KR101456805B1 - 산성 및 염기성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션 및 이의 제법 - Google Patents

산성 및 염기성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션 및 이의 제법 Download PDF

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Abstract

본 발명은
1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 산성 또는 염기성 조절제(3)의 존재 하에 전환시키는 제1 단계로서, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰을 사용하고 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하고, 여기서 염기성 조절제로서 아민이 사용되는 경우, 3차 아민만을 사용하는 것을 특징으로 하는 제1 단계, 및
산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 제1 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)을, 경우에 따라 유화제(5) 및 경우에 따라 유기 용매(6)로 물(7) 중에서 유화시키고, 여기서 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100 Pa.s∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산(4b)의 에멀션 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어지고, 오르가노폴리실록산이 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖는 제2 단계
를 포함하는, 염기성 및 산성 기를 포함하는 오르가노폴리실록산의 에멀션 및 에멀션의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

산성 및 염기성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션 및 이의 제법{EMULSIONS OF ORGANOPOLYSILOXANES HAVING ACIDIC AND BASIC GROUPS AND THE PRODUCTION THEREOF}
본 발명은 산성 및 염기성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션 및 이의 제법에 관한 것이다. 추가적으로, 본 발명은 산성 및 염기성 기를 갖는 오르가노폴리실록산 및 이의 제법에 관한 것이다.
US 4,513,127에는 가교결합가능한 단량체에 적합한 n가 기 "G"에 결합된 화학식 RSO2NHCOX의 설파아미도 기를 갖는 단량체-가용성 촉진제 및 하나 이상의 자유 라디칼계 중합가능한 아크릴레이트 기를 갖는 단량체를 포함하는 자유 라디칼계 경화성 조성물이 기술된다. 가교결합가능한 단량체가 실리콘 아크릴레이트인 경우, 또한 자유 라디칼 수단에 의해 중합시키고자 하는 단량체로 촉진제의 용해성을 향상시키기 위해서는 "G"가 폴리실록산인 것이 유리하다. 이러한 촉진제를 제조하는 각종 방법이 제시된다. 따라서, 그 제법은 방향족 설포닐 이소시아네이트와 이소시아네이트에 대해 반응성인 실란을 반응시킨 후, 중합시켜 폴리실록산을 형성함으로써, 또는 방향족 설포닐 이소시아네이트와 이소시아네이트에 대해 반응성이고 동시에 불포화되며, 상응한 실록산 중합체로 전환시킬 수 있는 유기 화합물을 반응시킨 후, 이를 수소 실록산과 수소규소화반응시킴으로써 실시할 수 있다. 이작용성 치환기 "X"는 산소, 황, 퍼옥소 기 또는 아미노 기일 수 있고, X는 "G"가 오르가노폴리실록산일 경우 2가 탄화수소 라디칼을 통해 상기 "G"에 결합된다.
US 5,326,796에는 멀티히드록시(폴리에테르) 화합물과 토실 이소시아네이트의 반응에 의해 얻을 수 있는 저분자량 토실 우레탄이 기술된다. 이러한 우레탄은 핑거네일 바니쉬에서 포름알데히드계 수지에 대한 대체물로서 사용된다.
본 발명의 목적은 쉽게 유화될 수 있는 오르가노폴리실록산을 제조하고, 그렇게 함으로써, 탄성중합체형 오르가노폴리실록산에 대해 고점도의 에멀션을 얻을 수 있는, 산성 및 염기성 기를 함유하는 오르가노폴리실록산의 에멀션을 제조하는 방법을 제공하는 것이었다.
상기 목적은 본 발명에 의해 실현된다.
본 발명은
1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 산성 조절제(3), 바람직하게는 카르복실산 또는 염기성 조절제(3)의 존재 하에 반응시키고, 단 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰, 바람직하게는 0.1∼0.8몰, 바람직하게는 0.1∼0.5몰을 사용하고, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나, 또는 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하고, 여기서 염기성 조절제로서 아민이 사용되는 경우, 3차 아민만을 사용하는 제1 단계, 및
산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 제1 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)을, 경우에 따라 유화제(5) 및 경우에 따라 유기 용매(6)로 물(7) 중에서 유화시키고, 여기서 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100 Pa.s∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산(4b)의 에멀션 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어지고, 오르가노폴리실록산이 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖는 제2 단계
를 포함하는, 염기성 및 산성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션을 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명은 추가로
1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 산성 조절제(3), 바람직하게는 카르복실산 또는 염기성 조절제(3)의 존재 하에서 반응시키고, 단 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰, 바람직하게는 0.1∼0.8몰, 바람직하게는 0.1∼0.5몰을 사용하고, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나, 또는 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하고, 여기서 염기성 조절제로서 아민이 사용되는 경우, 3차 아민만을 사용하고, (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)로서, 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖고 산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 오르가노폴리실록산이 얻어지는 제1 단계
를 포함하는, 염기성 및 산성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 추가로
1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 산성 조절제(3), 바람직하게는 카르복실산 또는 염기성 조절제(3)의 존재 하에서 반응시키고, 단 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰, 바람직하게는 0.1∼0.8몰, 바람직하게는 0.1∼0.5몰을 사용하고, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나, 또는 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하고, 여기서 염기성 조절제로서 아민이 사용되는 경우, 3차 아민만을 사용하는 제1 단계, 및
산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 제1 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)을, 경우에 따라 유화제(5) 및 경우에 따라 유기 용매(6)로 물(7) 중에서 유화시키고, 여기서 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100 Pa.s∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산(4b)의 에멀션 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어지고, 오르가노폴리실록산이 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖는 제2 단계
에 의해 얻을 수 있는 염기성 및 산성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션을 제공한다.
본 발명은 추가로
1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 산성 조절제(3) 또는 염기성 조절제(3)의 존재 하에서 반응시키고, 단 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰, 바람직하게는 0.1∼0.8몰, 바람직하게는 0.1∼0.5몰을 사용하고, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나, 또는 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하고, 여기서 염기성 조절제로서 아민이 사용되는 경우, 3차 아민만을 사용하고, (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)로서, 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖고 산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 오르가노폴리실록산이 얻어지는 제1 단계
에 의해 얻을 수 있는 염기성 및 산성 기를 갖는 오르가노폴리실록산을 제공한다.
바람직하게는, 오르가노폴리실록산(1)에서 1차 및/또는 2차 아미노 기는 하기 화학식 I의 Si-C 결합된 기 A를 갖는다:
[화학식 I]
-R2-[NR3-R4-]gNHR3
상기 식에서,
R2는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 탄화수소 라디칼이고,
R3은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C1-C4-알킬 라디칼, 또는 아실 라디칼이고, 바람직하게는 수소 원자이고,
R4는 1∼6개의 탄소 원자를 갖는 2가 탄화수소 라디칼이고,
g는 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 특히 바람직하게는 1 또는 2이다.
바람직하게는, 오르가노폴리실록산(1)은 하기 화학식 II의 기를 갖는다:
[화학식 II]
Figure 112013016025057-pct00001
상기 식에서,
A는 상기에서 이에 대해 제시된 의미를 갖고,
R은 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
R'은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C1-C4-알킬 라디칼이고,
a는 0 또는 1이고,
b는 0, 1, 2 또는 3이고,
c는 0 또는 1이고,
단, a+b+c의 합계는 ≤ 3이고 오르가노폴리실록산은 분자 당 하나 이상의 라디칼 A를 함유한다.
바람직하게는, 사용된 오르가노폴리실록산(1)은 하기 화학식 III의 기를 갖는다:
[화학식 III]
AkR* 3- kSiO(R2SiO)m(AR*SiO)nSiR* 3- kAk
상기 식에서,
A는 상기에서 이에 대해 제시된 의미를 갖고,
R*은 R 또는 화학식 -OR'의 라디칼이고,
R은 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
R'은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C1-C4-알킬 라디칼이고,
k는 0 또는 1이고,
m은 1∼1000, 바람직하게는 10∼500, 바람직하게는 20∼400의 정수이고,
n은 0 또는 1∼50, 바람직하게는 1∼20, 바람직하게는 1∼10의 정수이고,
단, 오르가노폴리실록산은 분자 당 하나 이상의 라디칼 A를 함유한다.
1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼 R의 예로는 알킬 라디칼, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, 1-n-부틸, 2-n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸 라디칼, 헥실 라디칼, 예컨대 n-헥실 라디칼, 헵틸 라디칼, 예컨대 n-헵틸 라디칼, 옥틸 라디칼, 예컨대 n-옥틸 라디칼 및 이소옥틸 라디칼, 예컨대 2,2,4-트리-메틸펜틸 라디칼, 노닐 라디칼, 예컨대 n-노닐 라디칼, 데실 라디칼, 예컨대 n-데실 라디칼, 도데실 라디칼, 예컨대 n-도데실 라디칼, 및 옥타데실 라디칼, 예컨대 n-옥타데실 라디칼; 시클로알킬 라디칼, 예컨대 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 및 메틸시클로-헥실 라디칼; 알케닐 라디칼, 예컨대 비닐, 5-헥세닐, 시클로헥세닐, 1-프로페닐, 알릴, 3-부테닐 및 4-펜테닐 라디칼; 알키닐 라디칼, 예컨대 에티닐, 프로파르길 및 1-프로피닐 라디칼; 아릴 라디칼, 예컨대 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트릴 라디칼; 알카릴 라디칼, 예컨대 o-, m-, p-톨릴 라디칼, 크실릴 라디칼 및 에틸페닐 라디칼; 및 아르알킬 라디칼, 예컨대 벤질 라디칼, α- 및 β-페닐에틸 라디칼이 있다.
탄화수소 라디칼 R'의 예로는 알킬 라디칼, 예컨대 메틸 및 에틸 라디칼이 있다.
라디칼 A의 바람직한 예로는 하기 화학식의 라디칼 및 이의 부분 아세틸화된 형태가 있다:
H2N(CH2)3-
H2N(CH2)2NH(CH2)3-
H2N(CH2)2NH(CH2)CH(CH3)CH2-
(시클로헥실)NH(CH2)3-
CH3NH(CH2)3-
(CH3)2N(CH2)3-
CH3CH2NH(CH2)3-
(CH3CH2)2N(CH2)3-
CH3NH(CH2)2NH(CH2)3-
(CH3)2N(CH2)2NH(CH2)3-
CH3CH2NH(CH2)2NH(CH2)3-
(CH3CH2)2N(CH2)2NH(CH2)3-.
라디칼 A의 특히 바람직한 예로는 하기 화학식의 라디칼이 있다:
H2N(CH2)3-
H2N(CH2)2NH(CH2)3-
H2N(CH2)2NH(CH2)CH(CH3)CH2-
(시클로헥실)NH(CH2)3-
(아세틸)-NH(CH2)2NH(CH2)3-
H2N(CH2)2N(아세틸)(CH2)3-.
오르가노폴리실록산(1)은 바람직하게는 25℃에서 5∼50,000 mPa.s, 바람직하게는 25℃에서 100∼10,000 mPa.s의 점도를 갖고, 바람직하게는 바람직하게는 0.05∼2.0, 바람직하게는 0.1∼0.8의 아민가에 상응한 0.05∼2.0 mEquiv/g, 바람직하게는 0.1∼0.8 mEquiv/g의 아민 함량을 갖는다.
바람직하게는, 이소시아네이트(2)에서 라디칼 X는 하기 화학식
CH3C6H4SO2-, C6H5SO2-, CH3SO2-, CCl3SO2- 및 ClSO2-
의 군에서 선택된 화학식의 라디칼이고, 여기서 화학식 CH3C6H4SO2-의 라디칼(토실 라디칼)이 바람직하다.
따라서, 이소시아네이트(2)의 예로는
p-톨루엔설포닐 이소시아네이트,
벤젠설포닐 이소시아네이트,
트리클로로아세틸 이소시아네이트,
메탄설포닐 이소시아네이트 및
클로로설포닐 이소시아네이트
가 있고, 여기서 p-톨루엔설포닐 이소시아네이트가 바람직하다.
제1 방법 단계에서 (1)과 (2)의 반응은 산성 또는 염기성 조절제(3)의 존재 하에서 실시한다. 바람직하게는, 조절제는 일작용성 산 또는 염기이다.
산성 조절제(3)의 예로는 카르복실산, 바람직하게는 일작용성 카르복실산, 예컨대 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 2-메틸헥산산, 옥탄산; 지방산, 예컨대 퍼라르곤산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 올레산, 리놀레산; 벤조산; 락트산; 설폰산, 예컨대 메탄설폰산, 에탄설폰산, 벤젠설폰산, 톨루엔설폰산; 무기산, 예컨대 질산, 염산, 브롬화수소산 및 요오드화수소산이 있다. 몰량이 150 Da 미만, 특히 80 Da 미만인 산을 제공하는 것이 바람직하다.
염기성 조절제(3)의 예로는 3차 아민, 예컨대 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 디메틸에틸아민, 디메틸이소프로필-아민, 디에틸이소프로필아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸부틸아민, 트리이소옥틸아민 및 메틸모르폴린이 있다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계는 바람직하게는 0∼100℃, 바람직하게는 10∼60℃에서 온도에서 수행되고, 바람직하게는 상승압 분위기에서, 즉 약 1020 hPa에서 실시하지만, 또한 더 높은 압력 또는 더 낮은 압력에서 수행될 수도 있다.
제1 방법 단계에서 (1)과 (2)의 반응은 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 및 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)에서 산성 기, 바람직하게는 화학식 CH3C6H4SO2-에서 토실 기를 함유하는 오르가노폴리실록산을 형성하는데, 즉 여기서 아미노 기는 부분적으로 산성 카르바미도설폰 기로 전환되고, 잔기 염기성 아미노 기가 잔류하게 된다.
제1 방법 단계에서 사용된 오르가노폴리실록산(1)은 바람직하게는 g = 1인 경우, 디아미노 기이고 g = 2인 경우, 트리아미노 기인 화학식 I의 Si-C 결합된 아미노 기 A를 갖는다. 이러한 아미노 기와 이소시아네이트(2)를 반응시키는 경우, N 원자는 디아민 또는 트리아미노 기로 전부 또는 일부 전환될 수 있다. 제1 방법 단계에서, 이러한 방식으로 단지 부분적으로만 반응되는 경우, 분자뿐만 아니라 동일한 Si-C 결합된 치환기에도 산성 및 염기성 기를 함유하는 오르가노폴리실록산이 형성될 수 있다.
오르가노폴리실록산(1)은 또한 추가적으로 3차 아미노 기를 가질 수 있지만, 이는 이소시아네이트(2)와 반응하지 않고 이에 따라 염기성 기로서 유지된다.
산성 또는 염기성 조절제(3)는 제1 방법 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)로부터 제거될 수 있고, 여기서 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산(4b) 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어지고, 오르가노폴리실록산은 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖는다.
조절제(3), 특히 카르복실산, 예컨대 아세트산의 제거는, 바람직하게는 제1 방법 단계에서 30∼60℃의 온도에서 가열시키고/시키거나 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)을 건조시킴으로써 실시한다. 얇은 층에서 또는 그외에 그렇지 않은 경우 장시간에 걸쳐서, 간단한 플래시 오프(flashing off)는 마찬가지로 고도의 점성 오르가노폴리실록산을 유도한다. 유화된 액적에서 수상으로 이동시키는 조절제(3), 바람직하게는 친수성 조절제(3)의 결과로서, 점도의 상당한 증가 또한 발생할 수 있다.
25℃ 및 1020 hPa에서 액체인 오르가노폴리실록산(4b)은 바람직하게는 25℃에서 100∼100,000 mPa.s, 바람직하게는 25℃에서 100∼10,000 mPa.s의 점도를 갖는다.
사용된 오르가노폴리실록산(1) 대 얻어진 오르가노폴리실록산(4b)의 점도비는 바람직하게는 20 초과, 바람직하게는 50 초과, 특히 100 초과, 특히 바람직하게는 200 초과이다.
액체 오르가노폴리실록산(4b) 외에, 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 또한 얻어지지만, 이의 점도는 더이상 측정될 수 없다.
따라서, 본 발명은 염기성 기로서 1차 및/또는 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기임)의 기를 갖는 오르가노폴리실록산(4b)을 제공하며, 여기서 오르가노폴리실록산은 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100 Pa.s∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이다.
바람직하게는, 산성 기 대 염기성 기의 몰비는 0.01∼100, 바람직하게는 0.1∼10, 바람직하게는 0.2∼5, 특히 바람직하게는 0.2∼2이다.
바람직하게는, 오르가노폴리실록산(4b)은 하기 화학식 IV의 기를 갖는다:
[화학식 IV]
ZpR* 3- pSiO(R2SiO)m(ZRSiO)nSiR3 - pZp
상기 식에서,
Z는 화학식 -R2-[N(-V)-R4-]gNR3-CO-NH-X의 산성 기 Y 또는 화학식 -R2-[NR3-R4-]gNH(-R3)의 염기성 기 A이고,
V는 R3 또는 화학식 -CO-NH-X의 라디칼이고,
X는 전자 구인기이고,
R*은 R 또는 화학식 -OR'의 라디칼이고,
R은 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
R'은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C1-C4-알킬 라디칼이고,
R2는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 탄화수소 라디칼이고,
R3은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C1-C4-알킬 라디칼, 또는 아실 라디칼이고, 바람직하게는 수소 원자이고,
R4는 1∼6개의 탄소 원자를 갖는 2가 탄화수소 라디칼이고,
g는 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 1 또는 2이고,
p는 0 또는 1이고,
m은 1∼1000, 바람직하게는 10∼500, 바람직하게는 20∼400의 정수이고,
n은 0 또는 1∼50, 바람직하게는 1∼20, 바람직하게는 1∼10의 정수이고,
단, 산성 기 Y 대 염기성 기 A의 몰비는 0.01∼100, 바람직하게는 0.1∼10, 바람직하게는 0.2∼5이고,
오르가노폴리실록산은 분자 당 둘 이상의 Z 기, 하나 이상의 Y 기 및 하나 이상의 A 기를 함유한다.
바람직하게는,
Y는 화학식 -(CH2)3-N(-V')-CH2CH2-NH-CO-NH-SO2-C6H4-CH3의 기이고, 여기서 V'는 수소 원자 또는 화학식 -CO-NH-SO2-C6H4-CH3의 라디칼이고,
A는 화학식 -(CH2)3-NH-CH2CH2-NH2의 기이다.
제2 방법 단계에서, (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)로서 산성 또는 염기성 조절제(3)를 갖는 제1 방법 단계에서 얻은 오르가노폴리실록산은 바람직하게는 유화제(5), 바람직하게는 유기 용매(6)로 물(7) 중에서 유화된다.
본 발명에 따른 에멀션의 제조는 성분 (4a), (5), (6) 및 (7)의 혼합, 바람직하게는 고압력 혼합에 의해 실시된다.
오르가노폴리실록산의 에멀션을 제조하는 기법은 공지되어 있다. 따라서, 고압력 혼합은 회전자-고정자 교반 장치, 콜로이드 밀 또는 고압 균질화기에서 실시할 수 있다.
사용될 수 있는 유화제(5)는 지금까지 공지된 모든 양이온성, 음이온성 및 비이온성 유화제, 또한 지금까지 오르가노폴리실록산의 수성 에멀션이 제조될 수 있었던 개별 유화제 또는 상이한 유화제의 혼합물이다.
적당한 음이온성 유화제는 특히 다음과 같다:
1. 알킬 설페이트, 특히 8∼18 탄소 원자의 쇄 길이를 갖는 것, 소수성 라디칼에 8∼18개의 탄소 원자를 갖는 알킬 및 알카릴 에테르 설페이트 및 1∼40개의 산화에틸렌(EO) 및/또는 산화프로필렌(PO) 단위.
2. 설포네이트, 특히 8∼18개의 탄소 원자를 갖는 알킬설포네이트, 8∼18개의 탄소 원자를 갖는 알킬아릴설포네이트, 타우리드, 설포숙신산과 4∼15개의 탄소 원자를 갖는 1가 알콜 또는 알킬-페닐의 에스테르 및 하프-에스테르(경우에 따라, 이러한 알콜 또는 알킬페닐은 또한 1∼40개의 EO 단위로 에톡시화될 수 있음).
3. 알킬, 아릴, 알카릴 또는 아르알킬 라디칼에 8∼20개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 알칼리 금속 및 암모늄 염.
4. 인산 부분 에스테르 및 알칼리 금속 및 이의 암모늄 염, 특히 유기 라디칼에 8∼20개의 탄소 원자를 갖는 알킬 및 알카릴 포스페이트, 알킬 또는 알카릴 라디칼에 8∼20개의 탄소 원자를 갖는 알킬 에테르 및 알카릴 에테르 포스페이트 및 1∼40개의 EO 단위.
적당한 비이온성 유화제는 특히 다음과 같다:
5. 또한 5∼50%, 바람직하게는 8∼20%의 비닐 아세테이트 단위를 갖고, 중합도가 500∼3000인 폴리비닐 알콜.
6. 알킬 폴리글리콜 에테르, 바람직하게는 8∼40개의 EO 단위 및 8∼20개의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼을 갖는 것.
7. 알킬아릴 폴리글리콜 에테르, 바람직하게는 8∼40개의 EO 단위 및 알킬 및 아릴 라디칼에 8∼20개의 탄소 원자를 갖는 것.
8. 산화에틸렌/산화프로필렌(EO/PO) 블록 공중합체, 바람직하게는 8∼40개의 EO 및/또는 PO 단위를 갖는 것.
9. 산화에틸렌 또는 산화프로필렌을 갖는 8∼22개의 탄소 원자의 알킬 라디칼과 알킬아민의 첨가 생성물.
10. 6∼24개의 탄소 원자를 갖는 지방산.
11. 화학식 R*-O-Zo(여기서, R*은 평균 8∼24개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된 알킬 라디칼이고 Zo는 평균 o = 1∼10개의 헥소스 또는 펜토스 단위 또는 이의 혼합물을 갖는 올리고글리코시드 라디칼임)의 알킬 폴리글리코시드.
12. 천연 물질 및 이의 유도체, 예컨대 레시틴, 라놀린, 사포닌, 셀룰로스; 셀룰로스 알킬 에테르 및 카르복시알킬셀룰로스, 각 경우에 4개 이하의 탄소 원자를 갖는 알킬 기.
13. 극성 기를 함유하는 선형 오르가노(폴리)실록산, 특히 24개 이하의 탄소 원자 및/또는 40개 이하의 EO 및/또는 PO 기를 갖는 알콕시 기를 갖는 것.
적당한 양이온성 유화제는 특히 다음과 같다:
14. 아세트산, 황산, 염산 및 인산과 8∼24개의 탄소 원자를 갖는 1차, 2차 및 3차 지방 아민의 염.
15. 4차 알킬- 및 알킬벤젠 암모늄 염, 특히 알킬 기가 6∼24개의 탄소 원자를 갖는 것, 특히 할라이드, 설페이트, 포스페이트 및 아세테이트.
16. 알킬피리디늄, 알킬이미다졸리늄 및 알킬옥사졸리늄 염, 특히 알킬 쇄가 18개 이하의 탄소 원자를 갖는 것, 구체적으로는 할라이드, 설페이트, 포스페이트 및 아세테이트.
적당한 양쪽성 유화제는 특히 다음과 같다:
17. 장쇄 치환된 아미노산, 예컨대 N-알킬디(아미노에틸)글리신 또는 N-알킬-2-아미노프로피온산 염.
18. 베타인, 예컨대 N-(3-아실아미도프로필)-N,N-디-메틸암모늄 염과 C8-C18-아실 라디칼 및 알킬이미다졸리늄 베타인.
바람직한 유화제는 비이온성 유화제, 특히 상기 6항 하에 나열된 알킬 폴리글리콜 에테르, 9항 하에 나열된 산화에틸렌 또는 산화프로필렌과 알킬아민의 첨가 생성물, 11항 하에 나열된 알킬 폴리글리코시드 및 5항 하에 나열된 폴리비닐 알콜이다.
본 발명에 따른 에멀션의 경우, 유화제(5)는 각 경우에 반응 생성물(4a) 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 0∼30 중량부, 특히 바람직하게는 5∼20 중량부의 양으로 사용된다.
25℃에서 점도가 0.65∼100 mPa.s인 유기 용매(6)의 예로는 포화된 탄화수소, 예컨대 n-펜탄, n-헥산, n-헵탄 및 n-옥탄, 및 이의 분지형 이성질체, 벤진, 예컨대 1020 hPa에서 80℃∼140℃의 비등 범위를 갖는 알칸 혼합물, 불포화된 탄화수소, 예컨대 1-헥센, 1-헵텐, 1-옥텐 및 1-데센, 방향족 탄화수소 예컨대 벤젠, 톨루엔 및 크실렌, 1∼6개의 탄소 원자(들)를 갖는 할로겐화된 알칸, 예컨대 메틸렌 클로라이드, 트리클로로에틸렌 및 퍼클로로에틸렌, 에테르, 예컨대 디-n-부틸 에테르, 에스테르, 예컨대 에틸렌 아세테이트, 케톤, 예컨대 메틸 에틸 케톤 및 시클로헥산온, 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-프로판올 및 이소프로판올, 및 글리콜, 예컨대 에틸렌 글리콜 및 디에틸렌 글리콜 및 글리콜 에테르, 예컨대 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르(부틸 디글리콜), 및 또한 실리콘유, 예컨대 트리메틸실릴-캡핑된 디메틸폴리실록산이 있다.
본 발명에 따른 에멀션의 경우, 유기 용매(6)는 각 경우에 반응 생성물(4a) 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 0∼100 중량부, 특히 바람직하게는 5∼30 중량부의 양으로 사용된다.
본 발명에 따른 에멀션에, 물(7)은 각 경우에 반응 생성물(4a) 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 80∼400 중량부, 특히 바람직하게는 100∼400 중량부의 양으로 사용된다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계, 유화는 바람직하게는 10∼70℃, 바람직하게는 20∼50℃의 온도에서 수행되고, 바람직하게는 상승압 분위기에서, 즉 약 1020 hPa에서 실시하지만, 또한 더 높은 압력 또는 더 낮은 압력에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법은 염기성 아미노 기(-NH-)와 이소시아네이트 X-N=C=O(여기서, X는 전자 구인기 X임)의 부분 반응의 결과로서, 제1 방법 단계에서 잔기 염기성 기 및 또한 산성 기를 동시에 함유하는 오르가노폴리실록산을 얻는 장점을 갖는다. 바람직한 경우, X가 토실 기 CH3C6H2SO2-인 경우, 카르보닐 및 설포닐 기의 강한 전자 인력으로 인해, (카르복실산과 유사한) 산성 성질이 발달한 토실우레아 기가 형성된다. 이러한 방식으로, 강한 이온성 상호작용을 갖는 오르가노폴리실록산이 생성된다. 여기서 탄성중합체형 오르가노폴리실록산에 대한 고도의 점성은 평균 하나 이상의 염기성 및 산성 기를 함유하는 이러한 오르가노폴리실록산의 다중 이온성 상호작용만의 결과로서 얻어지고, 이는 정전기적으로 유인된다. 하지만, 고도의 점성 오르가노폴리실록산은 더이상 유화될 수 없다는 단점을 갖는다.
조절제, 바람직하게는 카르복실산, 예컨대 아세트산의 첨가는, 놀랍게도 제1 방법 단계에서 부분적 반응 동안, 산성 및 염기성 기를 갖는 본 발명에 따른 실록산이 유화에 용이하도록 충분하게 광범위한 범위로 이러한 점도 증가를 방지하거나 감소시킨다. 한편, 이러한 조절제를 플래시 오프 또는 세척 등에 의해 제거하는 경우, 탄성중합체형 오르가노폴리실록산에 대해 고점도가 형성된다. 따라서, 본 발명에 따른 방법은 조절제, 바람직하게는 카르복실산의 첨가 결과로서, 오르가노폴리실록산을 유화시킬 수 있고, 이러한 방식으로 고점도 오르가노폴리실록산의 에멀션 또는 점도가 기인될 수 없는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어진다는 추가의 장점을 갖는다.
반대 결과로, 본 발명에 따른 오르가노폴리실록산은 이러한 폴리이온성 상호작용에 간섭하는 물질이 또한 적용된 고점도 중합체를 다시 더욱 이동성을 갖도록 하고 분리시킬 수 있는 결과로서 물질의 점도에 다시 감소를 유도할 수 있다는 장점을 제공한다. 이는 표면 상에 불필요한 축적을 방지하는 선택을 제공하는 적당한 세척 용액 또는 에멀션에 의해 실현될 수 있다.
본 발명에 따른 산성 및 염기성 기를 함유하는 오르가노폴리실록산의 에멀션은 원칙적으로 이에 따라 고점도 실록산, 특히 아미노실록산이 예를 들어 헤어 케어 조성물 및 샴푸, 광택제, 코팅 케어 조성물, 섬유 유연제의 제형, 및 상당히 일반적인 표면 처리용 제형에 있어 장점을 제공하는 분야에 사용될 수 있다.
실시예 1:
점도가 1600 mPa.s(25℃)이고 아민가가 0.148인 3-(2-아미노-에틸)아미노프로필메틸실록산, 디메틸실록산 및 트리메틸실록산 단위로 이루어지는 아미노실록산 125 g을 24.2℃에서 7.8 g의 아세트산과 혼합시켰다. 이후, 1.46 g의 p-톨루엔설포닐 이소시아네이트(TI)를 혼합시키고 약 5분 후 4.6°K의 온도 증가에 도달 할 때까지 이 혼합물을 교반하였다. p-톨루엔설포닐 이소시아네이트(TI)의 양은 모든 아미노 기의 40 몰%를 산성 설포닐우레아 기로 전환시키기에 충분하였다.
상기 혼합물을 추가 시간 동안 45℃에서 가열한 후, 중합체 점도를 상당히 증가시키는 시간 동안 몇 g의 샘플을 유리판 상에서 정치시켜 건조하였다. 3일 후, 25℃에서 1200 Pa.s의 점도가 측정되었다. p-톨루엔설포닐 이소시아네이트(TI)와 질량 1.17%로 부분적으로 반응된 아미노실록산은 이의 점도를 750배 증가시켰다.
22 g의 이소트리데실 펜타에톡실레이트(유화제(5))와 10 g의 부틸 디글리콜의 혼합물과 함께 아세트산으로 희석되고 부분적으로 반응된 아미노실록산 68 g을 총 100 g의 물에서 사용하여 문제없이 그리고 고전단력을 사용하는 일 없이 약 34 중량% 중합체를 포함하는 투명한 미분된 에멀션을 생성하였다.
이러한 유화 공정은 아세트산-무함유 고도의 점성 중합체(25℃에서 1200 Pa.s)에 의해 수행될 수는 없다.
실시예 2:
실시예 1에 기술되고 동일한 아민가를 갖지만 점도가 2700 mPa.s(25℃)인 아미노실록산 125 g을 실시예 1에서와 같은 동량의 아세트산 및 p-톨루엔설포닐 이소시아네이트와 반응시켰다. 아세트산 조절제를 플래시 오프시킨 후, 궁극적으로 2300 Pa.s(25℃)의 점도가 측정될 수 있었다.
하지만, 실시예 1에서와 같이, 상기에서 얻어진 부분적으로 반응된 (모든 아미노 기의 40 몰%) 아미노실록산과 아세트산의 혼합물은 문제없이 유화되어 미분된 에멀션을 형성할 수 있었다.
하지만, 아세트산-무함유 고도의 점성 중합체에 의한 유화 공정은 수행될 수 없었다.
실시예 3:
실시예 1에서와 같이 구성되지만 아민가가 0.120이고 점도가 8900 mPa.s(25℃)인 아미노실록산 125 g을 23.7℃에서 오직 2.7 g의 아세트산과 혼합시켰다. 이후, 상기 혼합물에 반응 혼합물의 온도가 추가로 증가되는 시간 동안 1.19 g의 p-톨루엔설포닐 이소시아네이트(TI)를 교반하였다. 혼합물을 추가 시간 동안 45℃에서 가열하였다. 반응 완료시, 사용된 아미노실록산 중 모든 아미노 기의 40 몰%를 산성 설포닐우레아 기로 전환시켰다.
실시예 1에서와 같이 건조된, 상기 생성물의 몇 g의 샘플은 25℃에서 16,100 Pa.s의 점도를 실현하였다. 이에 따라 TI 상에서 1 중량% 미만의 질량에서 유도된 아미노실록산은 원래의 점도에 1800배의 점도를 실현하였다.
실시예 1에서와 같이, 유화 공정 동안 실시되는 점도에 상당한 증가가 일어나는 일 없이 문제없이 동일한 방식으로 상기 생성물 68 g을 유화시켰다. 이는 아세트산-무함유 고도의 점성 중합체에 의해 수행될 수 없었다.
실시예 4:
실시예 1에 기술된 바와 같지만 아민가가 0.15이고 점도가 3650 mPa.s(25℃)인 아미노실록산 125 g을 24.4℃에서 3.4 g의 아세트산과 혼합시키고 균질화하였다. 온도를 약간 증가시킨 후, 0.74 g의 p-톨루엔설포닐 이소시아네이트(TI)를 교반하고 그 혼합물을 1시간 동안 45℃에서 가열하였다. TI의 양은 실록산의 모든 아미노 기의 20 몰%만을 전환시키기에 충분하였다. 건조된 샘플은 여전히 25℃에서 747 Pa.s의 점도를 실현하였으며 이에 따라 원래값의 200배의 값을 실현하였다.
실시예 5:
메톡시 및 히드록시 말단 기, 0.134의 아민가 및 25℃에서 4300 mPa.s의 점도를 가진 3-(2-아미노에틸)아미노-프로필메틸실록산 및 디메틸실록산 단위의 아미노실록산 125 g을 실온에서 7.0 g의 아세트산과 혼합시킨 후 0.99 g의 p-톨루엔설포닐 이소시아네이트와 반응시키고, 이후 그 혼합물을 정치시켜 1시간 동안 45℃에서 완전하게 반응시켰다.
산성 조절제는 편평한 유리 디쉬에서 상기 반응 혼합물 몇 g으로부터 플래시 오프되었다. 탄성중합체형 투명 생성물을 얻었고, 이의 점도는 더이상 측정할 수 없었다.
하지만 실시예 1에서와 같이, 부분적으로 반응된 (모든 아미노 기의 30 몰%) 아미노실록산과 아세트산의 혼합물을 문제없이 유화시킬 수 있었다.
하지만, 아세트산-무함유 탄성중합체형 중합체에 의한 이러한 유화 공정은 수행될 수 없었다.
발명의 효과
본 발명은 쉽게 유화될 수 있는 오르가노폴리실록산을 제조하고, 그렇게 함으로써, 탄성중합체형 오르가노폴리실록산에 대해 고점도의 에멀션을 얻을 수 있는, 산성 및 염기성 기를 함유하는 오르가노폴리실록산의 에멀션을 제조하는 방법을 제공한다.

Claims (11)

1차, 2차, 또는 1차 및 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 화학식 CH3C6H4SO2-, C6H5SO2-, CH3SO2-, CCl3SO2- 및 ClSO2-의 군에서 선택된 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 카르복실산의 군에서 선택된 산성 조절제(3) 또는 3차 아민의 군에서 선택된 염기성 조절제(3)의 존재 하에 반응시키고, 단 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰을 사용하고, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나, 또는 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하는 제1 단계, 및
산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 제1 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)을 물(7) 중에서 유화시키고, 여기서 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100 Pa.s∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산(4b)의 에멀션 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어지고, 오르가노폴리실록산이 염기성 기로서 1차, 2차, 또는 1차 및 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기이고 이에 대해 상기 제시된 의미를 가짐)의 기를 갖는 제2 단계
를 포함하는, 염기성 및 산성 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 에멀션을 제조하는 방법.
1차, 2차, 또는 1차 및 2차 아미노 기(-NH-)를 갖는 오르가노폴리실록산(1)과 화학식 X-N=C=O(여기서, X는 화학식 CH3C6H4SO2-, C6H5SO2-, CH3SO2-, CCl3SO2- 및 ClSO2-의 군에서 선택된 전자 구인기임)의 이소시아네이트(2)를 카르복실산의 군에서 선택된 산성 조절제(3) 또는 3차 아민의 군에서 선택된 염기성 조절제(3)의 존재 하에서 반응시키고, 단 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 (2)에서 이소시아네이트 기 0.01∼0.9몰을 사용하고, (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 산성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하거나, 또는 (1)에서 아미노 기(-NH-) 1몰 당 염기성 조절제(3) 0.1∼10몰을 사용하고, 여기서 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)로서, 염기성 기로서 1차, 2차, 또는 1차 및 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 전자 구인기이고 이에 대해 상기 제시된 의미를 가짐)의 기를 갖고 산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 오르가노폴리실록산이 얻어지는 제1 단계
를 포함하는, 염기성 및 산성 기를 갖는 오르가노폴리실록산을 제조하는 방법.
제1항에 있어서, 오르가노폴리실록산(1)에서 1차, 2차, 또는 1차 및 2차 아미노 기는 하기 화학식 I의 Si-C 결합된 기 A를 갖는 것을 특징으로 하는 방법:
[화학식 I]
-R2-[NR3-R4-]gNHR3
상기 식에서,
R2는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 탄화수소 라디칼이고,
R3은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
R4는 1∼6개의 탄소 원자를 갖는 2가 탄화수소 라디칼이고,
g는 0, 1, 2, 3 또는 4이다.
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 사용된 오르가노폴리실록산(1)은 하기 화학식 III의 기를 갖는 것을 특징으로 하는 방법:
[화학식 III]
AkR* 3-kSiO(R2SiO)m(AR*SiO)nSiR* 3-kAk
상기 식에서,
A는 제3항에서 이에 대해 제시된 의미를 갖고,
R*은 R 또는 화학식 -OR'의 라디칼이고,
R은 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
R'은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
k는 0 또는 1이고,
m은 1∼1000의 정수이고,
n은 0 또는 1∼50의 정수이고,
단, 오르가노폴리실록산은 분자 당 하나 이상의 라디칼 A를 함유한다.
제2항 또는 제3항에 있어서, 산성 또는 염기성 조절제(3)는 제1 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)로부터 제거되고, 여기서 25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산(4b) 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산이 얻어지고, 오르가노폴리실록산이 염기성 기로서 1차, 2차, 또는 1차 및 2차 아미노 기(-NH-) 그리고 산성 기로서 화학식 X-NH-CO-N=(여기서, X는 화학식 CH3C6H4SO2-, C6H5SO2-, CH3SO2-, CCl3SO2- 및 ClSO2-의 군에서 선택된 전자 구인기임)의 기를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
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25℃ 및 1020 hPa에서 액체이고 100 Pa.s∼1,000,000 Pa.s(25℃)의 점도를 갖는 오르가노폴리실록산 또는 탄성중합체형 오르가노폴리실록산인, 하기 화학식 IV의 기를 갖는 오르가노폴리실록산:
[화학식 IV]
ZpR* 3-pSiO(R2SiO)m(ZR*SiO)nSiR* 3-pZp
상기 식에서,
Z는 화학식 -(CH2)3-N(-V')-CH2CH2-NH-CO-NH-SO2-C6H4-CH3의 산성 기 Y 또는 화학식 -(CH2)3-NH-CH2CH2-NH2의 염기성 기 A이고, V'는 수소 원자 또는 화학식 -CO-NH-SO2-C6H4-CH3의 라디칼이고,
R*은 R 또는 화학식 -OR'의 라디칼이고,
R은 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
R'은 수소 원자 또는 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 1가 탄화수소 라디칼이고,
p는 0 또는 1이고,
m은 1∼1000의 정수이고,
n은 0 또는 1∼50의 정수이고,
단, 산성 기 Y 대 염기성 기 A의 몰비는 0.01∼100이고, 오르가노폴리실록산은 분자 당 둘 이상의 Z 기, 하나 이상의 Y 기 및 하나 이상의 A 기를 함유한다.
제1항에 있어서,
산성 또는 염기성 조절제(3)를 함유하는 제1 단계에서 얻은 (1)과 (2)의 반응 생성물(4a)을 유화제(5), 유기 용매(6) 또는 이들의 혼합물로 물(7) 중에서 유화시키는 것을 특징으로 하는 방법.

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