JP2013508351A - 光防御組成物およびフィルム、ならびに製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
光防御組成物およびフィルム
第1の例示的実施形態では、本発明は、フォトニック材料の粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物を提供する。
他の例示的実施形態では、本発明は前述の光防御組成物の製造方法を提供し、前記方法は:
a)膨潤剤をフォトニック材料、特に、少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特に、少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm以下および/または最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)は、工程a)の前または後に実施される。
a)紫外線遮蔽剤を溶解含有する膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm以下および/または最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)は、工程a)の前または後に実施される。
他の例示的実施形態によれば、本発明は、太陽紫外線から物質を光防御する方法を提供し、本方法は:
−フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程;または
−少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程;
を含む。
−前記ポリマーを、フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物で処理する工程;または前記組成物を前記物質に一体化する工程;
を含む。
−フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも1種類の組成物で前記ガラスを処理する工程;または、前記組成物を前記ガラスに一体化する工程;
を含む。
−フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも1種類の組成物で前記物質を処理する工程;または前記組成物を前記物質に一体化する工程、
を含む。
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー(例えば、前述の両親媒性ポリマー)を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程;または
−少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程;
を含む。
−前記ポリマーを、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー(例えば、前述の両親媒性ポリマー)を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物で処理する工程;または、前記組成物を前記物質に一体化する工程、
を含む。
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー(例えば、前述の両親媒性ポリマー)を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも1種類の組成物で前記ガラスを処理する工程;または、前記組成物を前記ガラスに一体化する工程;
を含む。
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー(例えば、前述の両親媒性ポリマー)を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも1種類の組成物で前記物質を処理する工程;または、前記組成物を前記物質に一体化する工程;
を含む。
組成物およびフィルム
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。ポリマーは、例えば、両親媒性ポリマーであってもよい。
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、前記方法は:
a)蛍光剤を溶解含有する膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特に、前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm以下および/または最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)は、工程a)の前または後に実施される。
他の例示的実施形態では、本発明はヒトケラチン物質の色を明るくする方法を提供し、本方法は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を塗布する工程を含む。
組成物およびフィルム
他の例示的実施形態では、本発明は、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば両親媒性ポリマーを含み、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、本方法は:
a)膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm以下および/または最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られる前記粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)は、工程a)の前または後に実施される。
a)フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料を、着色剤を溶解含有する膨潤剤と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm以下および/または最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;
c)工程a)および工程b)の実施後に得られる前記粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)は工程a)の前または後に実施される。
他の例示的実施形態では、本発明は、化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法を提供し、本方法は、例えば前述の両親媒性ポリマーを含み、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含み、前記方法はさらに、処置されるケラチン物質の色および/またはスペクトル反射率に応じて組成を選択する工程を含んでもよい。
材料の様々な部分の特定の構造配置および前記部分の誘電率により、少なくとも一方向で、材料に照射された特定の周波数の電磁放射線を反射させることができる。材料の様々な部分の構造配置および前記部分の誘電率により、1つまたは複数の特定の周波数付近の光線を回折または反射するフォトニック材料を形成することができる。特に、ポリマーフォトニック材料は、変化を引き起こす刺激により、寸法、形状、誘電率、屈折率、色、または他のパラメータを含む少なくとも1つの物理的特性、化学的特性、または誘電特性の変化を生じさせることができる少なくとも1つのポリマー部分を含有する。この変化により、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の波長が変化する。一例として、溶媒タイプの膨潤剤でフォトニック材料の1部分を膨潤させることにより、寸法の変化(即ち、体積変化)を生じさせることができる。寸法変化により、フォトニック材料の構造配置、およびその結果としてフォトニック材料の1部分の誘電率を変化させることができる、または、それによりフォトニック材料によって反射される電磁放射線を変化させることができる。一例として、光学的特性の変化は、特に、類似部分間の周期的な間隔により起こり得る。フォトニック材料は、体積または別の寸法の変化を生じさせる変化を引き起こす刺激に反応する第1の部分と、反応しないまたは別のタイプの刺激に反応する第2の部分を含んでもよい。
[(λi−λ0)/λ0]×100
を使用して算出することができ、式中、λ0は、変化を引き起こす刺激と接触する前のまたは変化を引き起こす刺激の非存在下における、回折される波長のピークに対応し、λiは、変化を引き起こす刺激との接触中に回折される波長のピークに対応する。
本発明に関して、「フォトニック材料」、特に「ポリマー多層干渉構造」という用語は、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を有するフォトニック材料のフィルムおよび粒子を包含する。
図1は、本発明のポリマー多層干渉構造を有する粒子を示す。
前述のように、ポリマー多層干渉構造を有する粒子は、E.Thomasによる出版物:Nat Mat Vol 6,957−960,2008およびJ Am Chem Soc 2009,131,7538−7539に記載のように製造され得るフォトニックゲルから得られてもよい。
幾つかの例示的実施形態では、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造はさらに、膨潤剤(特に、不揮発性膨潤剤)を、前記材料の一方または両方の部分を膨潤させることができる量で含んでもよい。フォトニック材料がポリブタジエン/スチレンブロック共重合体を含む場合、そのポリブタジエン部分を膨潤させるために、膨潤剤は、例えば、鉱物油であってもよい。
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、固定化剤を含んでもよい。
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、単独重合体、共重合体、ブロック共重合体、単独重合体の混合物、ブロック共重合体の混合物、単独重合体とブロック共重合体との混合物、着色剤などの添加剤または無機化合物が添加されたポリマー材料を含んでもよい。
本発明のフォトニック材料中に存在するブロック共重合体により、異なる組成および/または異なる物理的特性を特徴とする別々の部分に配置された一次元、二次元、または三次元の周期構造を得ることができる。
・A−Bの形態のジブロック共重合体であって、Aが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Bが:
●例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
●例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
●例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるジブロック共重合体、
・A−B−Cの形態のトリブロック共重合体であって:
●AとCが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Bが、
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるトリブロック共重合体、または
●Bが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、AとCが異なり、以下:
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
から選択されるトリブロック共重合体、
を含んでも、またはこれらのものであってもよい。
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー(例えば、両親媒性ポリマー)を含んでもよい。
ジベンゾイルメタン誘導体
・特に、「PARSOL 1789」の商標名でDSM Nutritional Products,Incにより販売されている、ブチルメトキシジベンゾイルメタン;
・イソプロピルジベンゾイルメタン。
「UVINUL A+」の商標名でBASFにより販売されている、2−(4−ジエチルアミノ2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n−ヘキシル。
「NEO HELIOPAN MA」の商標名でSYMRISEにより販売されている、アントラニル酸メンチル。
1,1−ジカルボキシ(2,2’−ジメチル−プロピル)−4,4−ジフェニルジフェニルブタジエン。
パラアミノ安息香酸エステル
・エチルPABA;「PABA」は、p−アミノ安息香酸を表す;
・エチルジヒドロキシプロピルPABA;
・エチルヘキシルジメチルPABA(ISP製のESCALOL 507)。
・「Eusolex HMS」の名称でRona/EM Industriesにより販売されている、ホモサレート;
・「NEO HELIOPAN OS」の名称でSYMRISEにより販売されている、サリチル酸エチルヘキシル;
・「DIPSAL」の名称でSCHERにより販売されている、サリチル酸ジプロピレングリコール;
・「NEO HELIOPAN TS」の名称でSYMRISEにより販売されている、サリチル酸TEA。
・特に、「PARSOL MCX」の商標名でDSM Nutritional Products,Incにより販売されている、メトキシ桂皮酸エチルヘキシル;
・メトキシ桂皮酸イソプロピル;
・「NEO HELIOPAN E 1000」の商標名でSYMRISEにより販売されている、メトキシ桂皮酸イソアミル;
・メチル桂皮酸ジイソプロピル;
・シノキサート;
・エチルヘキサン酸ジメトキシ桂皮酸グリセリル。
・特に、「UVINUL N539」の商標名でBASFにより販売されている、オクトクリレン;
・特に、「UVINUL N35」の商標名でBASFにより販売されている、エトクリレン。
・「MEXORYL SD」の商標名でCHIMEXにより製造されている、3−ベンジリデンカンファー;
・「EUSOLEX 6300」の商標名でMERCKにより販売されている、メチルベンジリデンカンファー;
・「MEXORYL SW」の名称でCHIMEXにより製造されている、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
・特に、「UVINUL T150」の商標名でBASFにより販売されている、エチルヘキシルトリアゾン;
・「UVASORB HEB」の商標名でSIGMA 3Vにより販売されている、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン;
・2,4,6−トリス(ジネオペンチル4’−アミノベンザルマロネート)−s−トリアジン;
・2,4,6−トリス(ジイソブチル4’−アミノベンザルマロネート)−s−トリアジン;
・2,4−ビス(ジネオペンチル4’−アミノベンザルマロネート)−6−(4’−n−ブチルアミノベンゾエート)−s−トリアジン;
・2,4−ビス(n−ブチル4’−アミノベンゾエート)−6−(アミノプロピルトリシロキサン)−s−トリアジン;
・米国特許第6,225,467号明細書、国際公開第2004/085412号パンフレット(化合物6〜9参照)または文献“Symmetrical Triazine Derivatives”,IP.COM Journal,IP.COM INC WEST HENRIETTA,NY,US(20 September 2004)に記載の対称トリアジン遮蔽剤、特に、2,4,6−トリス−(ビフェニル)1,3,5−トリアジン(特に、2,4,6−トリス(ビフェニル−4−イル−1,3,5−トリアジン)、およびBEIERSDORFによる出願、国際公開第06/035000号パンフレット、国際公開第06/034982号パンフレット、国際公開第06/034991号パンフレット、国際公開第06/035007号パンフレット、国際公開第2006/034992号パンフレット、国際公開第2006/034985号パンフレットに記載の2,4,6−トリス(ターフェニル)−1,3,5−トリアジン。
ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオン酸エチルヘキシル。
・「PARSOL SLX」の商標名でDSM Nutritional Products,Incにより販売されているポリシリコーン15などの、ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン;
・4’−メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル。
オクチル−5−N,N−ジエチルアミノ−2−フェニルスルホニル−2,4−ペンタジエノエート。
ベンゾフェノン誘導体
・「UVINUL 400」の商標名でBASFにより販売されている、ベンゾフェノン−1;
・「UVINUL D50」の商標名でBASFにより販売されている、ベンゾフェノン−2;
・「UVINUL M40」の商標名でBASFにより販売されている、ベンゾフェノン−3またはオキシベンゾン;
・ベンゾフェノン−5;
・「Helisorb 11」の商標名でNorquayにより販売されている、ベンゾフェノン−6;
・「Spectra−Sorb UV 24」の商標名でAmerican Cyanamidにより販売されている、ベンゾフェノン−8;
・ベンゾフェノン−10;
・ベンゾフェノン−11;
・ベンゾフェノン−12。
・「Silatrizole」の名称でRHODIA CHIMIEにより販売されている、ドロメトリゾールトリシロキサン;
・固形状で「MIXXIM BB/100」の商標名でFAIRMOUNT CHEMICALにより、または微粒子状で水性分散液として「TINOSORB M」の商標名でCIBA SPECIALTY CHEMICALSにより販売されている、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール。
「TINOSORB S」の商標名でCIBA GEIGYにより販売されている、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン。
Uvasorb K2Aの名称でSigma 3Vにより販売されている、2,4−ビス−[5−1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール−2−イル−(4−フェニル)−イミノ]−6−(2−エチルヘキシル)−イミノ−1,3,5−トリアジン。
「MEXORYL SX」の名称でCHIMEXにより製造されている、テレフタリリデンジカンファースルホン酸。
欧州特許第0669323号明細書および米国特許第2,463,264号明細書に記載のビス−ベンゾアゾリル誘導体、より詳細には「NEO HELIOPAN AP」の商標名でHaarmann and REIMERにより販売されている化合物、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸ニナトリウム。
p−アミノ安息香酸誘導体(PABA)
・PABA;
・グリセリルPABA;および
・「UVINUL P25」の名称でBASFにより販売されている、PEG−25PABA;
・特に、「EUSOLEX 232」の商標名でMERCKにより販売されている、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸;
・フェルラ酸;
・サリチル酸;
・メトキシ桂皮酸DEA;
・「MEXORYL SL」の名称でCHIMEXにより製造されている、ベンジリデンカンファースルホン酸;
・「MEXORYL SO」の名称でCHIMEXにより製造されている、カンファーベンザルコニウムメトサルフェート。
少なくとも1つのスルホン酸基を含むベンゾフェノン誘導体
・「UVINUL MS40」の商標名でBASFにより販売されている、ベンゾフェノン−4;
・ベンゾフェノン−5;および
・ベンゾフェノン−9。
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に存在し得る蛍光剤は、IRまたはUV蛍光剤であってもよい。
着色剤は水溶性であっても、または脂溶性であってもよい。
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の反射スペクトルおよび透過率は、前記粒子を適した媒体に分散させる前に測定される。
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、例えば250nm〜400nmの波長範囲に、例えば290nm〜400nmの範囲に、例えば330nm〜400nmの範囲に少なくとも1つの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。反射ピークは、干渉次数1を有するピークであってもよい。
蛍光剤を内包するポリマー(例えば、両親媒性ポリマー)を含むフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、250nm〜800nm、例えば250nm〜400nmの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。
フォトニック材料、特に多層干渉構造が、それらの着色特性のために使用される場合、ケラチン物質に塗布する前に、400nm〜800nmの波長範囲に少なくとも1つの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。フォトニックゲルに関するこのような反射スペクトルについては、出版物、Nat Mat,Vol 6,957−960,2008に記載されている。
本発明の組成物は、本発明の1種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、または、例えば、250nm〜400nmの波長範囲でそれぞれ異なる透過および/または反射スペクトルを有する少なくとも2種類の異なるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の混合物を含んでもよい。
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、化粧料として許容される媒体、即ち、ヒトケラチン物質、特に皮膚、粘膜、または毛髪もしくは爪に塗布するのに適した無毒性媒体に含有されてもよい。
本発明では、「フィルム形成ポリマー」という用語は、単独でまたは補助的皮膜形成剤の存在下で、ケラチン物質に粘着する巨視的に連続したフィルム、好ましくは凝集性フィルム、より好ましくは、例えば前記フィルムをTeflonまたはシリコーン表面などの非粘着面に流延することによって製造する場合、前記フィルムを単離し、単独で操作できるような凝集性と機械的特性を有するフィルムを形成することができるポリマーを意味する。
本発明の組成物は、少なくとも1つの水相を含んでもよい。
当該実施形態の全てにおいて、本発明の組成物は脂肪相を含んでもよい。
本発明に関して、「揮発性油」という用語は、周囲温度および周囲圧力で、皮膚と接触して1時間未満で蒸発することができる油(または非水性媒体)を意味する。
本発明の組成物は、不揮発性油を含んでもよい。
−動物由来の炭化水素油;
−植物由来の炭化水素油、例えば、オレイン酸フィトステアリル、イソステアリン酸フィソステアリル、または、例えば、ELDEW PS203の名称で味の素株式会社(AJINOMOTO)により販売されているグルタミン酸ラウロイル/オクチルドデシル/フィトステアリルなどのフィトステアリルエステル、脂肪酸とグリセリンのエステルによって構成されるトリグリセリド(脂肪酸はC4〜C24の範囲の鎖長を有してもよく、直鎖または分枝鎖、飽和または不飽和であってもよい);前記油は、特に、ヘプタン酸もしくはオクタン酸トリグリセリド、または小麦胚芽油、ヒマワリ油、ブドウ種子油、ゴマ油、コーン油、杏仁油、ヒマシ油、シア油、アボカド油、オリーブ油、大豆油、甘扁桃油、パーム油、ナタネ油、綿実油、ヘーゼルナッツ油、マカダミアナッツ油、ホホバ油、アルファルファ油、ケシ油、北海道カボチャ(Hokkaido squash)油、ウリ科植物(gourd)油、黒スグリ油、マツヨイグサ油、アワ油、大麦油、キノア油、ライ麦油、紅花油、ククイ油、トケイソウ油、またはマスクローズ油;シアバター;または供給業者STEARINERIES DUBOISにより販売されているもの、もしくはMIGLYOL 810(登録商標)、812(登録商標)および818(登録商標)の名称で供給業者DYNAMIT NOBELにより販売されているものなどのカプリル酸/カプリン酸トリグリセリドである;
−鉱物または合成由来の炭化水素油、例えば:
●炭素数10〜40の合成エーテル;
●鉱物または合成由来の直鎖または分枝鎖炭化水素、例えば、ワセリン、ポリデセン、水添ポリイソブテン(パールリームなど)、スクワラン、およびこれらの混合物、特に、水添ポリイソブテン;
●式R1COOR2(式中、R1は炭素数1〜40の直鎖または分枝鎖脂肪酸の残基を表し、R2は炭素数1〜40の炭化水素鎖、とりわけ分枝炭化水素鎖を表し、但し、R1+R2≧10とする)を有する油などの合成エステルなど;
を挙げることができる。
●オクタン酸セトステアリル、イソプロピルアルコールのエステル(ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピルなど)、パルミチン酸エチル、パルミチン酸2−エチルヘキシル、ステアリン酸またはイソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソステアリル、ステアリン酸オクチル、ヒドロキシルエステル(乳酸イソステアリル、ヒドロキシステアリン酸オクチルなど)、アジピン酸ジイソプロピル、ヘプタン酸エステル、特にヘプタン酸イソステアリル、アルコールまたはポリアルコールのオクタン酸、デカン酸またはリシノール酸エステル(ジオクタン酸プロピレングリコール、オクタン酸セチル、オクタン酸トリデシルなど)、4−ジヘプタン酸およびパルミチン酸2−エチルヘキシル、安息香酸アルキル、ジヘプタン酸ポリエチレングリコール、2−ジエチルヘキサン酸プロピレングリコールおよびこれらの混合物、C12〜C15アルコール安息香酸エステル、ラウリン酸ヘキシル、ネオペンタ酸エステル(ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、ネオペンタン酸オクチルドデシルなど)、イソノナン酸エステル(イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチルなど)、またはヒドロキシルエステル(乳酸イソステアリルまたはリンゴ酸ジイソステアリルなど);
●ポリオールのエステルおよびペンタエリスリトールエステル、例えば、テトラヒドロキシステアリン酸/テトライソステアリン酸ジペンタエリスリトール;
●ジオールダイマーと二酸ダイマーのエステル、例えば、供給業者、日本精化株式会社(NIPPON FINE CHEMICAL)により販売され、仏国特許出願公開第0302809号明細書に記載されているLusplan DD−DA5(登録商標)およびLusplan DD−DA7(登録商標);
●周囲温度で液体であり、炭素数12〜26の分枝および/または不飽和炭素鎖を有する脂肪アルコール、例えば、2−オクチルドデカノール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、2−ヘキシルデカノール、2−ブチルオクタノール、または2−ウンデシルペンタデカノール;
●高級脂肪酸、例えば、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸およびこれらの混合物;ならびに
●炭酸ジアルキル(2つのアルキル鎖は同一であってもまたは異なってもよい)、例えば、Cetiol CC(登録商標)の名称でCognisにより販売されている炭酸ジカプリリル;
●不揮発性シリコーン油、例えば、不揮発性ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ペンダントのアルキル基またはアルコキシ基を含むおよび/またはシリコーン鎖末端を有するポリジメチルシロキサン(これらの基の炭素数はそれぞれ2〜24である)、フェニルシリコーン(フェニルトリメチコン、フェニルジメチコン、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン、ジフェニルジメチコン、ジフェニルメチルジフェニルトリシロキサン、または2−フェニルエチルトリメチルシロキシシリケートなど)、または100cSt以下の粘度を有するジメチコンもしくはフェニルトリメチコン、およびこれらの混合物;
−ならびに、これらの混合物;
などの脂肪酸のエステルから選択されてもよい。
本発明の組成物は、さらに、例えば、全組成物重量に対して0.1重量%〜30重量%の範囲の割合で存在する乳化および補助乳化界面活性剤を含有してもよい。
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、充填剤、軟化剤、着色剤、界面活性剤、親水性または親油性ゲル化剤、水溶性または脂溶性の有効成分、防腐剤、保湿剤(ポリオール、特にグリセリンなど)、金属イオン封鎖剤、酸化防止剤、溶媒、香料、物理的および化学的サンスクリーン剤、とりわけUVAおよび/またはUVBに対するもの、脱臭剤、pH調整剤(酸または塩基)およびこれらの混合物などの化粧品分野で通常用いられる補助剤から選択される少なくとも1種類の添加剤を含んでもよい。
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、皮膚、唇、毛髪または爪用の、ローション、クリーム、乳液、香膏、ポマード、ゲル、エマルション、フィルム、施与剤、スティック(例えば、リップスティック)、粉末、またはペースト中に使用されてもよい。
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、手でまたは塗布具を使用して塗布されてもよい。
組成物は、任意の包装具、とりわけ熱可塑性材料から形成されたものに、または、その目的で提供される任意の支持体に包装されてもよい。
厚さ3μm(乾燥)のポリスチレン−ポリ(2−ビニルピリジン)四級化ジブロック共重合体(PS−b−Q−P2VP)(190K/190K)のゲルは、PS−b−Q−P2VPの5重量%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより得られた。次いで、2.5M NH4Cl水溶液を使用してゲルを膨潤させた。340nm〜385nmの波長範囲で干渉するフォトニックゲルを得た。このフォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
実施例1のゲルを硬質支持体から剥離した後、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法50μm未満の粒子に破砕した。次いで、このようにして得られた粒子を2.5M NH4Cl水溶液に分散させた。
厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを硬質支持体上に展延した後、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法50μm未満の粒子に破砕した。次いで、このようにして得られた粒子を、グリセリン50重量%と2.5M NH4Cl水溶液50重量%とを含有する混合物に分散させた。分離後、340nm〜385nmの波長範囲で干渉するポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
PS−b−Q−P2VPの5%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。次いで、ゲルを、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法50μm未満の粒子に破砕した。次いで、得られた粒子をメタノールに分散させ、膨潤させた。
PS−b−Q−P2VPの5%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。次いで、このゲルをMexoryl SX(Chimex)(テレフタリリデンジカンファースルホン酸、33%水溶液)の3%水溶液で膨潤させた。このようにして、330nm〜385nmの波長範囲で干渉し、ゴニオクロマチック効果が著しく低減したフォトニックゲルを得た。
PS−b−Q−P2VPの5%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。このゲルをEusolex 232(Merck)(フェニルベンズイミダゾールスルホン酸)の0.5%水溶液で膨潤させた。このようにして、290nm〜385nmの波長範囲で干渉するフォトニックゲルを得た。
PS−b−Q−P2VPの5%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。次いで、前記ゲルをTinopal CBS X(CIBA)(ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム)の0.5%水溶液で膨潤させた。紫外領域で干渉し、青色を発現するフォトニックゲルを得たが、これは、破砕した後、ヒトケラチン物質、例えば、皮膚の色を明るくするために使用するのに適していた。
PS−b−Q−P2VPの5%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。次いで、前記ゲルを1.5M NH4Cl水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約550nm、即ち、黄色であった。
PS−b−Q−P2VPの5重量%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。前記ゲルを0.5 M NH4Cl水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約410〜420nm、即ち、紫色であった。
PS−b−Q−P2VPの5重量%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ(乾燥)3μmのPS−b−Q−P2VP(190K/190K)ゲルを得た。次いで、前記ゲルを1M NH4Cl水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約600nm、即ち、黄橙色であった。フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
図5は、出版物、Nat Mat.Vol 6,957−960,2008に記載のPS−P2VPフォトニックゲルの2つの吸収スペクトルを示す。
Claims (90)
- ポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物であって、前記構造の少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含む、光防御化粧料組成物。
- 前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、250nm〜400nmの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーが膨潤剤を含む、請求項1または2に記載の組成物。
- 脂肪相と水相を含み、前記水相がポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、無機物質、例えば、シリカおよびその前駆体(例えば、TEOS)、グリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、および400g/mol〜50000g/molの範囲の分子量を有するPEGから選択される固定化剤を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
- ポリマー多層干渉構造を有する少なくとも2種類の異なる粒子を含み、各種類の粒子が250nm〜400nmの波長範囲で異なる透過スペクトルを有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーがラメラ構造を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーがブロック共重合体を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーが、
・A−Bの形態のジブロック共重合体であって、Aが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Bが:
●例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
●例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
●例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるジブロック共重合体、
・A−B−Cの形態のトリブロック共重合体であって:
●AとCが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Bが、
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるトリブロック共重合体、または
●Bが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、AとCが異なり、以下:
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項8に記載の組成物。 - 前記両親媒性ポリマーがA−Bの形態のジブロック共重合体を含み、特に、A−Bの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Aがポリスチレンであり、Bがポリ(2−ビニルピリジン)である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、別の光学活性物質を、例えば、前記両親媒性ポリマー中に含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記膨潤剤が、
−水、および0.01M〜5Mの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液;
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液:
○グリセリン、400g/mol〜 50000g/molの範囲の分子量を有するPEG、少なくとも1重量%で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール;
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液;および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、ウンデカンおよびトリデカン、ならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項3〜12のいずれか1項に記載の組成物。 - 請求項3〜13のいずれか1項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
a)膨潤剤を、少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造と接触させる工程;
b)少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm未満および最小寸法100nm以上のポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られるポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)が工程a)の前または後に実施される方法。 - 太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、請求項1〜13のいずれか1項に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む方法。
- ヒトケラチン物質に施与される太陽紫外線に対する光防御フィルムであって、太陽紫外線を遮蔽する多層干渉構造を含み、前記構造の少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むフィルム。
- フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、を含む光防御組成物において、前記構造の少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含む、前記粒子。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、250nm〜400nmの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項17に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料が少なくとも1種類の膨潤剤を含む、請求項17または18に記載の組成物。
- 脂肪相と水相を含み、前記水相がフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、請求項17〜19のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、無機物質、例えば、シリカおよびその前駆体(例えば、TEOS)、グリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、および400g/mol〜50000g/molの範囲の分子量を有するPEGから選択される固定化剤を含む、請求項17〜20のいずれか1項に記載の組成物。
- 少なくとも2種類の異なるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含み、各種類の粒子が250nm〜400nmの波長範囲で異なる透過スペクトルを有する、請求項17〜21のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーがラメラ構造を有する、請求項1〜22のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーがブロック共重合体を含む、特にブロック共重合体からなる、請求項1〜23のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーが、
・A−Bの形態のジブロック共重合体であって、Aが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Bが:
●例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
●例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
●例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるジブロック共重合体、
・A−B−Cの形態のトリブロック共重合体であって:
●AとCが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される異なる疎水性ブロックであり、Bが、
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるトリブロック共重合体、または
●Bが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、AとCが異なり、以下:
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項24に記載の組成物。 - 前記両親媒性ポリマーがA−Bの形態のジブロック共重合体を含み、特に、A−Bの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Aがポリスチレンであり、Bがポリ(2−ビニルピリジン)である、請求項25に記載の組成物。
- 前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状である、請求項17〜26のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特に前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、別の光学活性物質を、例えば、前記両親媒性ポリマー中に含む、請求項17〜27のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記膨潤剤が、
−水、および0.01M〜5Mの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液;
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液:
○グリセリン、400g/mol〜 50000g/molの範囲の分子量を有するPEG、少なくとも1重量%で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール(例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール)、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、2,2,2−トリフルオロエタノール、1−ブタノール、1,4−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−2−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、および酢酸溶液;
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液;および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、安息香酸C12〜C15アルキル、ウンデカンおよびトリデカンならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項19〜28のいずれか1項に記載の組成物。 - 化粧料として許容される媒体中に、請求項17〜29のいずれか1項に記載の少なくともフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、化粧料組成物。
- 請求項19〜30のいずれか1項に記載の組成物の製造方法であって、
a)膨潤剤を、フォトニック材料、特に少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特に少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm未満および最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)が工程a)の前または後に実施される方法。 - 太陽紫外線から物質を光防御する方法であって、少なくとも前記物質を請求項17〜30のいずれか1項に記載の光防御組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
- 太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、少なくとも、請求項30に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に施与する工程を含む方法。
- インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法であって、請求項17〜29のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物を前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに配合する工程を含む方法。
- 少なくとも1種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法であって、少なくとも、前記ポリマーを請求項17〜29のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
- 有機または無機ガラスを光防御する方法であって、少なくとも前記ガラスを請求項17〜29のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに一体化する工程を含む方法。
- 少なくとも天然繊維および/または人造繊維および/または合成繊維を含む物質、例えばテキスタイルまたは紙、を光防御する方法であって、前記物質を請求項17〜29のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物で少なくとも処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
- 太陽紫外線から光防御するためのフィルムであって、太陽紫外線を遮蔽するフォトニック材料、特に少なくとも2層が両親媒性ポリマーを含む多層干渉構造を含むフィルム。
- 両親媒性ポリマーを含み可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
- ケラチン物質に施与する前に、400nm〜800nmの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項39に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項39または請求項40に記載の組成物。
- 追加の着色剤をさらに含む、請求項39〜41のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記追加の着色剤が前記組成物中に遊離状態で存在する、請求項42に記載の組成物。
- 前記膨潤剤が、
−水、および0.01M〜5Mの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液;
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液:
○グリセリン、400g/mol〜 50000g/molの範囲の分子量を有するPEG、少なくとも1重量%で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、2,2,2−トリフルオロエタノール、1−ブタノール、1,4−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−2−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、および酢酸溶液;
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液;および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、ウンデカンおよびトリデカン、ならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項41〜43のいずれか1項に記載の組成物。 - 前記着色剤が
i.脂溶性着色剤、例えば、DCレッド17、DCレッド21、DCレッド27、DCグリーン6、DCイエロー11、DCバイオレット2、DCオレンジ5、スダンレッド、カロチン、例えばβ−カロチンまたはリコピン、キサントフィル。例えばカプサンシン、カプソルビン、ルテインなど、パーム油、スダンブラウン、キノリンイエロー、アナトー、クルクミン;
ii.水溶性着色剤、例えば、FDCレッド4、DCレッド6、DCレッド22、DCレッド28、DCレッド30、DCレッド33、DCオレンジ4、DCイエロー5、DCイエロー6、DCイエロー8、FDCグリーン3、DCグリーン5、FDCブルー1、ベタニン、カーミン、銅クロロフィリン、メチレンブルー、アントシアニン、リボフラビン、
から選択される、請求項39〜44のいずれか1項に記載の組成物。 - 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項39〜45のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーが、共重合体、特にブロック共重合体を含む、請求項39〜46のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーが、
・A−Bの形態のジブロック共重合体であって、Aが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Bが:
●例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
●例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
●例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるジブロック共重合体、
・A−B−Cの形態のトリブロック共重合体であって:
●AとCが、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Bが、
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるトリブロック共重合体、または
●Bが、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、AとCが異なり、以下:
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項47に記載の組成物。 - 前記両親媒性ポリマーがA−Bの形態のジブロック共重合体を含み、特に、A−Bの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Aがポリスチレンであり、Bがポリ(2−ビニルピリジン)である、請求項48に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状の形状である、請求項39〜49のいずれか1項に記載の組成物。
- 化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法であって、請求項39〜50のいずれか1項に記載の組成物をヒトケラチン物質に施与する工程を含む方法。
- ヒトケラチン物質に施与される化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムであって、両親媒性ポリマーを含み可視色を発現するフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を含むフィルム。
- 請求項41〜50のいずれか1項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
a)膨潤剤を、両親媒性ポリマーを含むフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm未満および最小寸法100nm以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られる、両親媒性ポリマーを含み可視色を発現する前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)が工程a)の前または後に実施される方法。 - 蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、250nm〜800nmの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項54に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項54または請求項55に記載の組成物。
- 前記蛍光剤が前記膨潤剤に溶解されている、請求項56に記載の組成物。
- 前記ケラチン物質に塗布する前に、250nm〜800nmの波長範囲に2つの極小を含む透過スペクトルを有する、請求項55〜57のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記極小が少なくとも50nm分離している、請求項58に記載の組成物。
- 少なくとも1つの極小が250nm〜400nmの波長範囲にあり、少なくとも1つの極小が400nm〜800nmの波長範囲、例えば400nm〜550nmの範囲にある、請求項58または請求項59に記載の組成物。
- 前記蛍光剤が、スチルベン誘導体、特にポリスチリルスチルベンおよびトリアジンスチルベン、クマリン誘導体、特にヒドロキシクマリンおよびアミノクマリン、オキサゾール、ベンゾキサゾール、イミダゾール、トリアゾールまたはピラゾリン誘導体、ピレン誘導体およびポルフィリン誘導体、および/またはこれらの混合物の溶液、およびジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウムの水溶液から選択される蛍光増白剤である、請求項54〜60のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、平板状である、請求項54〜61のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項54〜62のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記両親媒性ポリマーが、共重合体、例えばブロック共重合体を含む、請求項54〜63のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマーが、
・A−Bの形態のジブロック共重合体であって、Aが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Bが:
●例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
●例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
●例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるジブロック共重合体、
・A−B−Cの形態のトリブロック共重合体であって:
●AとCが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Bが、
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)などの親水性非イオン性ブロック;
であるトリブロック共重合体、または
●Bが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、AとCが異なり、以下:
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)などの親水性非イオン性ブロック;
から選択されるトリブロック共重合体、
から選択される両親媒性ポリマーを含む、特にこれらから選択される両親媒性ポリマーからなる、請求項64に記載の組成物。 - 前記両親媒性ポリマーがA−Bの形態のジブロック共重合体を含み、特に、A−Bの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Aがポリスチレンであり、Bがポリ(2−ビニルピリジン)である、請求項65に記載の組成物。
- ヒトケラチン物質の色を明るくする方法であって、請求項54〜66のいずれか1項に記載の化粧料組成物を施与する工程を含む方法。
- ヒトケラチン物質に施与される、肌色を明るくするためのフィルムであって、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を含むフィルム。
- 請求項57〜68のいずれか1項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
a)蛍光剤を溶解含有する膨潤剤を、フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特に前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm以下および最小寸法100nm超のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られる前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)が工程a)の前または後に実施される方法。 - 紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特に前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、250nm〜400nmの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項70に記載の組成物。
- 前記ケラチン物質に塗布する前に、250nm〜400nmの波長範囲に2つの極小を含む透過スペクトルを有し、前記極小が少なくとも50nm分離している、請求項70または請求項71に記載の組成物。
- SPFが10以上である、請求項70〜72のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項70〜73のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマーが共重合体、特にブロック共重合体を含む、請求項70〜74のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマーが、
・A−Bの形態のジブロック共重合体であって、Aが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Bが:
●例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
●例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
●例えば、ポリ(PEGメタクリレート)から選択される親水性非イオン性ブロック;
であるジブロック共重合体、
・A−B−Cの形態のトリブロック共重合体であって:
●AとCが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Bが、
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)などの親水性非イオン性ブロック;
であるトリブロック共重合体、または
●Bが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリN−tertブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、AとCが異なり、以下:
○例えば、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド)、およびポリ(N−ビニルピロリドン)から選択される親水性陽イオン性ブロック;
○例えば、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(イタコン酸)、ポリ(フマル酸)、ポリ(クロトン酸)、ポリ(アクリルアミドグリコール酸)、およびポリ(アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン酸)から選択される親水性陰イオン性ブロック;もしくは
○例えば、ポリ(PEGメタクリレート)などの親水性非イオン性ブロック;
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項75に記載の組成物。 - 前記両親媒性ポリマーがA−Bの形態のジブロック共重合体を含み、特に、A−Bの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Aがポリスチレンであり、Bがポリ(2−ビニルピリジン)である、請求項76に記載の組成物。
- 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項70〜77のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記紫外線遮蔽剤が前記膨潤剤に溶解されている、請求項78に記載の組成物。
- 前記紫外線遮蔽剤が、
−例えば、ジベンゾイルメタン誘導体、アミノベンゾフェノン、アントラニル酸誘導体、4,4−ジアリールブタジエン誘導体、パラアミノ安息香酸エステル、サリチル酸誘導体、桂皮酸エステル、β,β’−ジフェニルアクリレート誘導体、ベンジリデンカンファー誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾリン誘導体、ベンザルマロネート誘導体、メロシアニン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、フェニルベンゾトリアゾール誘導体、ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体、およびベンゾキサゾール誘導体などの疎水性遮蔽剤;ならびに
−例えば、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、ビス−ベンゾアゾリル誘導体、p−アミノ安息香酸(PABA)誘導体、および少なくとも1つのスルホン酸基を含むベンゾフェノン誘導体などの水溶性遮蔽剤、
から選択される、請求項1〜79のいずれか1項に記載の組成物。 - 前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、平板状である、請求項70〜80のいずれか1項に記載の組成物。
- 化粧料として許容される媒体中に、少なくとも請求項70〜81のいずれか1項に記載のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
- 請求項70〜82のいずれか1項に記載の組成物の製造方法であって、
a)紫外線遮蔽剤を溶解含有する膨潤剤を、フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程;
b)フォトニック材料のフィルム、特に前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法100μm未満および最小寸法100nm超のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程;および
c)工程a)および工程b)の実施後に得られる前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を適した媒体に分散させる工程;
を含み、
工程b)が工程a)の前または後に実施される方法。 - 太陽紫外線から物質を光防御する方法であって、前記物質を請求項70〜82のいずれか1項に記載の光防御組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
- 太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、請求項82に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む方法。
- インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法であって、請求項70〜82のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物を前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに配合する工程を含む方法。
- 少なくとも1種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法であって、前記ポリマーを請求項70〜82のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
- 有機または無機ガラスを光防御する方法であって、前記ガラスを請求項70〜82のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに一体化する工程にある、方法。
- 少なくとも天然繊維および/または人造繊維および/または合成繊維を含む物質(テキスタイルまたは紙など)を光防御する方法であって、請求項70〜82のいずれか1項に記載の少なくとも1種類の組成物で前記物質を処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
- 太陽紫外線から光防御するフィルムであって、フォトニック材料、太陽紫外線を遮蔽する多層干渉構造を特に含み、前記構造の少なくとも2層が紫外線遮蔽剤を内包する両親媒性ポリマーを含む、フィルム。
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