JP7135085B2 - フォトニック粒子、uv遮断剤、及びアクリルポリマーを含む組成物 - Google Patents
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Description
- a)平均サイズが0.5μm~100μmであるフォトニック粒子であって、それぞれが、250nm~1800nm、好ましくは250nm~400nmに及ぶ波長範囲において放射の減衰をもたらす、単分散ナノ粒子の、又は空間の、秩序ある(ordered)周期的な配置を含む、フォトニック粒子、
- b)少なくとも1つのUV遮断剤(UVスクリーニング剤)、及び
- c)以下に記載される少なくとも1つのポリマー。
本発明との関連では、フォトニック粒子は、オパールとも呼ばれる。
「順オパール」型のフォトニック粒子は、場合によっては複合した、充填されたナノ粒子の配置を含む。
「逆オパール」型のフォトニック粒子は、ナノ粒子の代わりに孔(空孔)を含む。
- A.Stein:Chem.Mater.2002,14,3305-3315(オパールは、ZrO対象についてはジルコニウムアセテートマトリックス中の、TiO2オパールについてはチタンプロポキシドマトリックス中の、又はシリカオパールについてはテトラメトキシシラン(TMOS)マトリックス中の単分散粒子から製造される。か焼の後、PS粒子は、空間を残す。その後、最終材料は、オパール粉末を与えるように摺り潰される)。
- D.Pine,F.F.Lange:Langmuir,Vol.21,15,2005,6669-6674(乳化プロセスに続く、PMMA粒子のか焼工程を介した、球形のオパールの生成を記載している。オパール多孔性は、チタンアルコキシド/PMMA粒子の含有比によって制御される)。
- F.F.Lange,Colloid Polym.Sci.(2003)282,7-13(チタンブトキシドの存在下でのPMMA粒子の乳化に続く、PMMA粒子のか焼を記載している)。
- スプレー乾燥又は噴霧化:原理は、フォトニック粒子をコーティングすることとなる材料を、蒸発点が100℃以下である揮発性の溶媒(エタノール、アセトン、イソプロパノール、水等、又はそれらの混合液)中に可溶化又は分散(ラテックスについて)させるものである。全体が、溶媒又は混合物が蒸発することができる温度にされたチャンバ内でスプレーされて、粒子上にコーティング材料が堆積する。前記粒子は、空気流の影響下で、室温にてコンテナ中に引き込まれて、その中に収集される。例えば、刊行物“Effects of fabrication conditions on the characteristics of etamidazole spray dried microspheres”:Wang et al.,J.Microencapsulation,2002,vol.19,No.4,495-510に言及してもよい。
- 空気流動層:空気流動層プロセスは、顆粒を乾燥且つ製造するのに頻繁に用いられる方法である。温風の流れが、リアクタの基部を介して導入される。アトマイザによって生成チャンバ中にスプレーされた懸濁液は、懸濁液中の粒子を成長させて、粒子は、空気流によってもはや運び去られ得ないほど早く、地面に落ちる。
- 融点が45℃を超えるワックス及び脂肪性物質、とりわけカルナバワックス、蜜蝋、ステアリルステアレート、ポリエチレンワックス、ジ18/22アジペート、ペンタエリスリチルテトラステアレート、テトラコンタニルステアレート、又はジオクタデシルカーボネート、
- セルロース及びセルロース誘導体、とりわけエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルセルロース、及びEthocel(登録商標)のブランド名で販売されているポリマー、
- 分子量が10000~80000g/モルのポリカプロラクトン、
- 90/10~50/50の比率のポリ乳酸(PLA)及びポリ乳酸-グリコール酸(PLAGA)、
- ポリビニルアルコール、
- ポリビニルピロリドンの、そしてビニルアセテートのコポリマー、並びに
-Eudragit(登録商標)L100のブランド名で販売されている、アクリル酸の、そしてメチルメタクリレートのコポリマー。
「偽逆オパール」型のフォトニック粒子は、マトリックスなしで凝集された、又はあらゆるタイプのマトリックス内に凝集若しくは分散された、例えば、熱-、電子-、若しくは光-架橋性マトリックス内に分散された、中空のナノ粒子を含む。
フォトニック粒子は、Janus型であってもよい。すなわち、ナノ粒子の少なくとも1つの他の回析配置、又は少なくとも2つの他の回析配置を含んでよく、当該配置はそれぞれ、固有の光学特性、とりわけ異なる回折スペクトルを有する。
本発明に従う組成物は、1つのタイプのみのフォトニック粒子、又は、例えば、とりわけ第1位の、可視、UV、若しくは近IR領域に位置決めされる、異なる波長に集中した反射ピークを有する、少なくとも2つの異なるタイプのフォトニック粒子の混合物を含んでもよい。
フォトニック粒子を構成するナノ粒子は、平均サイズが100nm~500nm、好ましくは100nm~400nmであってもよい。
CV=s/D
sは、粒子サイズ分布の標準偏差であり、
Dは、前記粒子の平均サイズである。
ナノ粒子は、無機化合物を含んでもよいし、完全に無機物であってもよい。
ナノ粒子は、有機化合物を含んでもよいし、完全に有機物であってもよい。
当該ナノ粒子は、コア及びシェルを含む。コアは、有機であっても無機であってもよい。
フォトニック粒子は、上で記載したように、あらゆるタイプのマトリックス中に凝集若しくは分散した、例えば熱-、電子-、若しくは光-架橋性マトリックス中に分散した、充填された(中実の)、若しくは中空のナノ粒子、又はあらゆるタイプのマトリックス中に分散した、例えば、熱-、電子-、若しくは光-架橋性マトリックス中に分散した空間を含んでもよい。
- 光架橋性ポリマー、例えば、ETPA(エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート)、PEGDA(ポリエチレングリコールジアクリレート)、アクリル樹脂、PEGジアクリレート、及び仏国特許第2833487号明細書中に記載される材料、
- 仏国特許第2848428号明細書中に記載される、多環付加(polycycloaddition)によって架橋する、PVA又はPVEA、及び以下の式を有するスチリルピリジニウムのコポリマー:
- 熱架橋性又は電子架橋性の熱可塑性ポリマー。
本発明に従えば、本発明に従うポリマーc)は、式(A)及び(B)のモノマー単位を含み:
R1は、各場合に独立して、アルキル基及びアルキレン基から選択され、
R1基の少なくとも60質量%は、ステアリル基及びベヘニル基から選択された基であり、質量パーセンテージは、ポリマー中に存在する全てのR1基の合計に関し、
全てのヒドロキシエチルアクリレート単位の合計の、R1基を有する全てのアクリレート単位の合計に対する質量比は、1:30~1:1の範囲であり、
単位A及びBの総合計は、ポリマーの総質量の少なくとも95質量%である。
CH2=CH-COO-R1(R1は、以前に記載した意味を有する)
のモノマー、及び2-ヒドロキシエチルアクリレートの重合によって調製され得る。
本発明に従う組成物はまた、少なくとも1つのUV遮断剤(日光由来のUV放射を遮断して除く薬剤)を含む。UV遮断剤は、親水性、親油性、又は不溶性である有機UV遮断剤及び無機UV遮断剤、及びそれらの混合物から選択され得る。
ChimexによってMexoryl SXの名で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
欧州特許第669323号明細書及び米国特許第2463264号明細書に記載されているビス-ベンザゾリル誘導体、より詳細にはHaarmann & ReimerによってNeo Heliopan APの商標名で販売されている化合物ジナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホネート、
好ましい遮断剤は、テレフタリリデンジカンファースルホン酸である。
p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体類
PABA、
グリセリルPABA、及び
BASF社によってUvinul P25の名で販売されているPEG-25 PABA、
とりわけMerckによってEusolex 232の商標名で販売されている、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
フェルラ酸、
サリチル酸、
DEAメトキシシンナメート、
ChimexによってMexoryl SLの名で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
ChimexによってMexoryl SOの名で製造されているカンファーベンザルコニウムメトスルフェート、及び。
少なくとも1つのスルホン基を含むベンゾフェノン誘導体類
ベンゾフェノン-4(BASF社によってUvinul MS40の商標名で販売されている)、
ベンゾフェノン-5、及び
ベンゾフェノン-9。
ジベンゾイルメタン誘導体類
とりわけDSM Nutritional Products,Inc.によってParsol 1789の商標名で販売されている、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
イソプロピルジベンゾイルメタン。
BASF社によってUvinul A+の商標名で販売されているn-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート。
SymriseによってNeo Heliopan MAの商標名で販売されているメンチルアントラニレート。
1,1-ジカルボキシ(2,2’-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
優先的な遮断剤は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、及びn-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエートである。
para-アミノベンゾエート類
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
エチルヘキシルジメチルPABA(ISPのEscalol 507)。
Rona/EM IndustriesによってEusolex HMSの名で販売されているホモサレート、
SymriseによってNeo Heliopan OSの名で販売されているエチルヘキシルサリチレート、
ScherによってDipsalの名で販売されているジプロピレングリコールサリチレート、
SymriseによってNeo Heliopan TSの名で販売されているTEAサリチレート。
DSM Nutritional Products,Inc.によって特にParsol MCXの商標名で販売されている、エチルヘキシルメトキシシンナメート、
イソプロピルメトキシシンナメート、
SymriseによってNeo Heliopan E 1000の商標名で販売されているイソアミルメトキシシンナメート、
ジイソプロピルメチルシンナメート、
シノキセート、
グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート。
とりわけBASF社によってUvinul N539の商標名で販売されている、オクトクリレン、
特にBASF社によってUvinul N35の商標名で販売されている、エトクリレン。
ChimexによってMexoryl SDの名で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
MerckによってEusolex 6300の名で販売されているメチルベンジリデンカンファー、
ChimexによってMexoryl SWの名で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
とりわけBASF社によってUvinul T150の商標名で販売されている、エチルヘキシルトリアゾン、
Sigma 3VによってUvasorb HEBの商標名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4’-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4’-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4’-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4’-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(n-ブチル4’-アミノベンゾエート)-6-(アミノプロピルトリシロキサン)-s-トリアジン、
米国特許第6,225,467号明細書、国際公開第2004/085412号パンフレット(化合物6及び9参照)、又は文献“Symmetrical Triazine Derivatives”IP.COM Journal,IP.COM Inc West Henrietta,NY,USA(2004年9月20日)に記載されている対称性トリアジン遮断剤、特に2,4,6-トリス-(ビフェニル)-1,3,5-トリアジン(特に、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル-1,3,5-トリアジン))及び2,4,6-トリス(テルフェニル)-1,3,5-トリアジン(Beiersdorfの国際公開第06/035000号パンフレット、国際公開第06/034982号パンフレット、国際公開第06/034991号パンフレット、国際公開第06/035007号パンフレット、国際公開第2006/034992号パンフレット、及び国際公開第2006/034985号パンフレットにおいても言及されている)。
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
ベンザルマロネート官能基を含有するポリオルガノシロキサン、例えば、DSM Nutritional Products,Inc.によってParsol SLXの商標名で販売されているポリシリコーン-15、
ジネオペンチル4’-メトキシベンザルマロネート。
オクチル5-N,N-ジエチルアミノ-2-フェニルスルホニル-2,4-ペンタジエノエート、
好ましい遮断剤は、ホモサレート、エチルヘキシルサリチレート、オクトクリレン、エチルヘキシル、メトキシシンナメート、イソアミルメトキシシンナメート、エチルヘキシルトリアゾン、及びジエチルヘキシルブタミドトリアゾンである。
ベンゾフェノン誘導体類
BASF社によってUvinul 400の商標名で販売されているベンゾフェノン-1、
BASF社によってUvinul D50の商標名で販売されているベンゾフェノン-2、
BASF社によってUvinul M40の商標名で販売されているベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン、
ベンゾフェノン-5、
Norquay社によってHelisorb 11の商標名で販売されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamid社によってSpectra-Sorb UV-24の商標名で販売されているベンゾフェノン-8、
ベンゾフェノン-10、
ベンゾフェノン-11、
ベンゾフェノン-12。
Rhodia Chimie社によってSilatrizoleの名で販売されているドロメトリゾールトリシロキサン、Fairmount ChemicalによってMIXXIM BB/100の商標名で固体形態で、又はCiba Specialty Chemicals社によってTinosorb Mの商標名で水性分散系として微粒状にされた形態で販売されているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール。
Ciba GeigyによってTinosorb Sの商標名で販売されているビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン。
Sigma 3VによってUvasorb K2Aの名で販売されている2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン。
ドロメトリゾールトリシロキサン、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、及び
ベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン
である。
ドロメトリゾールトリシロキサン、及び
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン
である。
無機の光保護剤は、コーティングされた、又はコーティングされていない金属酸化物顔料(一次粒子の平均サイズ:通常5nm~100nm、好ましくは10nm~50nm)、例えば酸化チタン(非晶質、又はルチル及び/若しくはアナタースの形態で結晶化)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、又は酸化セリウムの顔料から選択され、これらは全て、それ自体が周知であるUV光保護剤である。
- シリカ、例えば池田物産株式会社の製品Sunveil、
- シリカ及び酸化鉄、例えば池田物産株式会社の製品Sunveil F、
- シリカ及びアルミナ、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 500 SA及びMicrotitanium Dioxide MT 100 SA、並びにTioxide社の製品Tioveil、
- アルミナ、例えば石原産業株式会社の製品Tipaque TTO-55(B)及びTipaque TTO-55(A)、並びにKemira社の製品UVT 14/4、
- アルミナ及びアルミニウムステアレート、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 Z、及びMT-01、Uniqema社の製品Solaveil CT-10 W及びSolaveil CT 100、並びにMerck社の製品Eusolex T-AVO、
- シリカ、アルミナ、及びアルギン酸、例えばテイカ株式会社の製品MT-100 AQ、
- アルミナ及びアルミニウムラウレート、例えばテイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 100 S、
- 酸化鉄及び鉄ステアレート、例えばテイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 100 F、
- 酸化亜鉛及び亜鉛ステアレート、例えばテイカ株式会社の製品BR 351、
- シリカ及びアルミナ(且つシリコーンで処理されている)、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 600 SAS、Microtitanium Dioxide MT 500 SAS、又はMicrotitanium Dioxide MT 100 SAS、
- シリカ、アルミナ、及びアルミニウムステアレート(且つシリコーンで処理されている)、例えばチタン工業株式会社の製品STT-30-DS、
- シリカ(且つシリコーンで処理されている)、例えばKemira社の製品UV-Titan X 195、
- アルミナ(且つシリコーンで処理されている)、例えば、石原産業株式会社の製品Tipaque TTO-55(S)又はKemira社の製品UV-Titan M 262、
- トリエタノールアミン、例えばチタン工業株式会社の製品STT-65-S、
- ステアリン酸、例えば石原産業株式会社の製品Tipaque TTO-55(C)、
- ナトリウムヘキサメタホスフェート、例えばテイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 150 W、
- オクチルトリメチルシランで処理されたTiO2(Degussa Silices社によってT 805の商標名で販売されている)、
- ポリジメチルシロキサンで処理されたTiO2(Cardre社によって70250 Cardre UF TiO2SI3の商標名で販売されている)、並びに
- ポリジメチルヒドロゲノシロキサンで処理されたアナタース/ルチルTiO2(Color Techniques社によってMicrotitanium Dioxide USP Grade Hydrophobicの商標名で販売されている)。
- Sunsmart社によってZ-Coteの名で販売されているもの、
- Elementis社によってNanoxの名で販売されているもの、
- Nanophase Technologies社によってNanogard WCD 2025の名で販売されているもの。
- Toshibi社よってZinc Oxide CS-5の名で販売されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンでコーティングされたZnO)、
- Nanophase Technologies社によってNanogard Zinc Oxide FNの名で販売されているもの(Finsolv TN(C12~C15アルキルベンゾエート)中40%分散系として)、
- 大東化成工業株式会社によってDaitopersion ZN-30及びDaitopersion ZN-50の名で販売されているもの(シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散系(シリカ及びポリメチルヒドロシロキサンでコーティングされたナノ酸化亜鉛を30%又は50%含有する))、
- ダイキン工業株式会社によってNFD Ultrafine ZnOの名で販売されているもの(ペルフルオロアルキルホスフェート、及びパーフルオロアルキルエチルをベースにしたコポリマーでコーティングされたZnO(シクロペンタシロキサン中の分散系として))、
- 信越化学工業株式会社によってSPD-Z1の名で販売されているもの(シリコーングラフトアクリルポリマーでコーティングされたZnO(シクロジメチルシロキサン中に分散))、
- ISP社によってEscalol Z100の名で販売されているもの(アルミナ処理ZnO(エチルヘキシルメトキシシンナメート/PVP-ヘキサデセン/メチコンコポリマー混合物中に分散))、
- 冨士色素株式会社によってFuji ZnO-SMS-10の名で販売されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンでコーティングされたZnO)、
- Elementis社によってNanox Gel TNの名で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合体を有するC12~C15アルキルベンゾエート中に55%の濃度にて分散したZnO)。
本発明に従う組成物は、脂肪相を含んでもよい。脂肪相は、とりわけ、揮発性であってもよい。
本発明の目的のために、用語「揮発性油」は、室温にて、且つ大気圧にて、皮膚と接触して直ぐ(1時間未満)に蒸発することができる油(又は非水性媒体)を意味する。
本発明に従う組成物は、不揮発性油を含んでもよい。
- 動物起源の炭化水素ベースの油、
- 植物起源の炭化水素ベースの油、例えばフィトステアリルエステル、例えばフィトステアリルオレエート、フィトステアリルイソステアレート、及びラウロイル/オクチルドデシル/フィトステアリルグルタメート(例えば、味の素株式会社によってEldew PS203の名で販売されている)、グリセロールの脂肪酸エステルで構成されるトリグリセリド、C4~C24に及ぶ鎖長を有してもよい脂肪酸(当該鎖は、おそらく、直鎖状又は分枝状であり、且つ飽和しており、又は不飽和である);これらの油は、とりわけ、ヘプタノイック(heptanoic)トリグリセリド若しくはオクタノイック(octanoic)トリグリセリド、コムギ麦芽油、ヒマワリ油、グレープシード油、ゴマ油、コーン油、アプリコット油、ヒマシ油、シアバター油、アボカド油、オリーブ油、ダイズ油、スウィートアーモンド油、パーム油、ナタネ油、綿実油、ヘイゼルナッツ油、マカダミア油、ホホバ油、アルファルファ油、ポピー油、カボチャ油、マロー油、クロフサスグリ油、マツヨイグサ油、キビ油、オオムギ油、キノア油、ライムギ油、ベニバナ油、ククイノキ油、パッションフラワー油、又はマスクローズ油;シアバター;或いは代わりにカプリル酸/カプリン酸トリグリセリド、例えば、Stearinerie Dubois社によって販売されているもの、又はDynamit Nobel社によってMiglyol 810(登録商標)、812(登録商標)、及び818(登録商標)の名で販売されているものである、
- 無機起源又は合成起源の炭化水素ベースの油、例えば:
・ 10~40個の炭素原子を含有する合成エーテル、
・ 無機起源又は合成起源の直鎖状又は分枝状の炭化水素、例えば、石油ゼリー、ポリデセン、水添ポリイソブテン、例えばパールリーム、及びスクアラン、並びにそれらの混合物、特に水添ポリイソブテン、
・ 合成エステル、例えば、式R1COOR2の油(式中、R1は、1~40個の炭素原子を含む直鎖状又は分枝状の脂肪酸の残基を表し、R2は、とりわけ、1~40個の炭素原子を含有する分枝状炭化水素ベースの鎖を表すが、R1+R2は≧10であることを条件とする)
を挙げることができる。
・ セトステアリルオクタノエート、イソプロピルアルコールエステル、例えば、イソプロピルミリステート、イソプロピルパルミテート、エチルパルミテート、2-エチルヘキシルパルミテート、イソプロピルステアレート、イソプロピルイソステアレート、イソステアリルイソステアレート、オクチルステアレート、水酸化エステル、例えば、イソステアリルラクテート、オクチルヒドロキシステアレート、ジイソプロピルアジペート、ヘプタノエート、及び、とりわけイソステアリルヘプタノエート、アルコール又はポリアルコールオクタノエート、デカノエート又はリシノレート、例えばプロピレングリコールジオクタノエート、セチルオクタノエート、トリデシルオクタノエート、2-エチルヘキシル4-ジヘプタノエート、2-エチルヘキシルパルミテート、アルキルベンゾエート、ポリエチレングリコールジヘプタノエート、プロピレングリコール2-ジエチルヘキサノエート、並びにそれらの混合物、C12~C15アルコールベンゾエート、ヘキシルラウレート、ネオペンタン酸エステル、例えば、イソデシルネオペンタノエート、イソトリデシルネオペンタノエート、イソステアリルネオペンタノエート、オクチルドデシルネオペンタノエート、イソノナン酸エステル、例えば、イソノニルイソノナノエート、イソトリデシルイソノナノエート、オクチルイソノナノエート、水酸化エステル、例えば、イソステアリルラクテート及びジイソステアリルマレート、
・ ポリオールエステル及びペンタエリトリチルエステル、例えば、ジペンタエリトリチルテトラヒドロキシステアレート/テトライソステアレート、
・ ジオールダイマーの、そして二価酸ダイマーのエステル、例えば、日本精化株式会社によって販売されており、且つ仏国特許出願公開第0302809号明細書に記載されているLusplan DD-DA5(登録商標)及びLusplan DD-DA7(登録商標)、
・ 室温にて液体であり、12~26個の炭素原子を含有する分枝状且つ/又は不飽和の炭素ベースの鎖を有する脂肪アルコール、例えば、2-オクチルドデカノール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、2-ヘキシルデカノール、2-ブチルオクタノール、及び2-ウンデシルペンタデカノール、
・ 高級脂肪酸、例えば、オレイン酸、リノール酸、及びリノレン酸、並びにそれらの混合物、並びに
・ ジアルキルカーボネート(2つのアルキル鎖はおそらく、同一であり、又は異なる)、例えば、CognisによってCetiol CC(登録商標)の名で販売されているジカプリリルカーボネート、
・ 不揮発性のシリコーン油、例えば、不揮発性ポリジメチルシロキサン(PDMS)、シリコーン鎖の側に、且つ/又は末端にアルキル基又はアルコキシ基を含むポリジメチルシロキサン(これらの基はそれぞれ、2~24個の炭素原子を含有する)、フェニルシリコーン、例えば、フェニルトリメチコン、フェニルジメチコン、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン、ジフェニルジメチコン、ジフェニルメチルジフェニルトリシロキサン、及び2-フェニルエチルトリメチルシロキシシリケート、並びにジメチコン又はフェニルトリメチコン(粘性は、100cSt以下である)、並びにそれらの混合物、
- 並びにそれらの混合物
から選択されてもよい。
フォトニック粒子を含む組成物は、美容分野で一般的であるアジュバントから選択される少なくとも1つの添加物を含んでもよく、例えば、フィラー、着色剤、親水性又は親油性のゲル化剤、水溶性又は脂溶性の活性剤、保存剤、モイスチャライザ、例えばポリオール、とりわけグリセロール、封鎖剤、抗酸化剤、溶媒、芳香剤、臭気吸収剤、pH調整剤(酸又は塩基)、及びそれらの混合物である。
本発明に従う組成物は、皮膚、唇、毛髪、又は爪用のローション、二相組成物、クリーム、乳、軟膏、又はゲルであってもよい。
その態様の別のものに従えば、本発明は、上記に定義されるように、生理的に許容可能な媒体中に、本発明に従う組成物を含む、光保護化粧用組成物に関する。
光保護化粧用組成物は、手で塗布されてもよいし、アプリケータを用いて塗布されてもよい。
シリカ粒子(JGCのCosmo S-160NP)の水性分散系を、以下のプロセスに従って霧状にした。
ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)による分子量の判定:
10mg/mlのポリマーのテトラヒドロフラン溶液を調製することによって、サンプルを調製する。サンプルを、54℃のオーブン内に10分間置いてから、振動シェーカー内に60分間置いて、溶解を促進させる。視覚による精査の後に、サンプルは、溶媒中に完全に溶解したように見える。
この方法は、示差走査熱量測定によってポリマーの融点を判定するための一般的な手順を記載する。この方法は、規格ASTM E791及びASTM D 34182に基づき、DSC較正は、規格ASTM E 9672に従って行われる。
サイドブレードミキサー、内部温度計、2つの漏斗、還流コンデンサ、及び他の2つ口用の拡張部を備えた4つ口フラスコ内で、20分間の窒素フラッシュによって系から酸素を除去した後に、175gのベヘニルアクリレート、25gの2-ヒドロキシエチルアクリレート、及び0.4gの2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(Akzo Nobel)を、80℃にて60分にわたって、40gのイソプロパノールに、撹拌しながら加えた。その混合物を、80℃にて3時間撹拌した。次に、溶媒を、減圧蒸留によって除去してから、1gのジラウリルパーオキシドを加えて、反応を110℃にて60分間続けた。この工程を繰り返した。次に、混合物を90℃に冷却して、脱塩水の流れを加えてから、混合物を撹拌した。水を、減圧蒸留によって除去した。
分子量:Mn=7300g/mol、Mw=21000、Mw/Mn=2.8
融点:65℃。
ステアリルアクリレート/2-ヒドロキシエチルアクリレートコポリマー(ポリマー2):
サイドブレードミキサー、内部温度計、2つの漏斗、還流コンデンサ、及び他の2つ口用の拡張部を備えた4つ口フラスコ内で、20分間の窒素フラッシュによって系から酸素を除去した後に、155gのステアリルアクリレート、45gの2-ヒドロキシエチルアクリレート、及び0.4gの2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(Akzo Nobel)を、80℃にて90分にわたって、50gのイソプロパノールに、撹拌しながら加えた。混合物を、80℃にて3時間撹拌した。次に、溶媒を、減圧蒸留によって除去してから、1gのジラウリルパーオキシドを加えて、反応を125℃にて60分間続けた。その工程を繰り返した。次に、混合物を90℃に冷却して、脱塩水の流を加えてから、混合物を撹拌した。水を、減圧蒸留によって除去した。
分子量:Mn=7500g/mol、Mw=19000、Mw/Mn=2.6
融点:49℃。
以下のO/Wエマルジョンを調製した。
- 例4~6に記載される組成物を、以下の手順に従って調製した:
- 1-油性相(相A)を、遮断剤を導入することによって調製する。
- 遮断剤を、70℃に加熱することによって溶解させて、ポリマーを構成する脂肪相を加えて、ポリマーが完全に溶解するまで加熱する。
- 2-水性相(相B)を調製して、相を70℃に加熱する。
- 3-ローター/ステーターミキサー、例えばMoritzブレンダを70℃にて用いて、2つの相を一緒に乳化させて、30℃に冷却する。
- 4-フォトニック粒子(相C)を、Rayneriブレンダを用いてゆっくり撹拌しながら導入する。
- 5-相Dを、Rayneriブレンダを用いてゆっくり撹拌しながら加える。
Claims (20)
- a)平均サイズが0.5μm~100μmであるフォトニック粒子であって、それぞれが、250nm~1800nmに及ぶ波長範囲において放射の減衰をもたらす、単分散ナノ粒子の、又は空間の、秩序ある周期的な配置を含む、フォトニック粒子、及び
b)少なくとも1つのUV遮断剤、及び
c)式(A)及び(B)のモノマー単位を含む少なくとも1つのポリマーであって:
R1は、各場合に独立して、アルキル基及びアルキレン基から選択され、そして
R1基の少なくとも60質量%は、ステアリル基及びベヘニル基から選択された基であり、前記質量パーセンテージは、前記ポリマー中に存在する全ての前記R1基の合計に関するものであり、そして
全てのヒドロキシエチルアクリレート単位の合計の、前記R1基を有する全てのアクリレート単位の合計に対する質量比は、1:30~1:1の範囲であり、
そして単位A及びBの総合計は、前記ポリマーの総質量に対して少なくとも95質量%であり、
ポリマーが2000~9000g/molの範囲の数平均分子量Mnを有する、少なくとも1つのポリマーと
を少なくとも含む化粧用組成物。 - ナノ粒子を含む前記フォトニック粒子がマトリックスを有していない、請求項1に記載の化粧用組成物。
- 前記ナノ粒子が、シリカ、少なくとも1つの金属酸化物、又はシリカ及び少なくとも1つの金属酸化物の混合物を含む、請求項1又は2に記載の化粧用組成物。
- 前記ナノ粒子が、シリカで構成される、請求項1~3のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- 前記ナノ粒子の平均サイズが、100nm~500nmである、請求項1~4のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- 前記フォトニック粒子が、形状が実質的に球形である、請求項1~5のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- 前記フォトニック粒子は、平均サイズが1μm~40μmである、請求項1~6のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- フォトニック粒子の質量含有量が、組成物の総質量に対して0.1質量%~50質量%である、請求項1~7のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- 前記UV遮断剤(1又は複数)が、親水性、親油性、又は不溶性の有機UV遮断剤及び無機UV遮断剤、並びにそれらの混合物から選択されてもよいUV遮断剤から選択される、請求項1~8のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- UV遮断剤の含有量が、組成物の総質量に対して0.01質量%~60質量%である、請求項1~9のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)において、ステアリル基及びベヘニル基以外のR1は、アルキル基であることを特徴とする、請求項1~10のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)において、前記R1基の少なくとも70質量%が、ベヘニル基又はステアリル基であることを特徴とする、請求項1~11のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)において、全ての前記R1基が、ステアリル基又はベヘニル基であることを特徴とする、請求項1~12のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)において、前記質量比が、1:15~1:1の範囲であることを特徴とする、請求項1~13のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)は、数平均分子量Mnが5000~9000g/molの範囲であることを特徴とする、請求項1~14のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)は、融点が40℃~70℃の範囲であることを特徴とする、請求項1~15のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)において、前記R1基の少なくとも60質量%がステアリル基であり、そしてポリマーc)は、融点が40~60℃の範囲であることを特徴とする、請求項1~16のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)において、前記R1基の少なくとも60質量%がベヘニル基であり、そして前記ポリマーc)は、融点が60℃~70℃の範囲であることを特徴とする、請求項1~16のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- ポリマーc)の含有量が、組成物の総質量に対して0.01質量%~15質量%であることを特徴とする、請求項1~18のいずれか一項に記載の化粧用組成物。
- 太陽UV放射に対するケラチン物質の光保護のための非治療方法であって、請求項1~19のいずれか一項に記載の化粧用組成物を前記ケラチン物質に適用する工程を含む非治療方法。
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