JP2014500844A5 - - Google Patents
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Description
ＺｒＯ2は表示範囲内で有利に存在する。この成分は、核形成剤として十分に効率的であり、失透の原因となってはいけない。開示されたガラスは、１５００℃未満の液相線温度、および７００ｄＰａ・ｓ超の液相線での粘度を示す。
ここに開示される前駆体ガラスおよびガラスセラミックは環境にやさしい（ヒ素とアンチモンを含まない）。それら前駆体ガラスは容易に形成される。
ここに開示されるガラスセラミックは、透明であり、４００ｎｍ超で高い透過率を示し、このことは、高い歪み点と相まって、それらガラスセラミックを光電池の上層として適したものとする。
このガラスセラミックのいくつかは、単結晶または多結晶半導体層の高温成長を支援するのに特に適している。そのような成長は、ガラスセラミック材料上に形成された種層のエピタキシャル厚膜化にあるであろう。この種層は、アルミニウム誘起結晶化またはアルミニウム誘起層交換によって形成される大きい粒子の多結晶シリコン層であるか（O. Nast, T. Puzzer, L.M. Koschier, A.B. Sproul, S.R. Wenham, Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 3214）、または単結晶シリコン層であろう（国際公開第２００８／１２１２６２号パンフレット）。そのような層のエピタキシャル厚膜化は、８００℃超の温度で行われることが有利であり、１０００℃超の温度で行われることが有利である（I. Gordon et al., Solar Energy Materials & Solar Cells 94 (2010) 381-385）。高品質の多結晶シリコン層を達成する別の手段は、先に成長させた多結晶シリコン層の高温での急速焼き鈍しを行うことである（B. Rau et al., Materials Science and Engineering B 159-160 (2009) 329-332）。
Claims (4)
- 主結晶相としてスピネル固溶体を含有する透明ガラスセラミック材料であって、
避けられない微量を除いて、Ｂ ２ Ｏ ３ 、Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3を含まず、酸化物の質量パーセントで表して、０．１〜２％のＳｎＯ 2 、２〜４％のＴｉＯ 2 、３〜４．５％のＺｒＯ 2 、および１００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3を含む組成を有するガラスセラミック材料。 - 前記組成が、酸化物の質量パーセントで表して、４５〜６５％のＳｉＯ2、１４〜２８％のＡｌ2Ｏ3、４〜１３％のＺｎＯ、２．５０〜８％のＭｇＯ、２．１２〜８％のＢａＯ、０．１〜２％のＳｎＯ2、２〜４％のＴｉＯ2、３〜４．５％のＺｒＯ2、および１００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3から実質的になり、ＺｎＯ＋ＭｇＯ≧８％である、請求項１記載のガラスセラミック材料。
- 前記組成中、酸化物の質量パーセントで表して、ＳｎＯ 2 が０．１５〜０．８％、またはＴｉＯ 2 が２〜３％、またはその両方である、請求項１記載のガラスセラミック材料。
- 前記組成が８０ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3を含む、請求項１記載のガラスセラミック材料。
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