JP2013521203A5 - - Google Patents
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Description
１つの実施の形態は、重量パーセントで、０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；６０〜８５％のＳｉＯ2；および１％以上のＳｎＯ2を含む組成を有するガラスセラミックであって、
前記ガラスセラミックは、４００〜１２００ｎｍにおいて２０％以上の拡散透過率を示し；かつ、
前記ガラスセラミックは、バルク結晶化ガラスセラミックである。
前記ガラスセラミックは、４００〜１２００ｎｍにおいて２０％以上の拡散透過率を示し；かつ、
前記ガラスセラミックは、バルク結晶化ガラスセラミックである。
第２の実施の形態は、ガラスセラミックの製造方法であって、前記方法は、
重量パーセントで、０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；６０〜８５％のＳｉＯ2；および１％以上のＳｎＯ2を含む組成を有するガラスを調製し、
前記ガラスを熱処理して結晶の核を生成し、成長させて、前記ガラスセラミックを形成することを含む。
重量パーセントで、０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；６０〜８５％のＳｉＯ2；および１％以上のＳｎＯ2を含む組成を有するガラスを調製し、
前記ガラスを熱処理して結晶の核を生成し、成長させて、前記ガラスセラミックを形成することを含む。
１つの実施の形態は、重量パーセントで、０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；６０〜８５％のＳｉＯ2；および１％以上のＳｎＯ2を含む組成を有するガラスセラミックであり、ここで、ガラスセラミックは、４００〜１２００ｎｍで２０％以上の拡散透過率を示し；前記ガラスセラミックは、バルク結晶化ガラスセラミックである。
全透過率は、１ｍｍのガラスサンプルを有効に通過する光として定義される。拡散透過率は、ガラスに入射し、約７°より大きい角度で偏位し、したがって散乱したとみなされる光の量によって定義される。１つの実施の形態では、ガラスセラミックは、４００〜７００ｎｍの波長範囲にわたり、５０％を超える全透過率、例えば、６０％を超える、または８０％を超える全透過率を有する。１つの実施の形態では、ガラスセラミックは、４００〜７００ｎｍの波長範囲にわたり、４０％を超える拡散透過率、例えば、５０％を超える、または６５％を超える拡散透過率を有する。上に挙げた全透過率および拡散透過率の値は、ＯＬＥＤ用途におけるガラスセラミックの実施の形態に受容される。
一部の実施の形態では、ガラスセラミックは、５〜６０パーセントの結晶化を有し、例えば、２５パーセントの結晶化、４０パーセントの結晶化、または５０パーセントの結晶化を有する。一部の実施の形態では、ガラスセラミックは、平均寸法が１００ｎｍを超える結晶を有し、例えば、１１０ｎｍを超える平均寸法、１μｍまたはそれ以上の平均寸法、または１００ｎｍ〜２μｍの平均寸法を有する。
ガラスセラミックは、適切な技法のいずれかによって製造されうる。１つの実施の形態は、ガラスセラミックを得るための方法であって、該方法は、
重量パーセントで：０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；６０〜８５％のＳｉＯ2；および１％以上のＳｎＯ2；を含む組成を有するガラスを調製し、
前記ガラスを熱処理して結晶の核を生成し、成長させ、前記ガラスセラミックを形成することを含む。
重量パーセントで：０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；６０〜８５％のＳｉＯ2；および１％以上のＳｎＯ2；を含む組成を有するガラスを調製し、
前記ガラスを熱処理して結晶の核を生成し、成長させ、前記ガラスセラミックを形成することを含む。
Claims (10)
- ＯＬＥＤデバイスまたは光起電装置に用いるガラスセラミックであって、
重量パーセントで；
０％を超え３％までのＬｉ2Ｏ；
１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；
６０〜８５％のＳｉＯ2；および
１％以上のＳｎＯ2；
を含む組成を有し、
前記ガラスセラミックが、４００ｎｍ〜１２００ｎｍにおいて２０％以上の拡散透過率を示し、かつ、
前記ガラスセラミックが、平均寸法が１００ｎｍ〜２μｍの結晶を有するバルク結晶化ガラスセラミックである
ことを特徴とするガラスセラミック。 - 重量パーセントで：
６０〜８５％のＳｉＯ2；
１５〜２７％のＡｌ2Ｏ3；
０．５〜２．９％のＬｉ2Ｏ；および
１〜５％のＳｎＯ2
を含む組成を有することを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック。 - 重量パーセントで：
６２〜８２％のＳｉＯ2；
１８〜２４％のＡｌ2Ｏ3；
１．９〜２．５％のＬｉ2Ｏ；および
１〜１．５％のＳｎＯ2
を含む組成を有することを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック。 - ４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて６５％を超える拡散透過率を有する、請求項１〜３いずれか１項記載のガラスセラミック。
- ４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて６０％を超える全透過率を有する、請求項１〜３いずれか１項記載のガラスセラミック。
- ４００ｎｍ〜１２００ｎｍにおいて６０％を超える拡散透過率を有する、請求項１〜３いずれか１項記載のガラスセラミック。
- ４００ｎｍ〜１２００ｎｍにおいて８０％を超える全透過率を有する、請求項１〜３いずれか１項記載のガラスセラミック。
- 前記ガラスセラミックが５〜６０パーセントの結晶化を有する、
請求項１〜７いずれか１項記載のガラスセラミック。 - ＴｉＯ2を実質的に含まない、請求項１〜８いずれか１項記載のガラスセラミック。
- ヒ素およびフッ素を実質的に含まない、請求項１〜９いずれか１項記載のガラスセラミック。
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