JP2014110419A - スピントランスファートルク磁気メモリデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】トポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の交互配列した層を含む第1層構造(6)および第2層構造(7)と、第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に挟まれ、デバイスの値を表す磁化方向を有する磁気材料(2)とを備え、第1層構造(6)および第2層構造(7)の各トポロジカル絶縁体層(4)は、磁気材料と直接接触しているスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)が開示される。
【選択図】図1
Description
Claims (15)
- ・トポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の交互配列した層を含む第1層構造(6)および第2層構造(7)と、
・第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に挟まれ、デバイスの値を表す磁化方向を有する磁気材料(2)とを備え、
第1層構造(6)および第2層構造(7)の各トポロジカル絶縁体層(4)は、磁気材料と直接接触している、スピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。 - 第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に電圧を印加するために、第1層構造(6)への第1電気コンタクト(21)と、第2層構造(7)への第2電気コンタクト(22)とをさらに備える請求項1記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。
- 第1電気コンタクト(21)は、複数の第1トポロジカル電気コンタクト(221)を備え、
第2電気コンタクト(22)は、複数の第2トポロジカル電気コンタクト(212)を備え、
各第1トポロジカル電気コンタクトは、他の第1コンタクトから隔離され、第1層構造(6)のトポロジカル絶縁体層(4)と接続されており、
各第2トポロジカル電気コンタクトは、他の第2コンタクトから隔離され、第2層構造(7)のトポロジカル絶縁体層(4)と接続されている請求項2記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。 - 第1層構造(6)、第2層構造(7)および磁気材料(2)は、磁化方向において、スピン偏極した電子のスピンによって生ずるトルクによって、スピン偏極した電子のスピンの移行を介して、磁気材料の磁化方向が制御可能なように互いに電気的に配置され、
スピン偏極した電子流が、第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に電圧を印加することによって、トポロジカル絶縁体層(4)の表面に沿って発生するようにした請求項1〜3のいずれかに記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。 - スピン偏極した電子のスピンは、スピン偏極した電子流の方向に対して直交する方向にある請求項4記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。
- 第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に電圧を印加して、印加電圧に関連して磁気材料(2)の磁化方向を制御するための電圧印加手段をさらに備える請求項4または5記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。
- 磁気材料(2)は、軟磁性材料(2)である請求項1〜6のいずれかに記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。
- トポロジカル絶縁体層(4)は、Bi2Se3,Bi2Te3,Sb2Te3のいずれか1つまたは組合せを含む請求項1〜7のいずれかに記載のスピントランスファートルク磁気メモリデバイス(1)。
- スピントランスファートルク磁気メモリデバイスを製造するための方法であって、
・トポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の交互配列した層を備えた層構造を用意するステップと、
・トポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の一部を磁気材料(2)で置換し、これにより磁気材料(2)の一方の側に位置決めされ、磁気材料(2)との界面(61)を有する第1層構造(6)を規定し、そして、磁気材料(2)の他方の側で第1層構造(6)とは反対側に位置決めされ、磁気材料(2)との界面(71)を有する第2層構造(7)を規定するステップと、
・第1層構造(6)のトポロジカル絶縁体層(4)への第1電気コンタクト(21)および第2層構造(7)のトポロジカル絶縁体層(4)への第2電気コンタクト(22)を用意するステップと、を含む方法。 - 層構造のトポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の一部を磁気材料(2)で置換するステップは、
・層構造のトポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の一部を除去し、これにより空洞を残すことと、
・該空洞を磁気材料(2)で充填することと、を含む請求項9記載の方法。 - 第1電気コンタクト(21)は、複数の第1トポロジカル電気コンタクト(221)を備え、
各第1トポロジカル電気コンタクト(221)は、他のコンタクトから隔離され、第1層構造(6)のトポロジカル絶縁体層(4)と接続されており、
第2電気コンタクト(22)は、複数の第2トポロジカル電気コンタクト(212)を備え、
各第2トポロジカル電気コンタクト(212)は、他のコンタクトから隔離され、第2層構造(7)のトポロジカル絶縁体層(4)と接続されている請求項9および10記載の方法。 - スピントランスファートルク磁気メモリデバイスを動作させるための方法であって、
・トポロジカル絶縁体層(4)および絶縁体層(5)の交互配列した層を備えた第1層構造(6)および第2層構造(7)を用意するステップと、
・第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に挟まれた、任意の初期状態に向いた制御可能な磁化を有する磁気材料(2)を用意するステップと、
・第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に電圧を印加し、これによりトポロジカル絶縁体層の表面に沿ってスピン偏極した電子流を発生するステップであって、スピン偏極した電子のスピンは、スピン偏極した電子流に対して直交した向きであり、これによりスピン偏極した電子は、スピントルクを磁気層の磁化に作用させ、これにより磁気材料(2)の磁化方向を、スピン偏極した電子のスピンの方向に向いた第2状態に制御するようにしたステップと、
・印加電圧に応じて、磁気材料(2)の磁化方向の第2状態を決定するステップと、
・決定した磁化方向の第2状態に基づいて値を決定するステップと、を含む方法。 - 第1層構造(6)と第2層構造(7)との間に電圧を印加するステップは、第1層構造のトポロジカル絶縁体層の各々と第2層構造のトポロジカル絶縁体層との間に独立した電圧を印加することを含む請求項12記載の方法。
- 磁気材料(2)の磁化方向の任意の初期状態は、スピン偏極した電子のスピンに対して反平行であり、
磁気材料(2)の磁化方向の第2状態は、スピン偏極した電子のスピンに対して平行である請求項12または13記載の方法。 - 値を決定するステップは、デジタル値を決定することを含む請求項14記載の方法。
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