JP2014038176A - 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板に設けられた複数の基準マークの設計上の第1の位置、第1の位置を基準として定められた基板に描画する描画パターン、及び複数の基準マークの各々の実際の第2の位置を各々示す座標データを取得し(S101、S103)、複数の基準マーク毎に、第1の位置と第2の位置とのずれを補正するためのずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量とを平均化した値とし(S113)、第2の位置を示す座標データを基準として描画パターンを示す座標データに基づいて被露光基板に描画パターンを描画する場合、平均化されたずれ補正量に基づいて描画パターンを示す座標データを補正する(S115)。
【選択図】図8
Description
また、図4に示すように、マトリクス状に配列された露光ヘッド22aの各々は、X方向に、画像領域P1の長辺の長さを自然数倍(本実施形態では、1倍)した距離ずつずらして配置されている。そして、露光済み領域P2の各々は、隣接する露光済み領域P2と部分的に重ねられて形成される。
次に、本実施形態に係る露光描画装置10の電気系の構成について説明する。
12 ステージ
20 露光部
22a 露光ヘッド
34 撮影部
40 システム制御部
62 画像
C 被露光基板
M、M1乃至M4 基準マーク
Claims (10)
- 被露光基板に設けられた複数の基準マークの設計上の位置である第1の位置を示す座標データ、前記第1の位置を基準として定められた前記被露光基板に描画する描画パターンを示す座標データ、及び前記複数の基準マークの各々の実際の位置である第2の位置を示す座標データを取得する取得手段と、
前記複数の基準マークの各々毎に、前記第1の位置と前記第2の位置とのずれを補正するためのずれ補正量を導出する導出手段と、
前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々のずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量とを平均化した値とする平均化手段と、
前記第2の位置を示す座標データを基準として前記描画パターンを示す座標データに基づいて前記被露光基板に前記描画パターンを描画する場合、前記平均化手段で平均化されたずれ補正量に基づいて前記描画パターンを示す座標データを補正する補正手段と、
を備えた描画装置。 - 前記平均化手段は、前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々のずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量との差の二分の一の値とする
請求項1記載の描画装置。 - 前記平均化手段は、前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々のずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量との和の二分の一の値とする
請求項1記載の描画装置。 - 前記平均化手段は、前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々のずれ補正量を、前記第1の位置と前記第2の位置との相関が大きいほど当該基準マークの重みを大きくして当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量とを平均化した値とする
請求項1乃至3の何れか1項記載の描画装置。 - 前記複数の基準マークは、前記被露光基板にマトリクス状に設けられ、
前記平均化手段は、前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々の行方向に対するずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに行方向に対して隣接する基準マークのずれ補正量とを平均化した値とし、前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々の列方向に対するずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに列方向に対して隣接する基準マークのずれ補正量とを平均化した値とする
請求項1乃至4の何れか1項記載の描画装置。 - 前記導出手段は、前記被露光基板の平行移動によるずれ、回転によるずれ、及び伸縮によるずれの少なくとも1つを差し引いたずれ量から前記ずれ補正量を導出する
請求項1乃至5の何れか1項記載の描画装置。 - 前記描画パターンは、前記被露光基板における複数の領域の各々に描画されるものであり、
前記基準マークは、前記描画パターンが描画される前記複数の領域の各々毎に設けられ、
前記平均化手段は、前記複数の領域の各々毎の前記ずれ補正量を前記平均化した値とする
請求項1乃至6の何れか1項記載の描画装置。 - 請求項1乃至7の何れか1項記載の描画装置と、
前記描画装置の前記補正手段によって補正された座標データに基づいて前記被露光基板に光ビームを露光することにより前記描画パターンを描画する露光手段と、
を備えた露光描画装置。 - コンピュータを、
被露光基板に設けられた複数の基準マークの設計上の位置である第1の位置を示す座標データ、前記第1の位置を基準として定められた前記被露光基板に描画する描画パターンを示す座標データ、及び前記複数の基準マークの各々の実際の位置である第2の位置を示す座標データを取得する取得手段と、
前記複数の基準マークの各々毎に、前記第1の位置と前記第2の位置とのずれを補正するためのずれ補正量を導出する導出手段と、
前記導出手段で導出された前記複数の基準マークの各々のずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量とを平均化した値とする平均化手段と、
前記第2の位置を示す座標データを基準として前記描画パターンを示す座標データに基づいて前記被露光基板に前記描画パターンを描画する場合、前記平均化手段で平均化されたずれ補正量に基づいて前記描画パターンを示す座標データを補正する補正手段と、
として機能させるためのプログラム。 - 被露光基板に設けられた複数の基準マークの設計上の位置である第1の位置を示す座標データ、前記第1の位置を基準として定められた前記被露光基板に描画する描画パターンを示す座標データ、及び前記複数の基準マークの各々の実際の位置である第2の位置を示す座標データを取得する取得ステップと、
前記複数の基準マークの各々毎に、前記第1の位置と前記第2の位置とのずれを補正するためのずれ補正量を導出する導出ステップと、
前記導出ステップで導出された前記複数の基準マークの各々のずれ補正量を、当該基準マークのずれ補正量と当該基準マークに最も近い基準マークのずれ補正量とを平均化した値とする平均化ステップと、
前記第2の位置を示す座標データを基準として前記描画パターンを示す座標データに基づいて前記被露光基板に前記描画パターンを描画する場合、前記平均化ステップで平均化されたずれ補正量に基づいて前記描画パターンを示す座標データを補正する補正ステップと、
を備えた描画方法。
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