JP2013536291A - 酸性及び塩基性基を有するオルガノポリシロキサンのエマルション及びその製造 - Google Patents
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Abstract
本発明は、エマルションに、及び塩基性及び酸性基を含むオルガノポリシロキサンのエマルションを製造する方法であって、第一工程で、第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xが電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性または塩基性減速剤(3)の存在下で転化させ、ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、及び酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、または塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)アミノ基(-NH-)1molに対して使用され、アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、第二工程で、該第一工程で(1)及び(2)から得られた、酸性または塩基性減速剤(3)を含む反応生成物(4a)を、所望により乳化剤(5)及び所望により有機溶剤(6)とともに、水(7)中で、乳化させ、粘度100Pa.s〜1000000Pa.s(25℃)を有する液体オルガノポリシロキサン(4b)のエマルションが25℃及び1020hPaで得られ、またはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、該オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X−NH−CO−N=(式中、Xが電子求引基である)の酸性基を有する、方法に関する。
Description
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X−N=C=O(式中、Xは電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミン基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
第二工程で、
前記第一工程で(1)及び(2)から得られた、酸性または塩基性減速剤(3)を含む反応生成物(4a)を、所望により乳化剤(5)及び所望により有機溶剤(6)とともに、水(7)中で、乳化させ、
25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100Pa.s〜1000000Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサン(4b)のエマルションまたはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有する、方法を提供する。
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xは電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基1molに対して使用されるか、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
(1)及び(2)から得られた反応生成物(4a)として、オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として、第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有し、かつ酸性または塩基性減速剤(3)を含む、方法を提供する。
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xが電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
第二工程で、
前記第一工程で(1)及び(2)から得られた、酸性または塩基性減速剤(3)を含む反応生成物(4a)を、所望により乳化剤(5)及び所望により有機溶剤(6)とともに、水(7)中で、乳化させ、
25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100Pa.s〜1000000Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサン(4b)のエマルションまたはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有することによって得ることが可能な、エマルションを提供する。
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xが電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3) 0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
(1)及び(2)から得られた反応生成物(4a)として、オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として、第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xが電子求引基である)の酸性基を有し、かつ酸性または塩基性減速剤(3)を含むことによって得ることが可能な、オルガノポリシロキサンを提供する。
−R2−[NR3−R4−]gNHR3 (I)
のSi−C結合した基Aであり、
式中、R2は、1〜18個の炭素原子を有する二価の直鎖状または分岐した炭化水素ラジカルであり、
R3は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカル、またはアシルラジカル、好ましくは水素原子であり、
R4は、1〜6個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、
qは、0、1、2、3または4、好ましくは0、1または2、特に好ましくは1または2である。
Aは、それに関して上記の意味を有し、
Rは、1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、
R’は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカルであり、
aは、0または1であり、
bは、0、1、2または3であり、
cは、0または1であるが、
ただし、a+b+cの合計は、≦3であり、オルガノポリシロキサンは、1分子あたり少なくとも1個のラジカルAを有する。
AkR★ 3−kSiO(R2SiO)m(AR★SiO)nSiR★ 3−kAk (III)
のオルガノポリシロキサンであり、式中、
Aは、それに関して上記の意味を有し、
R★は、Rまたは式−OR’のラジカルであり、
Rは、1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、
R’は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカルであり、
kは、0または1であり、
mは、1から1000、好ましくは10〜500、好ましくは20〜400の整数であり、
nは、0または1〜50、好ましくは1〜20、好ましくは1〜10の整数であり、
ただし、前記オルガノポリシロキサンは、1分子あたり少なくとも1個のラジカルAを含む。
H2N(CH2)3−
H2N(CH2)2NH(CH2)3−
H2N(CH2)2NH(CH2)CH(CH3)CH2−
(シクロヘキシル)NH(CH2)3−
CH3NH(CH2)3−
(CH3)2N(CH2)3−
CH3CH2NH(CH2)3−
(CH3CH2)2N(CH2)3−
CH3NH(CH2)2NH(CH2)3−
(CH3)2N(CH2)2NH(CH2)3−
CH3CH2NH(CH2)2NH(CH2)3−
(CH3CH2)2N(CH2)2NH(CH2)3−
のラジカル及びその部分的にアセチル化された形態である。
H2N(CH2)3−
H2N(CH2)2NH(CH2)3−
H2N(CH2)2NH(CH2)CH(CH3)CH2−
(シクロヘキシル)NH(CH2)3−
(アセチル)−NH(CH2)2NH(CH2)3−
H2N(CH2)2N(アセチル)(CH2)3−
のラジカルである。
CH3C6H4SO2−、C6H5SO2−、CH3SO2−、CCl3SO2−及びClSO2−の群から選択された式のラジカルであり、式CH3C6H4SO2−のラジカル(トシルラジカル)が好ましい。
p−トルエンスルホニルイソシアナート、
ベンゼンスルホニルイソシアナート、
トリクロロアセチルイソシアナート、
メタンスルホニルイソシアナート及び
クロロスルホニルイソシアナート
であり、p−トルエンスルホニルイソシアナートが好ましい。
ZpR3−pSiO(R2SiO)m(ZRSiO)nSiR3−pZp (IV)
のオルガノポリシロキサンであり、
式中、Zは、式
−R2−[N(−V)−R4−]gNR3−CO−NH−X
の酸性基Yまたは式
−R2−[NR3−R4−]gNH(−R3)
の塩基性基Aであり、
Vは、R3または式−CO−NH−Xのラジカルであり、
Xは、電子求引基であり、
R★は、Rまたは式−OR’のラジカルであり、
Rは、1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、
R’は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカルであり、
R2は、1〜18個の炭素原子を有する二価の直鎖状または分岐した炭化水素ラジカルであり、
R3は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカル、またはアシルラジカル、好ましくは水素原子であり、
R4は、1〜6個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、
qは、0、1、2、3または4、好ましくは0、1または2、好ましくは1または2であり、
pは、0または1であり、
mは、1から1000、好ましくは10〜500、好ましくは20〜400の整数であり、
nは、0または1〜50、好ましくは1〜20、好ましくは1〜10の整数であるが、
ただし、酸性基Yと塩基性基Aのモル比は、0.01〜100、好ましくは0.1〜10、好ましくは0.2〜5であり、オルガノポリシロキサンは、1分子あたり少なくとも2個の基Z、少なくとも1個の基Y、及び少なくとも1個の基Aを含む。
Yは、式
−(CH2)3−N(−V’)−CH2CH2−NH−CO−NH−SO2−C6H4−CH3
の基であり、式中、V’が、水素原子、または式
−CO−NH−SO2−C6H4−CH3
のラジカルであり、かつ
Aは、式
−(CH2)3−NH−CH2CH2−NH
の基である。
3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルシロキサン、ジメチルシロキサン及びトリメチルシロキサン単位からなり、粘度1600mPa.s(25℃)及びアミン価0.148であるアミノシロキサン125gを、24.2℃で、酢酸7.8gと混合する。次いで、p-トルエンスルホニルイソシアナート(TI)1.46gを混合し、混合物を、約5分後に温度増加が4.6°Kに達するまで、攪拌する。p-トルエンスルホニルイソシアナート(TI)の量は、すべてのアミノ基の40mol%を酸性スルホニル尿素基に転化するのに十分である。
例1に記載した、同じアミン価を有するが、粘度が2700mPa.s(25℃)であるアミノシロキサン125gを、例1と同量の酢酸及びp-トルエンスルホニルイソシアナートと反応させる。酢酸減速剤をフラッシングして除去した後、粘度2300Pa.s(25℃)が最終的に測定される。
例1のように製造したが、アミン価0.120及び粘度8900mPa.s(25℃)であるアミノシロキサン125gを、23.7℃で、酢酸2.7gだけと混合する。次いで、p-トルエンスルホニルイソシアナート(TI)1.19gをこの混合物中に攪拌して入れ、この間に反応混合物の温度がさらに増加した。混合物を45℃にさらに1時間加熱した。反応後、使用したアミノシロキサンのすべてのアミノ基の40mol%が、酸性スルホニル尿素基に転化した。
例1に記載したが、アミン価0.15及び粘度3650mPa.s(25℃)であるアミノシロキサン125gを、24.4℃で、酢酸3.4gと混合し、均質化する。温度を僅かに増加させた後、p-トルエンスルホニルイソシアナート(TI)0.74gをこの混合物中に攪拌して入れ、混合物を温度45℃に1時間加熱した。TIの量は、シロキサンのアミノ基の20mol%だけを転化するのに十分である。乾燥した試料は、なお25℃で粘度747Pa.s、従って本来の値の200倍の値を達成する。
3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルシロキサン及びメトキシ基及びヒドロキシ末端基を有するジメチルシロキサン単位の、アミン価0.134であり、25℃で粘度4300mPa.sのアミノシロキサン125gを、室温で、酢酸7.0gと混合し、次いで、p-トルエンスルホニルイソシアナート0.99gと反応させ、その後、混合物を、45℃で1時間十分に反応させる。
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X−N=C=O(式中、Xは電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
第二工程で、
前記第一工程で(1)及び(2)から得られた、酸性または塩基性減速剤(3)を含む反応生成物(4a)を、所望により乳化剤(5)及び所望により有機溶剤(6)とともに、水(7)中で、乳化させ、
25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100Pa.s〜1000000Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサン(4b)のエマルションまたはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有する、方法を提供する。
ZpR ★ 3−pSiO(R2SiO)m(ZRSiO)nSiR3−pZp (IV)
のオルガノポリシロキサンであり、
式中、Zは、式
−R2−[N(−V)−R4−]gNR3−CO−NH−X
の酸性基Yまたは式
−R2−[NR3−R4−]gNH(−R3)
の塩基性基Aであり、
Vは、R3または式−CO−NH−Xのラジカルであり、
Xは、電子求引基であり、
R★は、Rまたは式−OR’のラジカルであり、
Rは、1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、
R’は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカルであり、
R2は、1〜18個の炭素原子を有する二価の直鎖状または分岐した炭化水素ラジカルであり、
R3は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカル、またはアシルラジカル、好ましくは水素原子であり、
R4は、1〜6個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、
qは、0、1、2、3または4、好ましくは0、1または2、好ましくは1または2であり、
pは、0または1であり、
mは、1から1000、好ましくは10〜500、好ましくは20〜400の整数であり、
nは、0または1〜50、好ましくは1〜20、好ましくは1〜10の整数であるが、
ただし、酸性基Yと塩基性基Aのモル比は、0.01〜100、好ましくは0.1〜10、好ましくは0.2〜5であり、オルガノポリシロキサンは、1分子あたり少なくとも2個の基Z、少なくとも1個の基Y、及び少なくとも1個の基Aを含む。
Claims (11)
- 塩基性及び酸性基を有するオルガノポリシロキサンのエマルションを製造する方法であって、
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X−N=C=O(式中、Xは電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミン基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
第二工程で、
前記第一工程で(1)及び(2)から得られた、酸性または塩基性減速剤(3)を含む反応生成物(4a)を、所望により乳化剤(5)及び所望により有機溶剤(6)とともに、水(7)中で、乳化させ、
25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100Pa.s〜1000000Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサン(4b)のエマルションまたはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有する、方法。 - 塩基性及び酸性基を有するオルガノポリシロキサンを製造する方法であって、
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xは電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基1molに対して使用されるか、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
(1)及び(2)から得られた反応生成物(4a)として、オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として、第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X−NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有し、かつ酸性または塩基性減速剤(3)を含む、方法。 - 前記オルガノポリシロキサン(1)中の前記第一級及び/又は第二級アミノ基が、一般式
−R2−[NR3−R4−]gNHR3 (I)
のSi−C結合した基Aであり、
式中、R2は、1〜18個の炭素原子を有する二価の直鎖状または分岐した炭化水素ラジカルであり、
R3は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカル、またはアシルラジカル、好ましくは水素原子であり、
R4は、1〜6個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、
qは、0、1、2、3または4、好ましくは0、1または2である、請求項1または2に記載の方法。 - 前記使用するオルガノポリシロキサン(1)が、一般式
AkR★ 3−kSiO(R2SiO)m(AR★SiO)nSiR★ 3−kAk (III)
のオルガノポリシロキサンであり、
式中、Aは、それに関する請求項3に記載の意味を有し、
R★は、Rまたは式−OR’のラジカルであり、
Rは、1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、
R’は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカルであり、
kは、0または1であり、
mは、1から1000、好ましくは10〜500、好ましくは20〜400の整数であり、
nは、0または1〜50、好ましくは1〜20、好ましくは1〜10の整数であり、
ただし、前記オルガノポリシロキサンが、1分子あたり少なくとも1個のラジカルAを含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - 前記イソシアナート(2)中の前記ラジカルXが、式CH3C6H4SO2−、C6H5SO2−、CH3SO2−、CCl3SO2−及びClSO2−の群から選択される式のラジカルである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記酸性または塩基性減速剤(3)が、前記第一工程で(1)及び(2)から得られた前記反応生成物(4a)から除去され、その際、25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100〜1000000Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサン(4b)またはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、その際、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有する、請求項2〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 塩基性及び酸性基を有するオルガノポリシロキサンのエマルションであって、
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xが電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミン基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
第二工程で、
前記第一工程で(1)及び(2)から得られた、酸性または塩基性減速剤(3)を含む反応生成物(4a)を、所望により乳化剤(5)及び所望により有機溶剤(6)とともに、水(7)中で、乳化させ、
25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100Pa.s〜1000000Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサン(4b)のエマルションまたはエラストマー状オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xは電子求引基である)の酸性基を有することによって得ることが可能な、エマルション。 - 塩基性及び酸性基を有するオルガノポリシロキサンであって、
第一工程で、
第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有するオルガノポリシロキサン(1)を、式X-N=C=O(式中、Xが電子求引基である)のイソシアナート(2)と、酸性減速剤(3)、好ましくはカルボン酸、または塩基性減速剤(3)の存在下で反応させ、
ただし、(2)のイソシアナート基0.01〜0.9mol、好ましくは0.1〜0.8mol、好ましくは0.1〜0.5molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、かつ
酸性減速剤(3)0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、または
塩基性減速剤(3) 0.1〜10molが、(1)のアミノ基(-NH-)1molに対して使用され、
アミンが塩基性減速剤としてされる場合、第三級アミンのみが使用され、
(1)及び(2)から得られた反応生成物(4a)として、オルガノポリシロキサンが得られ、前記オルガノポリシロキサンが、塩基性基として、第一級及び/又は第二級アミノ基(-NH-)を有し、かつ酸性基として、式X-NH−CO−N=(式中、Xが電子求引基である)の酸性基を有し、かつ酸性または塩基性減速剤(3)を含むことによって得ることが可能な、オルガノポリシロキサン。 - 塩基性基として第一級及び/又は第二級アミノ基(−NH−)、及び酸性基として式X-NH−CO−N=(式中、Xが電子求引基である)の酸性基を有するオルガノポリシロキサンであって、前記オルガノポリシロキサンが、25℃及び1020hPaで液体であり、粘度100Pa.s〜1000000 Pa.s(25℃)を有するオルガノポリシロキサンまたはエラストマー状オルガノポリシロキサンである、オルガノポリシロキサン。
- オルガノポリシロキサンが、式
ZpR★ 3−pSiO(R2SiO)m(ZR★SiO)nSiR★ 3−pZp (IV)
の一種であり、
式中、
Zは、式
−R2−[N(−V)−R4−]gNR3−CO−NH−X
の酸性基Yまたは式
−R2−[NR3−R4−]gNH(−R3)
の塩基性基Aであり、
式中、Vは、R3または式−CO−NH−Xのラジカルであり、
Xは、電子求引基であり、
R★は、Rまたは式−OR’のラジカルであり、
Rは、1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、
R’は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカルであり、
R2は、1〜18個の炭素原子を有する二価の直鎖状または分岐した炭化水素ラジカルであり、
R3は、水素原子または1〜18個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C4アルキルラジカル、またはアシルラジカル、好ましくは水素原子であり、
R4は、1〜6個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、
qは、0、1、2、3または4、好ましくは0、1または2であり、
pは、0または1であり、
mは、1から1000、好ましくは10〜500、好ましくは20〜400の整数であり、
nは、0または1〜50、好ましくは1〜20、好ましくは1〜10の整数であり、
ただし、酸性基Yと塩基性基Aのモル比が、0.01〜100、好ましくは0.1〜10、好ましくは0.2〜5であり、前記オルガノポリシロキサンが、1分子あたり少なくとも2個の基Z、少なくとも1個の基Y、及び少なくとも1個の基Aを含む、請求項10に記載のオルガノポリシロキサン。 - Yは、式
−(CH2)3−N(−V’)−CH2CH2−NH−CO−NH−SO2−C6H4−CH3
の基であり、式中、V’が、水素原子、または式
−CO−NH−SO2−C6H4−CH3
のラジカルであり、かつ
Aは、式
−(CH2)3−NH−CH2CH2−NH
の基である、請求項11に記載のオルガノポリシロキサン。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010039704.0 | 2010-08-24 | ||
DE102010039704A DE102010039704A1 (de) | 2010-08-24 | 2010-08-24 | Emulsionen von Organopolysiloxane mit sauren und basischen Gruppen und deren Herstellung |
PCT/EP2011/063758 WO2012025383A1 (de) | 2010-08-24 | 2011-08-10 | Emulsionen von organopolysiloxanen mit sauren und basischen gruppen und deren herstellung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013536291A true JP2013536291A (ja) | 2013-09-19 |
JP2013536291A5 JP2013536291A5 (ja) | 2014-02-20 |
JP5763193B2 JP5763193B2 (ja) | 2015-08-12 |
Family
ID=44510956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013525233A Expired - Fee Related JP5763193B2 (ja) | 2010-08-24 | 2011-08-10 | 酸性及び塩基性基を有するオルガノポリシロキサンのエマルション及びその製造 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8669340B2 (ja) |
EP (1) | EP2609164B1 (ja) |
JP (1) | JP5763193B2 (ja) |
KR (1) | KR101456805B1 (ja) |
CN (1) | CN103534322B (ja) |
DE (1) | DE102010039704A1 (ja) |
WO (1) | WO2012025383A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110095941B (zh) * | 2011-12-26 | 2023-02-17 | 东丽株式会社 | 感光性树脂组合物和半导体元件的制造方法 |
US20150274970A1 (en) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | Wacker Chemical Corporation | Control of internal viscosity in in situ polymerized organopolysiloxane emulsions |
WO2023196581A1 (en) * | 2022-04-07 | 2023-10-12 | Lord Corporation | Compatibilizing agents and uses thereof |
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JP2013536276A (ja) * | 2010-07-27 | 2013-09-19 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | ウレタン−スルホンアミド連結性基を有するシロキサンコポリマーを製造する方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7090922B2 (en) | 2001-12-18 | 2006-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Silicone priming compositions, articles, and methods |
EP1359182A1 (en) | 2002-05-03 | 2003-11-05 | SigmaKalon Group B.V. | Organo-functional polysiloxanes |
US20040115154A1 (en) * | 2002-12-17 | 2004-06-17 | L'oreal | Compositions containing at least one oil structured with at least one silicone-polyamide polymer, and at least one short chain ester and methods of using the same |
US8058463B2 (en) * | 2007-12-04 | 2011-11-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Compnay | Fluorosilanes |
-
2010
- 2010-08-24 DE DE102010039704A patent/DE102010039704A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-08-10 WO PCT/EP2011/063758 patent/WO2012025383A1/de active Application Filing
- 2011-08-10 US US13/818,195 patent/US8669340B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-10 CN CN201180040083.1A patent/CN103534322B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-10 EP EP11748613.4A patent/EP2609164B1/de not_active Not-in-force
- 2011-08-10 JP JP2013525233A patent/JP5763193B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-10 KR KR1020137004450A patent/KR101456805B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4824518B1 (ja) * | 1968-09-06 | 1973-07-21 | ||
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130041960A (ko) | 2013-04-25 |
CN103534322A (zh) | 2014-01-22 |
EP2609164B1 (de) | 2014-10-01 |
WO2012025383A1 (de) | 2012-03-01 |
EP2609164A1 (de) | 2013-07-03 |
CN103534322B (zh) | 2016-02-03 |
KR101456805B1 (ko) | 2014-10-31 |
DE102010039704A1 (de) | 2012-03-01 |
US20130158193A1 (en) | 2013-06-20 |
US8669340B2 (en) | 2014-03-11 |
JP5763193B2 (ja) | 2015-08-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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