JP2014175601A - Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 サファイア基板の全面積Kに対する、サファイア基板の主面側の平坦面の面積Sの面積比Rが、0.1以上0.5未満である場合に、主面に凹凸形状部の形成されたサファイア基板上に半導体層を形成する際に、III 族元素を有する原料ガスと、V族元素を有する原料ガスと、の少なくとも2種類のガスを、次式 1000 ≦ Y/(2×R) ≦ 1200 を満たすように供給する。この式でYは、III 族元素を有する原料ガスに対するV族元素を有する原料ガスの分圧比である。
【選択図】図5
Description
1000 ≦ Y/(2×R) ≦ 1200
R = S/K
0.1≦R<0.5
Y:III 族元素を有する原料ガスに対するV族元素を有する原料ガスの分圧比
R:サファイア基板の全面積に対するサファイア基板の平坦面の面積の比
S:サファイア基板の主面側の平坦面の面積
K:サファイア基板の全面積
を満たすように供給して、低温バッファ層の上に第1の半導体層を形成する第1の半導体層形成工程を有する。
本実施形態に係る発光素子100の概略構成を図3に示す。発光素子100は、フェイスアップ型の半導体発光素子である。発光素子100は、III 族窒化物半導体から成る複数の半導体層を有する。図3に示すように、発光素子100は、サファイア基板110と、低温バッファ層120と、下地層130と、n型半導体層140と、発光層150と、p型半導体層160と、透明電極170と、nパッド電極N1と、pパッド電極P1と、を有している。
図4にサファイア基板110の断面を拡大した拡大図を示す。図4に示すように、サファイア基板110の主面は、凹凸形状部111を有している。そして、サファイア基板110は、底面111aと、複数の凸部112と、を有している。凸部112は、円錐台形状をしている。そして、凸部112は、上面112aと、斜面112bと、を有している。また、凸部112は、サファイア基板110の凹凸形状部111にわたってハニカム状に配置されている。
本実施形態では、サファイア基板110の平坦な部分の面積比に応じて、供給する原料ガスの分圧を調整することに特徴がある。この原料ガスの分圧については、例えば、マスフローコントローラーを用いることでガスの供給量を制御することができる。なお、ガスの分圧は、ガスの供給量等から容易に計算することができる。本実施形態における原料ガスの分圧について説明する前に、従来の凹凸がない基板における原料ガスの分圧について説明する。
まず、凹凸形状部がない基板を用いた場合について説明する。その場合には、次式を満たす分圧の比Yで、原料ガスをMOCVD炉に供給すればよい。
1000 ≦ Y ≦ 1200 ………(1)
Y=PR1/PR2
Y:III 族元素を有する原料ガスに対するV族元素を有する原料ガスの分圧比
PR1:アンモニアガスの分圧(V族元素を含む原料ガス)
PR2:トリメチルガリウムの分圧(III 族元素を含む原料ガス)
なお、分圧の比については、MOCVD炉に供給する供給弁におけるガスの供給量の測定値から算出される。
本実施形態では、次式を満たす分圧の比Yで、原料ガスをMOCVD炉に供給する。
1000 ≦ Y/(2×R) ≦ 1200 ………(2)
Y=PR1/PR2
0.1≦R<0.5
R = S/K
Y:III 族元素を有する原料ガスに対するV族元素を有する原料ガスの分圧比
R:サファイア基板の全面積に対するサファイア基板の平坦面の面積の比
S:サファイア基板の主面側の平坦面の面積
K:サファイア基板の全面積
PR1:アンモニアガスの分圧(V族元素を含む原料ガス)
PR2:トリメチルガリウムの分圧(III 族元素を含む原料ガス)
500 ≦ Y ≦ 600
つまり、トリメチルガリウムの分圧に対するアンモニアガスの分圧の比Yは、通常の場合の式(1)に比べて、半分程度になる。つまり、アンモニアガスの供給量が相対的に小さくなる。
4−1.下地層の平坦性
このように、本実施形態では、低温バッファ層120の上に形成する下地層130を形成する際に、III 族元素を含む原料ガスの分圧に対するV族元素を含む原料ガスの分圧の比Yを、サファイア基板110の平坦面(底面111aおよび上面112a)の面積比に応じて小さくするのである。これにより、後述するように、サファイア基板110の底面111aから主に成長する下地層130を形成することができる。
図5は、本実施形態の発光素子100におけるサファイア基板110および下地層130周辺の断面を示す概念図である。このような、断面は、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)により観察することができる。場合によっては、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察することもできる。
このように、本実施形態では、平面成長層132の成長が支配的であり、斜面成長層133の厚みは抑制されている。これは、前述の式(2)を満たすように、原料ガスを供給したためであると考えられる。
ここで、本実施形態に係る発光素子100の製造方法について説明する。有機金属化学気相成長法(MOCVD法)により、各半導体層の結晶をエピタキシャル成長させる。発光素子100の製造方法は、n型半導体層を形成するn型半導体層形成工程と、n型半導体層の上に発光層を形成する発光層形成工程と、発光層の上にp型半導体層を形成するp型半導体層形成工程と、を有する。
まず、サファイア基板のc面を加工して凹凸形状部111を形成する。具体的には、フォトレジストをマスクとして形成する。そして、ドライエッチングを実施して、主面に凹凸形状部111の形成されたサファイア基板110を準備する。もちろん、凹凸形状部111を形成済みのサファイア基板110を購入してもよい。
次に、サファイア基板110をMOCVD炉の内部に入れる。この後、有機金属化学気相成長法(MOCVD法)により半導体層を形成する。そして、H2 によるクリーニングを実施した後に、サファイア基板110の凹凸形状部111の上に低温バッファ層120を形成する。これにより、図6に示すように、サファイア基板110の底面111aと、上面112aと、斜面112bと、の上に低温バッファ層120が形成される。低温バッファ層120は十分に薄いので、サファイア基板110の凹凸形状部111が埋まることはない。
続いて、図7に示すように、低温バッファ層120の上に下地層130を形成する。III 族元素を含む原料ガスの分圧に対するV族元素を含む原料ガスの分圧の比Yを、前述の式(2)を満たすようにして、ガスを供給する。また、下地層形成工程における成長温度は、次に説明するn型半導体層形成工程における成長温度よりも20℃以上80℃以下の範囲内で低い。下地層の成長速度は、200Å/min以上2000Å/min以下の範囲内である。これにより、サファイア基板110の凹凸形状部111を部分的に埋め込んで、面131aを有する下地層130が形成される。
次に、平坦な下地層130の上に、n型半導体層140を形成する。そして、n型コンタクト層を形成する。このときの基板温度は、1000℃以上1200℃以下の範囲内である。この工程でドープするSi濃度は1×1018/cm3 以上である。前述のように、n型半導体層140の成長温度は、下地層130の成長温度より高い。そのため、この工程における横方向の成長速度が速い。そのため、下地層130が部分的に埋め込んだ凹凸の残部を、n型半導体層140が埋め込むことは容易である。このように、下地層130における部分的に残留する凹凸を埋め込む。そのため、n型半導体層140の上面は平坦である。また、n型コンタクト層の上に、n型ESD層やn側超格子層を形成することとしてもよい。なお、この工程以降の半導体層形成工程でも、式(2)を用いることとする。
次に、n型半導体層140の上に発光層150を形成する。このときの基板温度を、700℃以上950℃以下の範囲内とする。
次に、発光層150の上にp型半導体層160を形成する。例えば、発光層150の上にp側超格子層を形成し、その上にp型コンタクト層を形成する。p型コンタクト層を形成する際の基板温度を、900℃以上1050℃以下の範囲内とする。これにより、サファイア基板110に図8に示す各半導体層が積層されることなる。また、図9に示すように、n電極N1を形成するための凹部141を形成する。
次に、図10に示すように、p型半導体層160のp型コンタクト層の上に透明電極170を形成する。
次に、透明電極170の上にp電極P1を形成する。そして、レーザーもしくはエッチングにより、p型コンタクト層の側から半導体層の一部を抉ってn型コンタクト層を露出させる。そして、その露出箇所に、n電極N1を形成する。p電極P1の形成工程とn電極N1の形成工程は、いずれを先に行ってもよい。また、電極材料が同じであれば、同時に形成してもよい。
また、上記の工程の他、絶縁膜で素子を覆う工程や熱処理工程等、その他の工程を実施してもよい。以上により、図3に示した発光素子100が製造される。
6−1.実験条件
ここでは、次のサファイア基板を用いた。
ピッチ間隔(W1) 4.0μm
上面(112a) 0.0μm
深さ(h) 2.1μm
角度(θ) 48°
凸部の幅(W2) 3.9μm
間隔(W3) 0.1μm
凸部の配置 ハニカム構造
凸部の形状 円錐台形状
そして、平坦な面がサファイア基板全体の面積に占める割合(R)は、14%である。
図11は、本実施形態の実施例を示す図である。図11では、凹凸の側面から、すなわち、斜面112bに形成された低温バッファ層120からの半導体層の成長が抑制されている。そして、底面111aに形成された低温バッファ層120からの半導体層の成長が促進されている。すなわち、平坦面からの半導体層の成長が支配的であり、凹凸の側面からの半導体層の成長は抑制されている。
図12は、比較例を示す図である。図12では、凸部112の斜面112bの側、すなわち、斜面112bの上に形成された低温バッファ層120から半導体層がよく成長している。凸部112の側面からの半導体層の成長が支配的であるため、その上に形成される半導体層、すなわち、下地層130より上層、すなわち、サファイア基板110の反対側の半導体層では、その表面が平坦になりにくい。平坦な下地層130が実現されないため、その上に結晶性に優れた半導体層を形成することは困難である。
7−1.下地層
7−1−1.下地層の材質
下地層130の材質として、GaNの代わりにn型GaNを形成することとしてもよい。また、GaNの代わりに、AlGaNやInGaNを形成することとしてもよい。AlX InY Ga(1-X-Y) N(0≦X,0≦Y,X+Y<1)であってもよい。ただし、その場合のAl組成比は、0.2以下である。In組成比は、0.2以下である。
その場合には、トリメチルインジウムやトリメチルアルミニウムを供給する。このとき、式(1)や式(2)におけるIII 族元素を有する原料ガスの分圧は、これらのTMI、TMA、TMGのガスの分圧の和である。
n型半導体層140と、発光層150と、p型半導体層160とにおける原料ガスの分圧については、式(1)の条件を用いてもよい。下地層130を形成した後には、傾斜面からの半導体層の成長は、ほとんどないからである。
本実施形態では、フェイスアップ型の半導体発光素子について適用した。しかし、もちろん、その他の半導体発光素子についても適用することができる。例えば、図13に示すような、基板側に光取り出し面を有するフリップチップの半導体発光素子200についても、当然に適用することができる。そのため、光取り出し面201は、サファイア基板210にある。
本実施形態では、凸部112の形状を円錐台形状とした。しかし、円錐形状や、六角錐形状、六角錐台形状であってもよい。もちろん、その他の多角錐形状や多角錐台形状であってもよい。その場合であっても、最大傾斜面と底面とのなす角の角度は、40°以上60°以下の範囲内である。
凸部112の頂部を結ぶ線の方向を、下地層130のa軸方向とするとよい。底面111aからより好適に成長するからである。
図14に示すように、低温バッファ層120の上に形成する下地層により、凹凸形状部111の凹凸の高さの全てを埋め込むこととしてもよい。その場合には、埋め込み層330が低温バッファ層120の上に形成される。また、この埋め込み層330がn型GaN層であってもよい。その場合には、埋め込み層330が第1のn型半導体層であり、n型半導体層340が第2のn型半導体層である。このように、下地層130および埋め込み層330は、サファイア基板110の凹凸形状部111の凹凸の高さの少なくとも一部を埋め込む第1の半導体層である。埋め込み層330は、斜面部分123からの半導体の成長を抑制する役割を担う層である。
式(2)では、面積比Rを10%以上50%未満とした。図2から示唆されるように、面積比Rが小さいほど、領域R1に供給ガスが溜まりやすい。そのため、面積比Rが小さいほど、本実施形態の効果は高い。そのため、供給するガスの分圧の比を変えることによる効果は大きい。つまり、面積比Rが次式を満たす場合に、より効果は高い。
0.1≦R≦0.3
R:サファイア基板の全面積に対するサファイア基板の平坦面の面積の比
すなわち、面積比Rが10%以上30%以下の範囲内の場合である。
本実施形態では、凹凸形状部111に凸部112をハニカム状に配置したサファイア基板110を用いた。しかし、凹凸形状部に凹部をハニカム状に配置したサファイア基板を用いてもよい。
本実施形態では、c面サファイア基板に凹凸加工を施すこととした。しかし、c面サファイア基板以外のサファイア基板を用いてもよい。例えば、a面サファイア基板を用いることができる。
以上詳細に説明したように、本実施形態の発光素子100では、サファイア基板110の凹凸形状部111に向けて供給するアンモニアとトリメチルガリウムとの分圧を調整することとした。つまり、凹凸形状部111に、サファイア基板110の底面もしくはこれに平行な面の面積が十分に小さい場合に、アンモニアの供給量を減少させるのである。これにより、サファイア基板110の斜面側からの半導体層の成長を抑制し、サファイア基板110の凹凸形状部111を埋め込んで、平坦な下地層を形成することができる。これにより、結晶品質がよく光取り出し効率の高い発光素子100が実現されている。
110…サファイア基板
120…低温バッファ層
130…下地層
131…平坦面
140…n型半導体層
150…発光層
160…p型半導体層
170…透明電極
N1…n電極
P1…p電極
Claims (18)
- 主面に凹凸形状部の形成されたサファイア基板を準備するサファイア基板準備工程と、
前記サファイア基板の前記凹凸形状部の上に低温バッファ層を形成するバッファ層形成工程と、
前記低温バッファ層の上にIII 族窒化物半導体から成る半導体層を成長させる半導体層形成工程と、
を有するIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記半導体層形成工程は、
III 族元素を有する原料ガスと、V族元素を有する原料ガスと、の少なくとも2種類のガスを、次式
1000 ≦ Y/(2×R) ≦ 1200
R = S/K
0.1≦R<0.5
Y:III 族元素を有する原料ガスに対するV族元素を有する原料ガスの分圧比
R:サファイア基板の全面積に対するサファイア基板の平坦面の面積の比
S:サファイア基板の主面側の平坦面の面積
K:サファイア基板の全面積
を満たすように供給して、前記低温バッファ層の上に第1の半導体層を形成する第1の半導体層形成工程を有すること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記第1の半導体層形成工程では、
前記第1の半導体層として、前記サファイア基板の前記凹凸形状部の凹凸の高さの少なくとも一部を埋め込む層を形成すること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項2に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記第1の半導体層は、
前記サファイア基板の前記凹凸形状部の凹凸の高さの一部を覆うとともに、前記凹凸形状部の凹凸の高さの残部を覆わないものであること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項2に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記第1の半導体層は、
前記サファイア基板の前記凹凸形状部の凹凸の高さの全部を覆うものであること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記半導体層形成工程は、
前記第1の半導体層の上にn型半導体層を形成するn型半導体層形成工程と、
前記n型半導体層の上に発光層を形成する発光層形成工程と、
前記発光層の上にp型半導体層を形成するp型半導体層形成工程と、
を有すること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項5に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記第1の半導体層形成工程で成長させる前記第1の半導体層の成長温度を、
前記n型半導体層形成工程で成長させるn型半導体層の成長温度よりも20℃以上80℃以下の範囲内で低い温度として、前記第1の半導体層を形成すること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項6に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記n型半導体層形成工程で成長させるn型半導体層の成長温度を1000℃以上1200℃以下の範囲内とすること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記サファイア基板の前記凹凸形状部における凹凸の高さが0.5μm以上3.0μm以下の範囲内であること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記サファイア基板の前記凹凸形状部の底面と、前記凹凸形状部の最大傾斜面とのなす角の角度が40°以上60°以下の範囲内にあること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記第1の半導体層形成工程では、
第1の半導体層の成長速度を200Å/min以上2000Å/min以下の範囲内とすること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項10までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記サファイア基板の前記凹凸形状部は、
複数の凸部を有し、
前記凸部は、
前記凹凸形状部にわたってハニカム状に配置されていること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項11に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記凸部は、
円錐台形状と、六角錐台形状と、円錐形状と、六角錐形状と、のうちのいずれかであること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項11または請求項12に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
隣り合う前記凸部を結ぶ線の方向を、
前記半導体層のa軸の方向とすること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項13までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記サファイア基板としてc面サファイア基板を用いること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1から請求項14までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記III 族元素を有する原料ガスとして、アンモニアを用いるとともに、
前記V族元素を有する原料ガスとして、少なくともトリメチルガリウムを用いること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 少なくとも斜面を備える凹凸形状部を形成されたサファイア基板と、
前記サファイア基板の上に前記凹凸形状部に沿って形成された低温バッファ層と、
前記低温バッファ層の上に形成されるとともに前記凹凸形状部の凹凸の高さの少なくとも一部を埋め込んだ第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の上に形成されたn型半導体層と、
前記n型半導体層の上に形成された発光層と、
前記発光層の上に形成されたp型半導体層と、
を有し、
前記サファイア基板の全面積Kに対する、前記サファイア基板の主面側の平坦面の面積Sの面積比Rが、10%以上50%未満であり、
前記第1の半導体層は、
前記凹凸形状部の前記斜面側から成長する斜面成長層を有し、
前記斜面成長層における前記斜面に対する厚みは、
0.05μm以上0.5μm以下の範囲内であること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子。 - 請求項16に記載のIII 族窒化物半導体発光素子において、
前記n型半導体層と接触するn電極を有し、
前記n型半導体層は、
前記n電極と接触するn型コンタクト層を有すること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子。 - 請求項16に記載のIII 族窒化物半導体発光素子において、
前記n型半導体層と接触するn電極を有し、
前記第1の半導体層は、
前記n電極と接触するn型コンタクト層を有すること
を特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子。
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