され、SOC100を貫く貫通シリコンビア(Through Silicon Via;TSV)120をさらに含んでもよい。
図4に示すように、少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200はフリップチップボンディング(flip-Chip bonding)を通じてSOC100の上部に積層してもよい。即ち、少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200に含まれる複数のメモリバンプ部210はTSV120に連結されることによって少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200はSOC100と電気的に連結される。
図5は図2及び図3の半導体装置に含まれるSOCの一例を示したブロック図である。
図5を参照すれば、SOC100は第1〜第4SOCバンプ部110a乃至SOCバンプ部110d、第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120d、クロック信号生成部130及び中央処理装置(Central Processing Unit;CPU)140を含んでもよい。
中央処理装置140は第1制御信号CON1を用いてクロック信号生成部130の動作を制御し、第2制御信号CON2を用いて第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dの動作を制御してもよい。
クロック信号生成部130は第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dにクロック信号CLKを提供してもよい。クロック信号生成部130が生成するクロック信号CLKはSOC100の上部に積層されるワイド入出力メモリ装置200の動作周波数と同様の周波数を有することができる。クロック信号生成部130は第1制御信号CON1に基づいてクロック信号CLKの周波数を決めることができる。
第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dは互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供してもよい。
第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dのそれぞれは第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dのそれぞれに連結してもよい。第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dのそれぞれはクロック信号生成部130から提供されるクロック信号CLKに同期され第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dそれぞれを通じてSOC100の上部に積層されるワイド入出力メモリ装置200と独立的にデータを送受信してもよい。第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dは第2制御信号CON2に基づいて動作プロトコル(protocol)を決めることができる。例えば、第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dは第2制御信号CON2に基づいてSDR(Single Date Rate)方式またはDDR(Double Data Rate)方式で動作してもよい。
中央処理装置140は外部から受信される設定値(SV)に基づいて第1制御信号CON1及び第2制御信号CON2を生成してもよい。外部から受信される設定値(SV)は半導体装置10が第1モードによって形成されるのか第2モードによって形成されるのかを示すことができる。
図6及び図7は図2及び図3の半導体装置に含まれるワイド入出力メモリ装置の一例を示したブロック図である。
図6及び図7を参照すれば、ワイド入出力メモリ装置200a及び200bは第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210d、第1〜第4制御回路220a乃至220d、コントローラ230及び第1〜第4メモリセルアレイブロック240a乃至240dを含んでもよい。
第1〜第4メモリセルアレイブロック240a乃至240dのそれぞれは少なくとも一つのメモリセルアレイを含んでもよい。一実施例において、図6に示すように、第1〜第4メモリセルアレイブロック240a乃至240dのそれぞれは2つのメモリセルアレイ241乃至248を含んでもよい。他の実施例において、図7に示すように、第1〜第4メモリセルアレイブロック240a乃至240dのそれぞれは一つのメモリセルアレイ241、243、245、247を含んでもよい。図7に示されたワイド入出力メモリ装置200bは第1〜第4メモリセルアレイブロック240a乃至240dそれぞれが一つのメモリセルアレイ241、243、245、247を含むという事項を除いては図6に示されたワイド入出力メモリ装置200aと同一なので、以下では図6に示されたワイド入出力メモリ装置200aを中心に説明する。
コントローラ230は第1〜第4制御回路220a乃至220dの動作を制御してもよい。例えば、コントローラ230は第1〜第4制御回路220a乃至220dにクロック信号を提供し、第1〜第4制御回路220a乃至220dの動作プロトコルを決めることができる。
第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dは互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供してもよい。
第1〜第4制御回路220a乃至220dのそれぞれは第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dそれぞれに連結され、第1〜第4メモリバンプ部210a
乃至210dのそれぞれを通じてシステムオンチップ100と独立的にデータを送受信してもよい。
第1及び第3メモリセルアレイブロック240a、240cに含まれるメモリセルアレイ241、242、245、246は第1及び第3制御回路220a、220cに共通に連結され、第2及び第4メモリセルアレイブロック240b、240dに含まれるメモリセルアレイ243、244、247、248は第2及び第4制御回路220b、220dに共通に連結してもよい。
第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置200がSOC100の上部に積層されるので、ワイド入出力メモリ装置200に含まれる第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dはSOC100に含まれる第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dにそれぞれ連結してもよい。したがってコントローラ230は第1モードにおいて第1〜第4制御回路220a乃至220dの全てをターンオンさせることによって、一つのワイド入出力メモリ装置200はSOC100と4チャネルデータ送受信を行ってもよい。即ち、第1制御回路220aは第1メモリバンプ部210aを通じて第1メモリセルアレイブロック240aに含まれるメモリセルアレイ241及び242とSOC100との間にデータ送受信を行い、第2制御回路220bは第2メモリバンプ部210bを通じて第2メモリセルアレイブロック240bに含まれるメモリセルアレイ243及び244とSOC100との間にデータ送受信を行い、第3制御回路220cは第3メモリバンプ部210cを通じて第3メモリセルアレイブロック240cに含まれるメモリセルアレイ245及び246とSOC100との間にデータ送受信を行い、第4制御回路220dは第4メモリバンプ部210dを通じて第4メモリセルアレイブロック240dに含まれるメモリセルアレイ247及び248とSOC100との間にデータ送受信を行ってもよい。
第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置200がSOC100の上部に積層されるので、ワイド入出力メモリ装置200に含まれる第1〜第4メモリバンプ部210a乃至210dのうちの二つはSOC100に含まれる第1〜第4SOCバンプ部110a乃至110dのうちの二つにそれぞれ連結してもよい。したがってコントローラ230は第2モードにおいて、第1及び第2制御回路220a及び220bをターンオンさせ、第3及び第4制御回路220c及び220dはターンオフさせることによって、一つの第1ワイド入出力メモリ装置200はSOC100と2チャネルデータ送受信を行ってもよい。即ち、第1制御回路220aは第1メモリバンプ部210aを通じて第1メモリセルアレイブロック240a及び第3メモリセルアレイブロック240cに含まれるメモリセルアレイ241、242、245、246とSOC100との間にデータ送受信を行い、第2制御回路220bは第2メモリバンプ部210bを通じて第2メモリセルアレイブロック240b及び第4メモリセルアレイブロック240dに含まれるメモリセルアレイ243、244、247、248とSOC100との間にデータ送受信を行ってもよい。
上述した通り、図2に示すように、第1モードにおいてSOC100の上部に一つのワイド入出力メモリ装置200を積層し、半導体装置10aを構成し、ワイド入出力メモリ装置200は4チャネルを使用し、システムオンチップ100とデータ送受信を行ってもよい。一方、図3に示すように、第2モードにおいて、SOC100の上部に2つのワイド入出力メモリ装置200-1、200-2を積層し、半導体装置10bを構成し、2つのワイド入出力メモリ装置200-1、200-2のそれぞれは2チャネルを用い、SOC100とデータ送受信を行ってもよい。したがって、第1モード及び第2モードにおいて、SOC100とワイド入出力メモリ装置200の総帯域幅(band width)は同様であるが、第2モードにおいて、SOC100に連結されるワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)は第1モードにおいてSOC100に連結されるワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)の二倍になる。したがって、本発明の実施例に係る半導体装置10の場合、使おうとするワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)により、SOC100を新しく設計する必要はなく、一定の個数のSOCバンプ部110a乃至110dを有する
SOC100に多様な容量(density)のワイド入出力メモリ装置200を積層してもよい。
一実施例において、ワイド入出力メモリ装置200に含まれるコントローラ230は第1モードにおいて、第1〜第4制御回路220a乃至220dに第1周波数を有するクロック信号を提供し、第2モードにおいて、第3及び第4制御回路220c及び220dはターンオフさせ、第1及び第2制御回路220a及び220bに第1周波数の二倍に相応する第2周波数を有するクロック信号を提供してもよい。
この場合、SOC100に含まれるクロック信号生成部130は、第1制御信号CON1に基づいて第1モードにおいて、第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dに第1周波数を有するクロック信号CLKを提供し、第2モードにおいて、第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dに第1周波数の二倍に相応する第2周波数を有するクロック信号CLKを提供してもよい。
したがって、SOC100に含まれる第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120d及びワイド入出力メモリ装置200に含まれる第1〜第4制御回路220a乃至220dは第1モードにおいて、第1周波数を有するクロック信号に同期して動作し、第2モードにおいて、第2周波数を有するクロック信号に同期して動作してもよい。
その他の実施例において、ワイド入出力メモリ装置200に含まれるコントローラ230は、第1モードにおいて、第1〜第4制御回路220a乃至220dがSDR(Single Date Rate)方式で動作するように制御し、第2モードにおいて、第3及び第4制御回路220c及び220dはターンオフさせて第1及び第2制御回路220a及び220bがDDR(Double Data Rate)方式で動作するように制御してもよい。
この場合、システムオンチップ100に含まれる第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120dは第2制御信号CON2に基づいて第1モードにおいてSDR(Single Date Rate)方式で動作し、前記第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式で動作してもよい。
したがって、システムオンチップ100に含まれる第1〜第4メモリコントローラ120a乃至120d、そしてワイド入出力メモリ装置200に含まれる第1〜第4制御回路220a乃至220dは第1モードにおいて、SDR(Single Date Rate)方式でデータを送受信し、第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式でデータを送受信してもよい。
上述した2つの実施例によると、第1モードにおいてSOC100の上部に一つのワイド入出力メモリ装置200が積層され、第2モードにおいて、SOC100の上部に2つのワイド入出力メモリ装置200が積層されるので、第2モードにおいて、SOC100に連結されるワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)は第1モードにおいてSOC100に連結されるワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)の二倍になってもよい。また、SOC100及びワイド入出力メモリ装置200は第1モードに比べて第2モードにおいて、二倍の周波数を有するクロック信号に同期して動作したり、第1モードにおいてはSDR(Single Date Rate)方式で動作し、第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式で動作することによって、第2モードにおいて、SOC100とワイド入出力メモリ装置200のうちの総帯域幅(band width)は第1モードにおいてSOC100とワイド入出力メモリ装置200のうちの総帯域幅(band width)の二倍になってもよい。したがって、本発明の実施例に係る半導体装置10の場合、使おうとするワイド入出力メモリ装置200の総容量(density)及び総帯域幅(band width)によりSOC100を新しく設計する必要はなく、一定の個数のSOCバンプ部110a乃至110dを有するSOC100に多様な容量(density)及び帯域幅(band width)のワイド入出力メモリ装置200を積層してもよい。
図8は本発明の一実施例に係る半導体パッケージを示したブロック図である。
図8を参照すれば、半導体パッケージ20はベース基板(BASE)300、ベース基板300の上部に積層されるシステムオンチップ100及びシステムオンチップ100の上部に積層される少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200を含む。
ベース基板300は印刷回路基板(Printed circuit Board;PCB)でもよい。SOC100はアプリケーションプロセッサを含んでもよい。
SOC100はそれぞれが互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部110を含み、SOC100は複数のSOCバンプ部110を通じてベース基板300に電気的に連結される。
少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200は互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のメモリバンプ部210を含み、少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200は複数のメモリバンプ部210を通じてシステムオンチップ100に電気的に連結される。少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200はSOC100の複数のSOCバンプ部110を通じてSOC100とデータを送受信する。
第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置200が複数のSOCバンプ部110のすべてに連結され、SOC100とデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置200が複数のSOCバンプ部110のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、SOC100とデータを送受信する。
SOC100は複数のSOCバンプ部110に連結され、SOC100を貫くTSV120を含み、複数のメモリバンプ部210はTSV120に連結されることによって少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200をSOC100と電気的に連結してもよい。この場合、ベース基板300とワイド入出力メモリ装置200のうちのインターフェース負荷抵抗が減少し、円滑な信号伝送を具現してもよい。
システムオンチップ100及び少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置200を含む半導体装置は図1〜7を参照して説明した本発明の実施例に係る半導体装置10で具現してもよい。
SOC100及び少なくともいずれか一つのワイド入出力メモリ装置200がベース基板300上に積層された後、レジン310等で半導体パッケージ20の上部を塗布することができる。ベース基板300の下面に外部装置との電気的連結をするためのバンプ320を形成してもよい。
図8に示すように、本発明の実施例に係る半導体パッケージ20はフリップチップパッケージング(flip-chip packaging)の工程を通じて形成してもよい。フリップチップパッケージングはワイヤを使わないで半導体チップの表面に電極になるバンプを形成してバンプを通じ、基板上の導体端子と連結することによって、半導体チップを基板上に積層する技術を意味する。複数のメモリバンプ部210をワイド入出力メモリ装置200に形成し、これに相応する位置にSOC100の複数のSOCバンプ部110を形成することによってフリップ-チップパッケージングを効率的に行ってもよい。
図9は本発明の実施例に係る半導体パッケージがモバイルシステムに応用された例を示す図である。
図9を参照すれば、モバイルシステム400は半導体パッケージ410、通信(connectivity)部440、使用者のインターフェース450、不揮発性メモリ装置NVM460及びパワーサプライ470を含む。実施例により、モバイルシステム400は携帯電話(Mobile Phone)、スマートフォン(Smart Phone)、個人情報端末(Personal DigitalAssistant;PDA)、携帯型マルチメディアプレーヤ(Portable Multimedia Player;PMP)、デジタルカメラ(DigitalCamera)、音楽再生機(Music Player)、携帯用ゲームコンソール(Portable Game Console)、ナビゲーション(Navigation)システムのような任意のモバイルシステムでもよい。
半導体パッケージ410はシステムオンチップ420及び少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置430を含む。少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置430はSOC420により、処理されるデータを保存したり、動作メモリ(Working Memory)として作動してもよい。SOC420はそれぞれが互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部を含み、SOC420はこれら複数のSOCバンプ部を通じてベース基板に電気的に連結される。少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置430は互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のメモリバンプ部を含み、少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置430はこれら複数のメモリバンプ部を通じてSOC420に電気的に連結される。第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置430が複数のSOCバンプ部に連結され、SOC420とデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置430が複数のSOCバンプ部のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、SOC420とデータを送受信する。
SOC420はアプリケーションプロセッサを含んでもよい。このアプリケーションプロセッサはインターネットブラウザ、ゲーム、動画などを提供するアプリケーションを行ってもよい。実施例により、アプリケーションプロセッサは一つのプロセッサコア(Single Core)を含んだり、複数のプロセッサコア(Multi-Core)を含んでもよい。例えば、アプリケーションプロセッサはデュアルコア(Dual-Core)、クアッドコア(Quad-Core)、ヘクサコア(Hexa-Core)等のマルチコア(Multi-Core)を含んでもよい。また、実施例により、アプリケーションプロセッサは内部または外部に位置したキャッシュメモリ(Cache Memory)をさらに含んでもよい。
半導体パッケージ410は図8に示された半導体パッケージ20で具現してもよい。図8の半導体パッケージ20の構成及び動作に対しては図1〜8を参照して詳細に説明したので、ここでは図9に示された半導体パッケージ410に対する詳細な説明は省略する。
通信部440は外部装置と無線通信または、有線通信を行ってもよい。例えば、通信部440はイーサネット(登録商標)(Ethernet(登録商標))通信、近距離磁気場通信(Near Field Communication;NFC)、無線識別(Radio Frequency Identification;RFID)通信、移動通信(Mobile Telecommunication)、メモリカード通信、汎用直列バス(Universal Serial Bus;USB)通信などを行ってもよい。例えば、通信部440はベースバンドチップセット(Baseband Chipset)を含め、GSM(登録商標)、GPRS、WCDMA(登録商標)、HSxPAなどの通信をサポートしてもよい。
不揮発性メモリ装置460はモバイルシステム400をブーティングするためのブートイメージを保存してもよい。例えば、不揮発性メモリ装置460はEEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)、フラッシュメモリ(Flash Memory)、PRAM(Phase Change Random Access Memory)、RRAM(登録商標)(Resistance Random Access Memory)、NFGM(Nano Floating Gate Memory)、PoRAM(Polymer Random Access Memory)、MRAM(Magnetic Random Access Memory)、FRAM(登録商標)(Ferroelectric Random Access Memory)または、これと類似したメモリで具現してもよい。
ユーザインタフェース450はキーパッド、タッチスクリーンと同様の一つ以上の入力装置及び、スピーカ、ディスプレイ装置のような一つ以上の出力装置を含んでもよい。パワーサプライ470はモバイルシステム400の動作電圧を供給してもよい。
また、実施例により、モバイルシステム400はイメージプロセッサをさらに包含でもよく、メモリカード(Memory Card)、ソリッドステートドライブ(Solid State Drive;SSD)、ハードディスクドライブ(Hard Disk Drive;HDD)、シディロム(CD-ROM)等のような保存装置をさらに含んでもよい。
モバイルシステム400または、モバイルシステム400の構成要素は多様な形態のパッケージを利用して実装されるが、例えば、PoP(Package on Package)、BGAs(Ball grid arrays)、CSPs(Chip scale packages)、PLCC(PlasticLeaded Chip Carrier)、PDIP(Plastic Dual In-Line Package)、Die in Waffle Pack、Die in Wafer Form、COB(Chip On Board)、CERDIP(Ceramic Dual In-Line Package)、MQFP(Plastic Metric Quad Flat Pack)、TQFP(Thin Quad Flat-Pack)、SOIC(Small Outline Integrated Circuit)、SSOP(Shrink Small Outline Package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat-Pack)、SIP(System In Package)、MCP(Multi Chip Package)、WFP(Wafer-level Fabricated Package)、WSP(Wafer-Level Processed Stack Package)等のようなパッケージを利用して実装してもよい。
本発明はSOC及びワイド入出力メモリ装置を備える任意の電子装置に役立つように利用してもよい。例えば、本発明は携帯電話(Mobile Phone)、スマートフォン(Smart Phone)、個人情報端末(personal Digitalassistant;PDA)、携帯型マルチメディアプレーヤ(portable multimedia player;PMP)、デジタルカメラ(DigitalCamera)、パーソナルコンピュータ(Personal Computer;PC)、サーバコンピュータ(Server Computer)、ワークステーション(Workstation)、ノートブック(Laptop)、デジタルTV(DigitalTelevision)、セット−トップボックス(Set-Top Box)、音楽再生機(Music Player)、携帯用ゲームコンソール(Portable Game Console)、ナビゲーション(Navigation)システムなどに適用してもよい。
上述したように、本発明を望ましい実施例を参照して説明したが該当技術分野で通常の知識を持った者であれば、特許請求範囲に記載された本発明の思想及び領域から外れない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させる可能性があることを理解できるはずである。
100:システムオンチップ(SOC)
110:SOCバンプ部
120:メモリコントローラ
130:クロック信号生成部
140:中央処理装置
200:ワイド入出力メモリ装置
210:メモリバンプ部
220:制御回路
230:コントローラ
240:メモリセルアレイブロック

Claims (10)

  1. 互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部を含むシステムオンチップ(System on Chip;SOC)と、
    前記システムオンチップの上部に積層され、前記複数のSOCバンプ部を通じて前記システムオンチップとデータを送受信する少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置(WideI/O memory device)を含み、
    第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部に連結され、前記システムオンチップとデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、前記システムオンチップとデータを送受信することを特徴とする半導体装置。
  2. 前記システムオンチップは互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供する第1〜第4SOCバンプ部を含み、
    前記ワイド入出力メモリ装置は、
    複数のメモリセルアレイと、
    前記複数のメモリセルアレイに連結され、互いに独立的な第1〜第4入出力チャネルを提供する第1〜第4メモリバンプ部を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記ワイド入出力メモリ装置は、
    前記第1〜第4メモリバンプ部にそれぞれ連結され、前記第1〜第4メモリバンプ部それぞれを通じてデータを送受信する第1〜第4制御回路と、
    前記第1〜第4制御回路の動作を制御するコントローラとをさらに含み、
    前記ワイド入出力メモリ装置に含まれる前記複数のメモリセルアレイはそれぞれが少なくともいずれの一つかにメモリセルアレイを含む第1〜第4メモリセルアレイブロックに区分され、
    前記第1及び第3メモリセルアレイブロックに含まれるメモリセルアレイは前記第1及び第3制御回路に共通に連結され、前記第2及び第4メモリセルアレイブロックに含まれるメモリセルアレイは前記第2及び第4制御回路に共通に連結されることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記第1モードにおいて、前記第1〜第4制御回路はそれぞれ前記第1〜第4メモリバンプ部を通じて前記第1〜第4メモリセルアレイブロックと前記システムオンチップとの間にデータ送受信を行い、
    前記第2モードにおいて、前記第3及び第4制御回路はターンオフされ、前記第1制御回路は前記第1メモリバンプ部を通じて前記第1及び第3メモリセルアレイブロックと前記システムオンチップとの間にデータ送受信を行い、前記第2制御回路は前記第2メモリバンプ部を通じて前記第2及び第4メモリセルアレイブロックと前記システムオンチップとの間にデータ送受信を行うことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
  5. 前記ワイド入出力メモリ装置は前記第1モードにおいて、第1周波数を有する第1クロック信号に同期され動作し、前記第2モードにおいて、前記第1周波数の二倍に相応する第2周波数を有する第2クロック信号に同期され動作することを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
  6. 前記ワイド入出力メモリ装置は前記第1モードにおいて、SDR(Single Date Rate)方式で動作し、前記第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式で動作することを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
  7. 前記システムオンチップは、
    前記複数のSOCバンプ部に連結され、前記システムオンチップを貫通して前記少なくとも一つのワイド入出力メモリ装置と電気的に連結される貫通シリコンビア(Through Silicon Via;TSV)と、
    前記複数のSOCバンプ部それぞれに連結される複数のメモリコントローラと、
    前記複数のメモリコントローラにクロック信号を提供するクロック信号生成部と、
    第1制御信号を使用し前記クロック信号生成部の動作を制御し、第2制御信号を使用し前記複数のメモリコントローラの動作を制御する中央処理装置(Central Processing Unit;CPU)とをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  8. 前記クロック信号生成部は前記第1制御信号に基づいて、前記第1モードにおいて、第1周波数を有する前記クロック信号を生成し、前記第2モードにおいて、前記第1周波数の二倍に相応する第2周波数を有する前記クロック信号を生成することを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
  9. 前記複数のメモリコントローラは前記第2制御信号に基づいて前記第1モードにおいてSDR(Single Date Rate)方式で動作し、前記第2モードにおいて、DDR(Double Data Rate)方式で動作することを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
  10. ベース基板と、
    前記ベース基板の上部に積層され、それぞれが互いに独立的な入出力チャネルを提供する複数のSOCバンプ部を含み、前記複数のSOCバンプ部を通じ、前記ベース基板に連結されるシステムオンチップ(System on Chip;SOC)と、
    前記システムオンチップの上部に配置され、前記複数のSOCバンプ部を通じて前記システムオンチップとデータを送受信する少なくともいずれの一つかにワイド入出力メモリ装置を含み、
    前記少なくともいずれの一つかにワイド入出力メモリ装置は前記複数のSOCバンプ部に連結され、前記システムオンチップを貫く貫通シリコンビア(Through Silicon Via;TSV)を通じて、前記システムオンチップと電気的に連結され、
    第1モードにおいて、一つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部に連結され、前記システムオンチップとデータを送受信し、第2モードにおいて、2つのワイド入出力メモリ装置が前記複数のSOCバンプ部のうちの第1半分及び第2半分にそれぞれ連結され、前記システムオンチップとデータを送受信することを特徴とする半導体パッケージ。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018508871A (ja) * 2015-01-16 2018-03-29 クゥアルコム・インコーポレイテッドQualcomm Incorporated 最小限のパッケージングの複雑性で異なる外部メモリタイプをサポートするための共通のダイ

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI561960B (en) * 2015-11-05 2016-12-11 Sunplus Technology Co Ltd Clock providing system
KR102413441B1 (ko) 2015-11-12 2022-06-28 삼성전자주식회사 반도체 패키지
KR102468698B1 (ko) * 2015-12-23 2022-11-22 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치
DE102016011750A1 (de) * 2016-09-29 2018-03-29 Ceramtec-Etec Gmbh Datenträger aus Keramik
US11514996B2 (en) * 2017-07-30 2022-11-29 Neuroblade Ltd. Memory-based processors
DE112019007422T5 (de) * 2019-05-31 2022-02-24 Micron Technology, Inc. Speicherkomponente für ein system-on-chip-gerät

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5223454A (en) * 1988-01-29 1993-06-29 Hitachi, Ltd. Method of manufacturing semiconductor integrated circuit device
US6809421B1 (en) * 1996-12-02 2004-10-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof
US6724084B1 (en) * 1999-02-08 2004-04-20 Rohm Co., Ltd. Semiconductor chip and production thereof, and semiconductor device having semiconductor chip bonded to solid device
US7173877B2 (en) * 2004-09-30 2007-02-06 Infineon Technologies Ag Memory system with two clock lines and a memory device
CN101120415B (zh) * 2004-12-24 2012-12-19 斯班逊有限公司 同步型存储装置及其控制方法
JP4910512B2 (ja) * 2006-06-30 2012-04-04 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
US8059443B2 (en) 2007-10-23 2011-11-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional memory module architectures
US20100140750A1 (en) * 2008-12-10 2010-06-10 Qualcomm Incorporated Parallel Plane Memory and Processor Coupling in a 3-D Micro-Architectural System
US20100174858A1 (en) 2009-01-05 2010-07-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Extra high bandwidth memory die stack
US8207754B2 (en) 2009-02-24 2012-06-26 Stmicroelectronics International N.V. Architecture for efficient usage of IO
US8174876B2 (en) * 2009-06-19 2012-05-08 Hynix Semiconductor Inc. Fusion memory device embodied with phase change memory devices having different resistance distributions and data processing system using the same
US8227904B2 (en) 2009-06-24 2012-07-24 Intel Corporation Multi-chip package and method of providing die-to-die interconnects in same
US8698321B2 (en) 2009-10-07 2014-04-15 Qualcomm Incorporated Vertically stackable dies having chip identifier structures
US8612809B2 (en) 2009-12-31 2013-12-17 Intel Corporation Systems, methods, and apparatuses for stacked memory
US8796863B2 (en) 2010-02-09 2014-08-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory devices and semiconductor packages
KR20110099384A (ko) * 2010-03-02 2011-09-08 삼성전자주식회사 와이드 입출력 반도체 메모리 장치 및 이를 포함하는 반도체 패키지
US9123552B2 (en) * 2010-03-30 2015-09-01 Micron Technology, Inc. Apparatuses enabling concurrent communication between an interface die and a plurality of dice stacks, interleaved conductive paths in stacked devices, and methods for forming and operating the same
KR101728067B1 (ko) 2010-09-03 2017-04-18 삼성전자 주식회사 반도체 메모리 장치
KR20120068216A (ko) 2010-12-17 2012-06-27 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 집적회로
US8399961B2 (en) * 2010-12-21 2013-03-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Tuning the efficiency in the transmission of radio-frequency signals using micro-bumps
KR20120079397A (ko) * 2011-01-04 2012-07-12 삼성전자주식회사 적층형 반도체 장치 및 이의 제조 방법
US8564111B2 (en) * 2011-01-27 2013-10-22 Siano Mobile Silicon Ltd. Stacked digital/RF system-on-chip with integral isolation layer
KR20120098096A (ko) 2011-02-28 2012-09-05 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 집적회로
JP5286382B2 (ja) * 2011-04-11 2013-09-11 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
CN102891114B (zh) * 2012-10-24 2015-01-28 上海新储集成电路有限公司 一种上下堆叠的片上系统芯片的制作方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018508871A (ja) * 2015-01-16 2018-03-29 クゥアルコム・インコーポレイテッドQualcomm Incorporated 最小限のパッケージングの複雑性で異なる外部メモリタイプをサポートするための共通のダイ

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