JPH05203369A - セラミックス焼成用さや鉢 - Google Patents
セラミックス焼成用さや鉢Info
- Publication number
- JPH05203369A JPH05203369A JP4034273A JP3427392A JPH05203369A JP H05203369 A JPH05203369 A JP H05203369A JP 4034273 A JP4034273 A JP 4034273A JP 3427392 A JP3427392 A JP 3427392A JP H05203369 A JPH05203369 A JP H05203369A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- ceramics
- sheath
- bowl
- piezoelectric ceramics
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 焼成工程で発生する鉛蒸気の影響を抑制し
て、鉛系圧電体セラミックスの焼成工程での変形を低減
する。 【構成】 被焼成体である鉛系圧電体セラミックス３を
載置する底部２とその周囲に形成された側壁４とを備え
るとともに、側壁４の上端側に鉛蒸気の排出口となる切
込み５を形成する。
て、鉛系圧電体セラミックスの焼成工程での変形を低減
する。 【構成】 被焼成体である鉛系圧電体セラミックス３を
載置する底部２とその周囲に形成された側壁４とを備え
るとともに、側壁４の上端側に鉛蒸気の排出口となる切
込み５を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、セラミックスを焼成
するのに用いられるさや鉢に関し、詳しくは、焼成工程
で鉛などの蒸気が発生する鉛系圧電体セラミックスの焼
成に用いられるセラミックス焼成用さや鉢に関する。
するのに用いられるさや鉢に関し、詳しくは、焼成工程
で鉛などの蒸気が発生する鉛系圧電体セラミックスの焼
成に用いられるセラミックス焼成用さや鉢に関する。
【０００２】
【従来の技術】鉛を主成分とする圧電体セラミックスを
焼成する場合、焼成工程で多量の鉛蒸気が発生する。そ
こで、従来は、図３に示すように、上面側が開口した直
方体形状を有する、断面が凹状のさや鉢１１に被焼成体
（鉛系圧電体セラミックス）１２を収納し、あらかじめ
開放状態で脱脂処理（すなわち、予備焼成）を行い、そ
の後の焼成工程では、さや鉢に蓋を施したりあるいはさ
や鉢を複数段積み重ねて最上段のさや鉢に蓋を施したり
することにより、さや鉢を密閉状態にして焼成を行い、
被焼成体（鉛系圧電体セラミックス）からの鉛の発生を
抑制する方法が一般的に採用されている。
焼成する場合、焼成工程で多量の鉛蒸気が発生する。そ
こで、従来は、図３に示すように、上面側が開口した直
方体形状を有する、断面が凹状のさや鉢１１に被焼成体
（鉛系圧電体セラミックス）１２を収納し、あらかじめ
開放状態で脱脂処理（すなわち、予備焼成）を行い、そ
の後の焼成工程では、さや鉢に蓋を施したりあるいはさ
や鉢を複数段積み重ねて最上段のさや鉢に蓋を施したり
することにより、さや鉢を密閉状態にして焼成を行い、
被焼成体（鉛系圧電体セラミックス）からの鉛の発生を
抑制する方法が一般的に採用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の方
法では、さや鉢に入れた被焼成体は、焼成工程で発生す
る高濃度の鉛蒸気に覆われる。したがって、さや鉢内に
複数の被焼成体を積み重ねて焼成を行う場合や、複数の
被焼成体を横に並べて焼成を行う場合などにおいては、
被焼成体どうしの接触面と、接触面ではない、高濃度の
鉛蒸気と接触する面との間に収縮率の著しい差を生じ、
焼成体（焼成後の鉛系圧電体セラミックス）に無視でき
ない変形や反りが発生し、特性に悪影響を与えるという
問題点がある。
法では、さや鉢に入れた被焼成体は、焼成工程で発生す
る高濃度の鉛蒸気に覆われる。したがって、さや鉢内に
複数の被焼成体を積み重ねて焼成を行う場合や、複数の
被焼成体を横に並べて焼成を行う場合などにおいては、
被焼成体どうしの接触面と、接触面ではない、高濃度の
鉛蒸気と接触する面との間に収縮率の著しい差を生じ、
焼成体（焼成後の鉛系圧電体セラミックス）に無視でき
ない変形や反りが発生し、特性に悪影響を与えるという
問題点がある。
【０００４】この発明は、上記問題点を解決するもので
あり、焼成工程で発生する鉛蒸気の影響を抑制して、鉛
系圧電体セラミックスの焼成工程での変形を低減するこ
とが可能なセラミックス焼成用さや鉢を提供することを
目的とする。
あり、焼成工程で発生する鉛蒸気の影響を抑制して、鉛
系圧電体セラミックスの焼成工程での変形を低減するこ
とが可能なセラミックス焼成用さや鉢を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明のセラミックス焼成用さや鉢は、鉛系圧電
体セラミックスを焼成するのに用いられる断面が凹状の
さや鉢であって、被焼成体である鉛系圧電体セラミック
スを載置する底部とその周囲に形成された側壁とを備え
てなり、かつ、前記側壁の上端側に鉛蒸気の排出口とな
る切込みを形成したことを特徴とする。
に、この発明のセラミックス焼成用さや鉢は、鉛系圧電
体セラミックスを焼成するのに用いられる断面が凹状の
さや鉢であって、被焼成体である鉛系圧電体セラミック
スを載置する底部とその周囲に形成された側壁とを備え
てなり、かつ、前記側壁の上端側に鉛蒸気の排出口とな
る切込みを形成したことを特徴とする。
【０００６】なお、上記側壁上端側に形成される切込み
は、収納される鉛系圧電体セラミックスの高さよりも高
い位置に形成されていることが望ましい。切込みが鉛系
圧電体セラミックスの高さ（上端部）より下側にまで達
している場合には、鉛系圧電体セラミックスからの鉛蒸
気の流出が著しく増大して、製品である焼成体（すなわ
ち、鉛系圧電体セラミックス）の特性に悪影響を及ぼす
という問題点があるからである。
は、収納される鉛系圧電体セラミックスの高さよりも高
い位置に形成されていることが望ましい。切込みが鉛系
圧電体セラミックスの高さ（上端部）より下側にまで達
している場合には、鉛系圧電体セラミックスからの鉛蒸
気の流出が著しく増大して、製品である焼成体（すなわ
ち、鉛系圧電体セラミックス）の特性に悪影響を及ぼす
という問題点があるからである。
【０００７】
【作用】セラミックス焼成用さや鉢の側壁の上端側に切
込みを形成することにより、焼成工程中に鉛系圧電体セ
ラミックスから放出される鉛蒸気が、昇温中にも少しず
つさや鉢から外部に排出され、内部に完全に滞留してし
まうことが防止される。したがって、上述のような高濃
度の鉛雰囲気をさや鉢内部に形成することがなく、被焼
成体である鉛系圧電体セラミックスどうしの接触面とそ
うでない面との間の収縮率の差を生じにくくして、鉛系
圧電体セラミックスの変形を抑制することができるよう
になる。
込みを形成することにより、焼成工程中に鉛系圧電体セ
ラミックスから放出される鉛蒸気が、昇温中にも少しず
つさや鉢から外部に排出され、内部に完全に滞留してし
まうことが防止される。したがって、上述のような高濃
度の鉛雰囲気をさや鉢内部に形成することがなく、被焼
成体である鉛系圧電体セラミックスどうしの接触面とそ
うでない面との間の収縮率の差を生じにくくして、鉛系
圧電体セラミックスの変形を抑制することができるよう
になる。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図に基づいて説明
する。図１は、この発明の一実施例にかかるセラミック
ス焼成用さや鉢に被焼成体である鉛系圧電体セラミック
スを収納した状態を示す斜視図である。図に示すよう
に、このセラミックス焼成用さや鉢１は、上面側が開口
した直方体形状を有しており、その断面は凹状になって
いる。そして、このセラミックス焼成用さや鉢１の底部
２には、被焼成体である鉛系圧電体セラミックス３が置
かれている。そして、周囲の側壁４の上端側には、複数
の切込み５が形成されている。そして、切込み５は、図
２に示すように、その下端部５ａが、収納される被焼成
体３の上端部３ａより高い位置にあるような深さに形成
されている。
する。図１は、この発明の一実施例にかかるセラミック
ス焼成用さや鉢に被焼成体である鉛系圧電体セラミック
スを収納した状態を示す斜視図である。図に示すよう
に、このセラミックス焼成用さや鉢１は、上面側が開口
した直方体形状を有しており、その断面は凹状になって
いる。そして、このセラミックス焼成用さや鉢１の底部
２には、被焼成体である鉛系圧電体セラミックス３が置
かれている。そして、周囲の側壁４の上端側には、複数
の切込み５が形成されている。そして、切込み５は、図
２に示すように、その下端部５ａが、収納される被焼成
体３の上端部３ａより高い位置にあるような深さに形成
されている。
【０００９】上記のように構成されたこの実施例のセラ
ミックス焼成用さや鉢１に被焼成体（鉛系圧電体セラミ
ックス）３を入れ、蓋をして焼成を行う場合、焼成工程
中に被焼成体３から放出される鉛蒸気が昇温中にも少し
ずつ切込み５から外部に排出され、鉛蒸気が内部に完全
に滞留してしまうことが防止されるとともに、側壁４の
切込み５の下端部５ａが、被焼成体３の上端部３ａより
も高い位置にあるように形成されていることから、過度
に大量の鉛蒸気が放出されることを防止することが可能
になる。したがって、徐々に鉛蒸気を排出することによ
り高濃度の鉛雰囲気をさや鉢内部に形成せずに、被焼成
体である鉛系圧電体セラミックスどうしの接触面とそう
でない面との間に収縮率の差が生じることを抑制して、
焼成体である鉛系圧電体セラミックスの変形を抑制する
ことができる。
ミックス焼成用さや鉢１に被焼成体（鉛系圧電体セラミ
ックス）３を入れ、蓋をして焼成を行う場合、焼成工程
中に被焼成体３から放出される鉛蒸気が昇温中にも少し
ずつ切込み５から外部に排出され、鉛蒸気が内部に完全
に滞留してしまうことが防止されるとともに、側壁４の
切込み５の下端部５ａが、被焼成体３の上端部３ａより
も高い位置にあるように形成されていることから、過度
に大量の鉛蒸気が放出されることを防止することが可能
になる。したがって、徐々に鉛蒸気を排出することによ
り高濃度の鉛雰囲気をさや鉢内部に形成せずに、被焼成
体である鉛系圧電体セラミックスどうしの接触面とそう
でない面との間に収縮率の差が生じることを抑制して、
焼成体である鉛系圧電体セラミックスの変形を抑制する
ことができる。
【００１０】なお、上記実施例のセラミックス焼成用さ
や鉢を用いて焼成した場合、従来の密閉型のさや鉢を用
いて焼成した場合に比べて、焼成体の変形量を約４０％
低減することができた。
や鉢を用いて焼成した場合、従来の密閉型のさや鉢を用
いて焼成した場合に比べて、焼成体の変形量を約４０％
低減することができた。
【００１１】
【発明の効果】上述のように、この発明のセラミックス
焼成用さや鉢は、被焼成体である鉛系圧電体セラミック
スを載置する底部とその周囲に形成された側壁とを備え
てなり、側壁の上端側には鉛蒸気の排出口となる切込み
が形成されているので、焼成工程中に被焼成体である鉛
系圧電体セラミックスから放出される鉛蒸気が少しずつ
さや鉢から外部に排出され、高濃度の鉛雰囲気がさや鉢
内部に形成されることを防止して、焼成体である鉛系圧
電体セラミックスの変形量を確実に低減することができ
る。
焼成用さや鉢は、被焼成体である鉛系圧電体セラミック
スを載置する底部とその周囲に形成された側壁とを備え
てなり、側壁の上端側には鉛蒸気の排出口となる切込み
が形成されているので、焼成工程中に被焼成体である鉛
系圧電体セラミックスから放出される鉛蒸気が少しずつ
さや鉢から外部に排出され、高濃度の鉛雰囲気がさや鉢
内部に形成されることを防止して、焼成体である鉛系圧
電体セラミックスの変形量を確実に低減することができ
る。
【図１】この発明の一実施例にかかるセラミックス焼成
用さや鉢に被焼成体である鉛系圧電体セラミックスを収
納した状態を示す斜視図である。
用さや鉢に被焼成体である鉛系圧電体セラミックスを収
納した状態を示す斜視図である。
【図２】この発明の一実施例にかかるセラミックス焼成
用さや鉢に被焼成体である鉛系圧電体セラミックスを収
納した状態を示す断面図である。
用さや鉢に被焼成体である鉛系圧電体セラミックスを収
納した状態を示す断面図である。
【図３】従来のセラミックス焼成用さや鉢に被焼成体で
ある鉛系圧電体セラミックスを収納した状態を示す斜視
図である。
ある鉛系圧電体セラミックスを収納した状態を示す斜視
図である。
１ セラミックス焼成用さや鉢 ２ 底部 ３ 鉛系圧電体セラミックス ４ 側壁 ５ 切込み
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米田 康信 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 坂部 行雄 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内
Claims (1)
- 【請求項１】 鉛系圧電体セラミックスを焼成するのに
用いられる断面が凹状のさや鉢であって、被焼成体であ
る鉛系圧電体セラミックスを載置する底部とその周囲に
形成された側壁とを備えてなり、かつ、前記側壁の上端
側に鉛蒸気の排出口となる切込みを形成したことを特徴
とするセラミックス焼成用さや鉢。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4034273A JPH05203369A (ja) | 1992-01-25 | 1992-01-25 | セラミックス焼成用さや鉢 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4034273A JPH05203369A (ja) | 1992-01-25 | 1992-01-25 | セラミックス焼成用さや鉢 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05203369A true JPH05203369A (ja) | 1993-08-10 |
Family
ID=12409557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4034273A Withdrawn JPH05203369A (ja) | 1992-01-25 | 1992-01-25 | セラミックス焼成用さや鉢 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05203369A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130095442A1 (en) * | 2009-12-24 | 2013-04-18 | Lg Innotek Co., Ltd. | Heat Treatment Container for Vacuum Heat Treatment Apparatus |
| US20150249025A1 (en) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Semiconductor device manufacturing apparatus |
-
1992
- 1992-01-25 JP JP4034273A patent/JPH05203369A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130095442A1 (en) * | 2009-12-24 | 2013-04-18 | Lg Innotek Co., Ltd. | Heat Treatment Container for Vacuum Heat Treatment Apparatus |
| JP2013515943A (ja) * | 2009-12-24 | 2013-05-09 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 真空熱処理装置用熱処理容器 |
| EP2516048A4 (en) * | 2009-12-24 | 2016-07-06 | Lg Innotek Co Ltd | THERMAL TREATMENT CONTAINER FOR VACUUM HEAT TREATMENT APPARATUS |
| US9709334B2 (en) * | 2009-12-24 | 2017-07-18 | Lg Innotek Co., Ltd. | Heat treatment container for vacuum heat treatment apparatus |
| US20150249025A1 (en) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Semiconductor device manufacturing apparatus |
| US9644894B2 (en) * | 2014-02-28 | 2017-05-09 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Semiconductor device manufacturing apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |