JP2013515943A - 真空熱処理装置用熱処理容器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に従う真空熱処理装置用熱処理容器は、底部と側壁とを含み、側壁の上部に排気通路が形成される。
【選択図】図2
Description
平面形状が円形であり、直径が100mmであり、高さが100mmである熱処理容器に混合原料(平均粒径が40nmのヒュームドシリカ(fumed silica)40重量部、カーボンブラック(carbon black)18重量部の割合で混合した混合原料)を80g入れて、1700℃の温度、0.1〜0.5torrの真空度で3時間の間熱処理して炭化珪素粉末を製造した。熱処理容器の側壁で100%高さに直径が3mmの半円型の排気通路が4個形成された。
排気通路が横3mm、縦3mmの正四角形状を有するという点を除外すれば、製造例1と同一の方法により炭化珪素粉末を製造した。
排気通路の直径が3mmである円形であり、側壁で80%高さで形成されたということと、混合原料が65g投入されたということを除外すれば、製造例1と同一な方法により炭化珪素粉末を製造した。
平面形状が円形であり、直径が500mmであり、高さが250mmである熱処理容器に混合原料(SiO2とカーボンブラック(carbon black)との混合原料)を入れて、1800℃、アルゴンガス雰囲気で2時間の間熱処理して炭化珪素粉末を製造した。熱処理容器の上部及び下部に同一なサイズの排気通路が形成されていた。
熱処理容器の上部のみに排気通路が形成されたということを除いては、製造例3と同様な方法により炭化珪素粉末を製造した。
Claims (17)
- 底部と側壁とを含み、
前記側壁に排気通路が形成されることを特徴とする、真空熱処理装置用熱処理容器。 - 前記排気通路は、前記側壁の上部に形成される上部排気通路を含むことを特徴とする、請求項1に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記上部排気通路は、矩形、逆三角形、半円、逆台形、及び円形からなる群から選択された形状を有することを特徴とする、請求項2に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記上部排気通路は、前記側壁のうち、前記底部から高さ90%以上、100%以下の部分に形成されることを特徴とする、請求項2に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記上部排気通路と前記側壁との連結部分はラウンド形状であることを特徴とする、請求項2に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記熱処理容器は内部に空間部を具備し、一面が開口され、
前記熱処理容器を覆う蓋部材をさらに含み、
前記熱処理容器で前記蓋部材と隣接した部分に上部排気通路が形成されることを特徴とする、請求項2に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。 - 前記排気通路は、前記側壁の下部に形成される下部排気通路を含むことを特徴とする、請求項1に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記熱処理容器の内に多孔質部材が位置することを特徴とする、請求項7に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記多孔質部材は、前記熱処理容器の下部に位置することを特徴とする、請求項8に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記多孔質部材は、前記下部排気通路を遮るように位置することを特徴とする、請求項8に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記多孔質部材の厚さは前記下部排気通路の厚さと等しいか、前記下部排気通路の厚さより厚いことを特徴とする、請求項8に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記多孔質部材は黒鉛を含むことを特徴とする、請求項8に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記熱処理容器は前記熱処理容器を覆う蓋部材をさらに含み、
前記熱処理容器で前記蓋部材と隣接した部分に上部排気通路が形成されることを特徴とする、請求項8に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。 - 前記上部排気通路と前記下部排気通路とが互いに対応するように位置することを特徴とする、請求項13に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記熱処理容器は複数で備えられ、
前記複数の熱処理容器の外郭で前記複数の熱処理容器を覆いかぶせる外郭部材をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。 - 前記熱処理容器の平面形状は多角形状またはラウンド形状であることを特徴とする、請求項1に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
- 前記熱処理容器は炭化珪素製造用であることを特徴とする、請求項1に記載の真空熱処理装置用熱処理容器。
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