JP2014166969A - 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 - Google Patents
多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014166969A JP2014166969A JP2013039965A JP2013039965A JP2014166969A JP 2014166969 A JP2014166969 A JP 2014166969A JP 2013039965 A JP2013039965 A JP 2013039965A JP 2013039965 A JP2013039965 A JP 2013039965A JP 2014166969 A JP2014166969 A JP 2014166969A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal complex
- porous polymer
- gas
- polymer metal
- sbu
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】次式(1)
[MX]n (1)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表され、2種類のSBUから成る三次元のネットワーク構造を有している多孔性高分子金属錯体と、それのガス吸着材としての利用ならびにこれを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置。
【選択図】なし
Description
(1)下記式(1)
[MX]n (1)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)
で表され、2種類のSBUから成る三次元のネットワーク構造を有している多孔性高分子金属錯体。
[MX]n (1)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)
[MX]n(G)m (2)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。Gは後述のような合成に使用した溶媒分子や空気中の水分子であり、通常ゲスト分子と呼ばれる。mは金属イオン1に対して0.2から6である。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)であるような複合錯体に変化する場合がある。
[MXLz]n (3)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。Lは後述のような合成に使用した溶媒分子や空気中の水分子である。zは金属イオン1に対して1または2である。nは、[MXLz]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)であるような複合錯体に変化する場合がある。
粉末X線回折測定には、ブルカーAX(株)社製粉末X線装置DISCOVER D8 with GADDSを用いた。
硝酸亜鉛6水和物0.01ミリモル、5−ノルマルヘプタフルオロプロピルイソフタル酸(5位にノルマルC3F7基を有するイソフタル酸)0.01ミリモル、4,4’−ビピリジン0.01ミリモルをジメチルホルムアミド(1mL)とエタノール(1mL)の混合溶媒に溶解し、直径8ミリのガラス管に入れて、オイルバスに入れて80℃で3日間保持した。この際、オイルバスには攪拌子を入れ、オイルバスはマグネティックスターラーの上に設置し、マグネティックスターラーの回転数は200RPMに設定し、手で触れた際に微かに振動が感じられる程度にオイルの攪拌を行った(ガラス管には攪拌子は入れてない)。得られた無色の単結晶を大気に暴露させないようにパラトンにてコーティングした後、(株)リガク社製単結晶測定装置(極微小結晶用単結晶構造解析装置VariMax、MoK・線(λ=0.71069Å))にて測定し(照射時間32秒、d=45ミリ、2θ=−20,温度=−103℃)、得られた回折像を解析ソフトウエア、リガク(株)製解析ソフトウエア「CrystalStructure」を使用して解析し、図5、図9に示すような三次元構造を有していることを確認した(a=17.209,b=17.209,c=21.546; α=90.00、β=90.00,γ=90.00; 空間群=P42/m)。
硝酸亜鉛6水和物0.01ミリモル、5−ノルマルノナフルオロブチルイソフタル酸(5位にノルマルC4F9基を有するイソフタル酸)0.01ミリモル、4,4’−ビピリジン0.01ミリモルをジメチルホルムアミド(1mL)とエタノール(1mL)の混合溶媒に溶解し、直径8ミリのガラス管に入れて、オイルバスに入れて80℃で3日間保持した。この際、オイルバスには攪拌子を入れ、オイルバスはマグネティックスターラーの上に設置し、実施例1と同様に、手で触れた際に微かに振動が感じられる程度に攪拌を行った(ガラス管には攪拌子は入れない)。得られた無色の単結晶を実施例1と同様に測定、解析を行い、図10に示す三次元構造を有していることを確認した(a=17.567,b=17.567,c=21.423; α=90.00、β=90.00,γ=90.00; 空間群=P42/m))。
硝酸亜鉛6水和物0.01ミリモル、5−トリフルオロメチルイソフタル酸(5位にC3F7基を有するイソフタル酸)0.01ミリモル、4,4’−ビピリジン0.01ミリモルをジメチルホルムアミド(1mL)とエタノール(1mL)の混合溶媒に溶解し、直径8ミリのガラス管に入れて、オイルバスに入れて80℃で3日間保持した。この際、オイルバスには攪拌子を入れ、オイルバスはマグネティックスターラーの上に設置し、実施例1と同様に、手で触れた際に微かに振動が感じられる程度に攪拌を行った(ガラス管には攪拌子は入れない)。得られた無色の単結晶を実施例1と同様に測定、解析を行い、図5、9に示すのと同等の三次元構造を有していることを確認した。
硝酸亜鉛6水和物0.01ミリモル、5−ノルマルヘプタデカフルオロオクチルイソフタル酸(5位にC8F17基を有するイソフタル酸)0.01ミリモル、4,4’−ビピリジン0.01ミリモルをジメチルホルムアミド(1mL)とエタノール(1mL)の混合溶媒に溶解し、直径8ミリのガラス管に入れて、オイルバスに入れて80℃で3日間保持した。この際、オイルバスには攪拌子を入れ、オイルバスはマグネティックスターラーの上に設置し、実施例1と同様に、手で触れた際に微かに振動が感じられる程度に攪拌を行った(ガラス管には攪拌子は入れない)。得られた無色の単結晶を実施例1と同様に測定、解析を行い、図5,9に示すのと同等の三次元構造を有していることを確認した。
硝酸亜鉛6水和物0.01ミリモル、パーフルオロアルキル基を含まない配位子として、5位置に置換基を有さないイソフタル酸0.01ミリモル、4,4’−ビピリジン0.01ミリモルをジメチルホルムアミド(1mL)とエタノール(1mL)の混合溶媒に溶解し、直径8ミリのガラス管に入れて、オイルバスに入れて80℃で3日間保持した。この際、オイルバスには攪拌子を入れ、オイルバスはマグネティックスターラーの上に設置し、手で触れた際に微かに振動が感じられる程度に攪拌を行った(ガラス管には攪拌子は入れない)。得られた無色の単結晶を実施例1と同様に測定、解析を行い、パーフルオロアルキル基を含む配位子を使用した時とは異なる、図11に示す2元構造の積層を有しており、3次元構造は得られなかった(a=a(3),b=11.376(3),c=15.738(5); α=90,β=103.895(4),ガンマ=90; 空間群=P2/C)。図11a、11b、11cは、それぞれ結晶学のa、b、c軸から見た図である。特に図11aを見ると、2元構造の積層であることが明らかである。また、SBUは図11dに示す構造1種類のみであり、Zn4O型でもpdw型でも無かった。
硝酸亜鉛6水和物0.01ミリモル、パーフルオロアルキル基を含まない配位子として、5位置にノルマルブチルオキシ基(n−BuO基)を有するイソフタル酸0.01ミリモル、4,4’−ビピリジン0.01ミリモルをジメチルホルムアミド(1mL)とエタノール(1mL)の混合溶媒に溶解し、直径8ミリのガラス管に入れて、オイルバスに入れて80℃で3日間保持した。この際、オイルバスには攪拌子を入れ、オイルバスはマグネティックスターラーの上に設置し、手で触れた際に微かに振動が感じられる程度に攪拌を行った(ガラス管には攪拌子は入れない)。得られた無色の単結晶を実施例1と同様に測定、解析を行い、パーフルオロアルキル基を含む配位子を使用した時とは異なる、比較例1で得られた図11に示されたのと同一構造であり、3次元構造は得られないことを確認した、(a=10.025(2),b=11.381(2),c=17.299(4); α=90,β=103.404,ガンマ=90; 空間群=Pc)。
得られたガス吸着材の二酸化炭素吸着性および窒素の吸着性をBET自動吸着装置(日本ベル株式会社製ベルミニII)を用いて評価した(測定温度:二酸化炭素は195K、酸素は90K、窒素は77K)。測定に先立って試料を393Kで6時間真空乾燥して、微量残存している可能性がある溶媒分子などを除去した。
Claims (10)
- 下記式(1)
[MX]n (1)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)
で表され、2種類のSBUから成る三次元のネットワーク構造を有している多孔性高分子金属錯体。 - 前記SBUの1種が、金属イオンが4個のカルボキシル基と配位結合したユニットが上下に二つ配位したpdw型SBUである、請求項1記載の多孔性高分子金属錯体。
- 前記SBUの1種が、金属イオン4個、酸素イオン1個から形成されるM4O(Mは上記Mと同一)で表されるゆがんだ構造のSBUである、請求項1又は2記載の多孔性高分子金属錯体。
- 前記SBUの1種が、金属イオンが4個のカルボキシル基と配位結合したユニットが上下に二つ配位したpdw型SBUであり、もう1種が金属イオン4個、酸素イオン1個から形成されるM4O(Mは上記Mと同一)で表されるゆがんだ構造のSBUである、請求項1記載の多孔性高分子金属錯体。
- 前記パーフルオロアルキル基が、CF3,C2F5,n−C3F7,n−C4F9,n−C5F11,n−C6F12,n−C7F15,n−C8F17基から選ばれるものである上記請求項1−4のいずれか1項に記載の多孔性高分子金属錯体。
- 前記Mが銅イオンまたは亜鉛イオンである上記請求項1−5のいずれか1項に記載の多孔性高分子金属錯体。
- 前記Mが亜鉛イオンである上記請求項1−5のいずれか1項に記載の多孔性高分子金属錯体。
- 請求項1−7のいずれか1項に記載の多孔性高分子金属錯体を含むガス吸着材。
- 請求項8に記載のガス吸着材を用いるガス分離装置。
- 上求項8に記載のガス吸着材を用いるガス貯蔵装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013039965A JP6021691B2 (ja) | 2013-02-28 | 2013-02-28 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013039965A JP6021691B2 (ja) | 2013-02-28 | 2013-02-28 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014166969A true JP2014166969A (ja) | 2014-09-11 |
JP6021691B2 JP6021691B2 (ja) | 2016-11-09 |
Family
ID=51616879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013039965A Expired - Fee Related JP6021691B2 (ja) | 2013-02-28 | 2013-02-28 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6021691B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014166970A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2014169248A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2015131793A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-07-23 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位性錯体又はその塩、ガス吸着材とその製法、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2015131792A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-07-23 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2016196417A (ja) * | 2015-04-02 | 2016-11-24 | 新日鐵住金株式会社 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2017149683A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 新日鐵住金株式会社 | 三次元多孔高分子金属錯体、これを用いたガス吸着材、ガス分離装置、ガス貯蔵装置、触媒、導電性材料、センサー |
WO2018155260A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 株式会社Ihi | Ohラジカル検出プローブ、ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
WO2020040224A1 (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 株式会社Ihi | Ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6425378B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2018-11-21 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP6422211B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2018-11-14 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012017268A (ja) * | 2010-07-06 | 2012-01-26 | Kuraray Co Ltd | 金属錯体及びその製造方法 |
JP2012228667A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-22 | Japan Science & Technology Agency | 金属錯体及びそれからなる分離材 |
JP2014166971A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2014166970A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
-
2013
- 2013-02-28 JP JP2013039965A patent/JP6021691B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012017268A (ja) * | 2010-07-06 | 2012-01-26 | Kuraray Co Ltd | 金属錯体及びその製造方法 |
JP2012228667A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-22 | Japan Science & Technology Agency | 金属錯体及びそれからなる分離材 |
JP2014166971A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2014166970A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014166970A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2014169248A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2015131793A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-07-23 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位性錯体又はその塩、ガス吸着材とその製法、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2015131792A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-07-23 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2016196417A (ja) * | 2015-04-02 | 2016-11-24 | 新日鐵住金株式会社 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP2017149683A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 新日鐵住金株式会社 | 三次元多孔高分子金属錯体、これを用いたガス吸着材、ガス分離装置、ガス貯蔵装置、触媒、導電性材料、センサー |
JPWO2018155260A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2019-11-21 | 株式会社Ihi | Ohラジカル検出プローブ、ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
CN110291383A (zh) * | 2017-02-23 | 2019-09-27 | 株式会社Ihi | Oh自由基检测探测器、oh自由基测定装置以及oh自由基测定方法 |
WO2018155260A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 株式会社Ihi | Ohラジカル検出プローブ、ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
EP3588064A4 (en) * | 2017-02-23 | 2020-12-16 | IHI Corporation | OH RADICAL DETECTION PROBE, OH RADICAL MEASUREMENT DEVICE AND OH RADICAL MEASUREMENT PROCESS |
CN110291383B (zh) * | 2017-02-23 | 2021-12-28 | 株式会社Ihi | Oh自由基检测探测器、oh自由基测定装置以及oh自由基测定方法 |
US11313803B2 (en) | 2017-02-23 | 2022-04-26 | Ihi Corporation | OH radical measurement device and method using an OH radical detection probe |
WO2020040224A1 (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 株式会社Ihi | Ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
JPWO2020040224A1 (ja) * | 2018-08-23 | 2021-09-09 | 株式会社Ihi | Ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
JP7131614B2 (ja) | 2018-08-23 | 2022-09-06 | 株式会社Ihi | Ohラジカル測定装置、および、ohラジカル測定方法 |
US11585761B2 (en) | 2018-08-23 | 2023-02-21 | Ihi Corporation | OH radical measuring device and OH radical measuring method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6021691B2 (ja) | 2016-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6021691B2 (ja) | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6080616B2 (ja) | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
Zhu et al. | Isomeric zinc (II) triazolate frameworks with 3-connected networks: syntheses, structures, and sorption properties | |
Reinsch | “Green” synthesis of metal‐organic frameworks | |
Bosch et al. | Increasing the stability of metal-organic frameworks | |
JP6132596B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP5988896B2 (ja) | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6091256B2 (ja) | ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP5646789B2 (ja) | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
Zhang et al. | A hydrophobic metal–Organic framework based on cubane‐type [Co4 (μ3‐F) 3 (μ3‐SO4)] 3+ clusters for gas storage and adsorption selectivity of benzene over cyclohexane | |
JP6456076B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
Yang et al. | Proton-conductive Keggin-type clusters decorated by the complex moieties of Cu (II) 2, 2′-bipyridine-4, 4′-dicarboxylate/diethyl analogues | |
JP6456075B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6555861B2 (ja) | ふっ素を含有する配位性錯体又はその塩、ガス吸着材とその製法、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6452357B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
Wei et al. | Five-fold interpenetrating diamondlike 3D metal-organic frameworks constructed from the rigid 1, 2-di (pyridin-4-yl) ethane-1, 2-diol ligand and aromatic carboxylate | |
JP6422211B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP2015117203A (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6525686B2 (ja) | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6591728B2 (ja) | 屈曲配位子を含有する高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
JP6671128B2 (ja) | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置 | |
JP6338476B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 | |
Hamza et al. | Metal–organic frameworks (an overview) | |
JP6676406B2 (ja) | 三次元多孔高分子金属錯体、これを用いたガス吸着材、ガス分離装置、ガス貯蔵装置、触媒、導電性材料、センサー | |
JP6452356B2 (ja) | ふっ素を含有する配位高分子錯体、その製造方法、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20151215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161004 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6021691 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |