JP2014149517A5 - - Google Patents

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  1. 第1支持基板の上において、第1領域に位置する第1表示素子を含む第1表示素子部及び第1実装部を含む第1延在部と前記第1領域に隣接した第2領域に位置する第2表示素子を含む第2表示素子部及び第2実装部を含む第2延在部と、を形成した第1基板を用意し、
    第2支持基板の上において、前記第1表示素子部と対向する位置の第1剥離補助層と、前記第2表示素子部と対向し前記第1剥離補助層から離間した第2剥離補助層と、前記第1延在部及び前記第2延在部と対向する位置の犠牲層とを形成した第2基板を用意し、
    前記第1表示素子部と前記第1剥離補助層とが対向するとともに前記第2表示素子部と前記第2剥離補助層とが対向し、且つ、前記第1延在部及び前記第2延在部と前記犠牲層とが対向した状態で前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせ、
    前記第2基板に向けてレーザー光を照射して、前記犠牲層で当該レーザー光を遮光する一方で前記第1剥離補助層及び前記第2剥離補助層から前記第2支持基板を剥離する、表示装置の製造方法。
  2. 前記第1剥離補助層及び前記第2剥離補助層はポリイミドを主成分とする材料によって形成し、前記犠牲層はポリイミドを主成分とし前記第1剥離補助層及び前記第2剥離補助層よりも前記レーザー光のエネルギー吸収効率が高い色素材料を分散した材料によって形成する、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
  3. 前記第2基板を用意する工程は、前記第1剥離補助層の上に位置する第1カラーフィルタ層と、前記第2剥離補助層の上に位置する第2カラーフィルタ層と、を形成する工程を含み、
    前記第1カラーフィルタ層及び前記第2カラーフィルタ層は、それぞれ赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタ、及び、ブラックマトリクスを含み、
    前記犠牲層は前記ブラックマトリクスと同一材料によって同時に形成する、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
  4. 前記犠牲層の膜厚は、前記第1剥離補助層及び前記第2剥離補助層の膜厚よりも薄い、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
  5. 前記第1基板を用意する工程では、前記第1支持基板の上の前記第1領域及び前記第2領域に亘って連続的に延在した第3剥離補助層を形成した後に、前記第3剥離補助層の上の前記第1領域に前記第1表示素子部及び前記第1延在部を形成するとともに前記第2領域に前記第2表示素子部及び前記第2延在部を形成する、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
  6. さらに、前記第2支持基板を剥離した後に、前記第1領域と前記第2領域との間で前記第1基板を割断し、
    割断した前記第1領域及び前記第2領域のそれぞれについて、前記第1基板に向けてレーザー光を照射して前記第3剥離補助層から前記第1支持基板を剥離する、請求項5に記載の表示装置の製造方法。
  7. 前記第1基板を用意する工程では、前記第1支持基板の上に第3剥離補助層及び前記第3剥離補助層から離間した第4剥離補助層を形成した後に、前記第3剥離補助層の上に前記第1表示素子部及び前記第1実装部を形成するとともに前記第4剥離補助層の上に前記第2表示素子部及び前記第2実装部を形成する、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
  8. さらに、前記第1基板に向けてレーザー光を照射して前記第3剥離補助層及び前記第4剥離補助層から前記第1支持基板を剥離する、請求項7に記載の表示装置の製造方法。
  9. 前記犠牲層は、金属材料によって形成する、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
  10. 前記犠牲層の膜厚は、50nm乃至500nmである、請求項9に記載の表示装置の製造方法。
  11. 前記犠牲層は、前記第1剥離補助層の端面を覆う第1周辺遮光層及び前記第2剥離補助層の端面を覆う第2周辺遮光層と同一材料によって同時に形成し、前記第1周辺遮光層及び前記第2周辺遮光層のそれぞれと繋がっている、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
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