JP2013241326A - 圧電セラミックス、圧電素子、超音波モータおよび塵埃除去装置 - Google Patents

圧電セラミックス、圧電素子、超音波モータおよび塵埃除去装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 広い実用温度領域で良好かつ安定な圧電定数と機械的品質係数を有する非鉛圧電セラミックスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(1)
(Ba1−xCa(Ti1−y−zSnZr)O (1)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04、0≦z≦0.04)
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を含む主成分と、Mnよりなる第1副成分とを有する圧電セラミックスであって、前記金属酸化物1モルに対する前記Mnの含有量をbモルとしたときに、0.0048≦b≦0.0400であり、前記aの値が0.9925+b≦a≦1.0025+bであることを特徴とする圧電セラミックス。
【選択図】 図15

Description

本発明は圧電セラミックスに関し、特に鉛を含有しない圧電セラミックスとその製造方法に関する。また、本発明は前記圧電セラミックスを用いた圧電素子、積層圧電素子、積層圧電素子の製造方法、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置および電子機器に関する。
圧電セラミックスは、チタン酸ジルコン酸鉛(以下「PZT」という)のようなABO型ペロブスカイト型金属酸化物が一般的である。しかしながら、PZTはAサイト元素として鉛を含有するために、環境に対する影響が問題視されている。このため、鉛を含有しないペロブスカイト型金属酸化物を用いた圧電セラミックスが求められている。
鉛を含有しないペロブスカイト型金属酸化物の圧電セラミックスとして、チタン酸バリウムが知られている。また、その特性を改良する目的で、チタン酸バリウムの組成をベースとした材料開発が行われている。
特許文献1にはチタン酸バリウムのAサイトの一部をCaに置換した圧電セラミックスが開示されている。さらに特許文献2には前記チタン酸バリウムのAサイトの一部をCaに置換した圧電セラミックスに、Mn、Fe、またはCuを添加する材料が開示されている。これらの材料は、チタン酸バリウムに比べて機械的品質係数に優れるものの、圧電特性が小さいという課題があった。
特許第4039029号公報 特開2010−120835号公報
本発明は上述の課題に対処するためになされたもので、広い実用温度領域で良好かつ安定な圧電定数と機械的品質係数を有する非鉛圧電セラミックスとその製造方法を提供するものである。
また、本発明は前記圧電セラミックスを用いた圧電素子、積層圧電素子、積層圧電素子の製造方法、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置および電子機器を提供するものである。
本発明に係る圧電セラミックスは、一般式(1) または一般式(2)、
(Ba1−xCa(Ti1−y−zSnZr)O (1)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04、0<z≦0.04)
(Ba1−xCa(Ti1−y−zSn)O (2)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04)
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を含む主成分と、Mnよりなる第1副成分とを有する圧電セラミックスであって、前記金属酸化物1モルに対する前記Mnの含有量をbモルとしたときに、0.0048≦b≦0.0400であり、前記aの値が0.9925+b≦a≦1.0025+bであることを特徴とする。
本発明によれば、広い実用温度領域で良好かつ安定な圧電定数と機械的品質係数を有する非鉛圧電セラミックスを提供することができる。
本発明の圧電素子の構成の一実施形態を示す概略図である。 本発明の積層圧電素子の構成の一実施形態を示す断面概略図である。 本発明の液体吐出ヘッドの構成の一実施態様を示す概略図である。 本発明の液体吐出装置の一実施態様を示す概略図である。 本発明の液体吐出装置の一実施態様を示す概略図である。 本発明の超音波モータの構成の一実施態様を示す概略図である。 本発明の光学機器の一実施態様を示す概略図である。 本発明の光学機器の一実施態様を示す概略図である。 本発明の塵埃除去装置の一実施態様を示す概略図である。 本発明の塵埃除去装置における圧電素子の構成を示す概略図である。 本発明の塵埃除去装置の振動原理を示す模式図である。 本発明の撮像装置の一実施態様を示す概略図である。 本発明の撮像装置の一実施態様を示す概略図である。 本発明の電子機器の一実施態様を示す概略図である。 本発明の実施例1から80及び実施例100から115の圧電セラミックスおよび比較例1から23のセラミックスのx値とy値とz値の関係を示す相図である。点線の内部は請求項1のx値とy値と範囲を示している。(a)はz=0である。(b)はz=0.03である。(c)はz=0.04である。(d)はz=0.01である。
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
本発明に係る圧電セラミックスは、一般式(1)または一般式(2)、
(Ba1−xCa(Ti1−y−zSnZr)O (1)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04、0<z≦0.04)
(Ba1−xCa(Ti1−ySn)O (2)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04)
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を含む主成分と、Mnよりなる第1副成分とを有する圧電セラミックスであって、前記金属酸化物1モルに対する前記Mnの含有量をbモルとしたときに、0.0048≦b≦0.0400であり、前記aの値が0.9925+b≦a≦1.0025+bであることを特徴とする。
(ペロブスカイト型金属酸化物について)
本発明において、ペロブスカイト型金属酸化物とは、岩波理化学辞典 第5版(岩波書店 1998年2月20日発行)に記載されているような、理想的には立方晶構造であるペロブスカイト構造(ペロフスカイト構造とも言う)を持つ金属酸化物を指す。ペロブスカイト構造を持つ金属酸化物は一般にABOの化学式で表現される。ペロブスカイト型金属酸化物において、元素A、Bは各々イオンの形でAサイト、Bサイトと呼ばれる単位格子の特定の位置を占める。例えば、立方晶系の単位格子であれば、A元素は立方体の頂点、B元素は体心に位置する。O元素は酸素の陰イオンとして立方体の面心位置を占める。
前記一般式(1)で表わされる金属酸化物は、Aサイトに位置する金属元素がBaとCa、Bサイトに位置する金属元素がTi、ZrとSnであることを意味する。ただし、一部のBaとCaがBサイトに位置してもよい。同様に、一部のTiとZrがAサイトに位置してもよい。しかし、圧電特性が低下するという観点で、SnがAサイトに位置することは好ましくない。
前記一般式(1)における、Bサイトの元素とO元素のモル比は1対3であるが、元素量の比が若干ずれた場合(例えば、1.00対2.94〜1.00対3.06)でも、前記金属酸化物がペロブスカイト構造を主相としていれば、本発明の範囲に含まれる。
前記金属酸化物がペロブスカイト構造であることは、例えば、X線回折や電子線回折による構造解析から判断することができる。
(セラミックスについて)
本明細書中において「セラミックス」とは、基本成分が金属酸化物であり、熱処理によって焼き固められた結晶粒の凝集体(バルク体とも言う)、いわゆる多結晶を表す。焼結後に加工されたものも含まれる。
(本願発明の圧電セラミックスの主成分)
本願発明の圧電セラミックスは、前記一般式(1)において、AサイトにおけるBaとCaのモル量とBサイトにおけるTi、ZrとSnのモル量との比を示すaは、0.9925+b≦a≦1.0025+bの範囲である。ここで、bは第一の副成分であるMnの前記金属酸化物1モルに対する含有量を示す。aが0.9925+bより小さいと圧電セラミックスの内部に異常粒成長が生じ易くなり、材料の機械的強度が低下してしまう。一方で、aが1.0025+bより大きくなると粒成長に必要な温度が高くなり過ぎ、一般的な焼成炉で焼結ができなくなる。ここで、「焼結ができない」とは密度が充分な値にならないことや、前記圧電セラミックス内にポアや欠陥が多数存在している状態を指す。第一の副成分であるMnは多くがBサイトに位置する。よって、Mnの含有量を示すbが増加するとBサイトが増加するため、それに応じてaを増加させる必要がある。
前記一般式(1)において、AサイトにおけるCaのモル比を示すxは、0.08≦x≦0.20の範囲である。xが0.08より小さいと結晶構造相転移が実用温度で発生して、駆動時の耐久性に悪影響を及ぼす。一方で、xが0.20より大きいと圧電特性が充分でなくなる。より好ましくは0.09≦x≦0.18である。
前記一般式(1)において、BサイトにおけるSnのモル比を示すyは、0.01≦y≦0.04の範囲である。yが0.01より小さいと、圧電特性が充分でなくなる。一方で、yが0.04より大きいとキュリー温度(T)が100℃未満と低くなり、高温において圧電特性が消失する。より好ましくは0.015≦y≦0.035である。
前記一般式(1)において、BサイトにおけるZrのモル比を示すzは、0≦z≦0.04の範囲である。zが0.04より大きいと焼結温度が高くなるので望ましくはない。
BサイトにおけるZrのモル比を示すzは、前記一般式(1)においてz=0であることが好ましい。z=0であると焼結時に粒成長速度が速くなる。そのため、焼結温度を低く抑えることができるので望ましい。もちろん、Tiの市販原料に不可避成分として含まれる程度のZrは、本発明の圧電セラミックスに含んでいてもよい。
本発明に係る圧電セラミックスの組成を測定する手段は特に限定されない。手段としては、X線蛍光分析、ICP発光分光分析、原子吸光分析などが挙げられる。いずれの手段においても、前記圧電セラミックスに含まれる各元素の重量比およびモル比を算出できる。
(本願発明の圧電セラミックスの第1副成分)
前記第1副成分はMnよりなる。前記Mnの前記金属酸化物1モルに対する含有量をbモルとしたときに、前記bは0.0048≦b≦0.0400である。本発明の圧電セラミックスは、前記範囲のMnを含有すると、圧電定数を損なわずに機械的品質係数が向上する。ここで、機械的品質係数とは圧電セラミックスを振動子として評価した際に振動による弾性損失を表す係数であり、機械的品質係数の大きさはインピーダンス測定における共振曲線の鋭さとして観察される。つまり振動子の共振の鋭さを表す定数である。絶縁性や機械的品質係数が向上すると、前記圧電セラミックスを圧電素子として電圧を印加し駆動させた際に、圧電素子の長期信頼性が確保できる。
bが0.0048未満であると、機械的品質係数が400未満と小さくなる。機械的品質係数が小さいと、前記圧電セラミックスに1対の電極を付けて、圧電素子にして共振デバイスとして駆動した際に、消費電力が増大してしまう。好ましい機械的品質係数は、400以上であり、より好ましくは600以上である。この範囲であれば、実用的な駆動において、消費電力の極端な増大は発生しない。一方、bが0.0400より大きくなると、圧電特性が充分でなくなることや、圧電特性に寄与しない六方晶構造の結晶が発現することがあるので好ましくない。
MnはBサイトを占有することが好ましい。
また、Mnの価数は4+であることが好ましい。Mnの価数は一般に4+、2+、3+を取ることができる。結晶中に伝導電子が存在する場合(例えば結晶中に酸素欠陥が存在する場合や、Aサイトをドナー元素が占有した場合等)、Mnの価数が4+から3+または2+などへと低くなることで伝導電子をトラップし、絶縁抵抗を向上させることができるからである。イオン半径の観点からも、Mnの価数が4+であるとBサイトの主成分であるTiを容易に置換できるので好ましい。
一方でMnの価数が2+など、4+よりも低い場合、Mnはアクセプタとなる。アクセプタとしてMnがペロブスカイト構造結晶中に存在すると、結晶中にホールが生成されるか、結晶中に酸素空孔が形成される。
加えた多数のMnの価数が2+や3+であると、酸素空孔の導入だけではホールが補償しきれなくなり、絶縁抵抗が低下する。よってMnの大部分は4+であることが好ましい。ただし、ごくわずかのMnは4+よりも低い価数となり、アクセプタとしてペロブスカイト構造のBサイトを占有し、酸素空孔を形成してもかまわない。価数が2+あるいは3+であるMnと酸素空孔が欠陥双極子を形成し、圧電材料の機械的品質係数を向上させることができるからである。
本発明に係る圧電セラミックスは、前記圧電セラミックスが、Cu、BおよびSiから選ばれる少なくとも1種を含む第2副成分を有しており、前記第2副成分の含有量が、前記金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.001重量部以上4.000重量部以下であることが好ましい。より好ましくは0.003重量部以上2.000重量部以下である。
ここで、第2副成分の含有量は、前記圧電セラミックスから蛍光X線分析(XRF)、ICP発光分光分析、原子吸光分析などにより測定されたBa、Ca、Ti、Sn、Zr、Mnおよび第2副成分に含まれる各金属の含有量から、前記一般式(1)で表わされる金属酸化物を構成する元素を酸化物換算し、その総重量を100としたときに対する第2副成分との比によって求められた値を表す。
(本願発明の圧電セラミックスの第2副成分)
前記第2副成分は、Cu、BおよびSiから選べる少なくとも1種である。BおよびSiは、前記圧電セラミックスの結晶粒同士の界面に偏析する。そのため、結晶粒同士の界面に流れる漏れ電流が低減するので、絶縁抵抗が増加する。Cuは結晶粒に固溶し、絶縁抵抗を増加させる。圧電セラミックスが第2副成分を0.001重量部以上含有すると絶縁抵抗が高くなるので望ましい。一方で、含有量が0.001重量部未満であると絶縁抵抗が低いので望ましくない。圧電セラミックスが第2副成分を4.000重量部よりも含有すると誘電率が低下するため、圧電特性が低下するので望ましくない。前記Siの含有重量G1と前記Bの含有重量G2との重量比G1/G2が2.0≦G1/G2≦3.8であることが好ましい。この範囲であると特に好適な絶縁抵抗を有する。好ましいSiの含有量は0.003重量部以上1.000重量部以下である。好ましいCuの含有量は0.100重量部以上2.000重量部以下である。好ましいBの含有量は0.001重量部以上1.000重量部以下である。
積層圧電素子は電極間の圧電セラミックスが薄いため、高い電界に対する耐久性が求められる。よって、本発明に係る圧電セラミックスは特に絶縁抵抗に優れるために、積層圧電素子に好適に用いることができる。
本発明に係る圧電セラミックスは、前記一般式(1)で表わされる金属酸化物および前記第1副成分と前記第2副成分以外の第3副成分を特性が変動しない範囲で含んでいてもよい。前記第3副成分は、前記一般式(1)で表現される金属酸化物100重量部に対してその合計が1.2重量部以下であることが好ましい。前記第3副成分が1.2重量部を超えると、前記圧電セラミックスの圧電特性や絶縁特性が低下する恐れがある。また、前記第3副成分のうち前記Ba、Ca、Ti、Zr、Sn、Mn、Cu、B、Si以外の金属元素の含有量は、前記圧電セラミックス100重量部に対して酸化物換算で1.0重量部以下、または金属換算で0.9重量部以下であることが好ましい。本明細書中において「金属元素」とはGe、Sbのような半金属元素も含む。前記第3副成分のうち前記Ba、Ca、Ti、Zr、Sn、Mn、Cu、B、Si以外の金属元素の含有量が、前記圧電セラミックス100重量部に対して酸化物換算で1.0重量部、または金属換算で0.9重量部を超えると、前記圧電セラミックスの圧電特性や絶縁特性が著しく低下する恐れがある。前記第3副成分のうち、Li、Na、Al、Zn、Sr、K元素の合計は、前記圧電セラミックス100重量部に対して金属換算で0.5重量部以下であることが好ましい。前記第3副成分のうち、Li、Na、Al、Zn、Sr、K元素の合計が、前記圧電セラミックス100重量部に対して金属換算で0.5重量部を超えると、焼結が不十分となる恐れがある。前記第3副成分のうち、Y、V元素の合計は、前記圧電セラミックス100重量部に対して金属換算で0.2重量部以下であることが好ましい。前記第3副成分のうち、Y、V元素の合計が前記圧電セラミックス100重量部に対して金属換算で0.2重量部を超えると、分極処理が困難になる恐れがある。
Tiの市販原料に不可避成分として含まれる程度のNbと、Zrの市販原料に不可避成分として含まれる程度のHfは、本発明の圧電セラミックスに含んでいてもよい。
本発明に係る圧電セラミックスは、前記一般式(1)で表わされる主成分と前記第1副成分および前記第2副成分を総和で98.5モル%以上含むことが好ましい。また、前記圧電セラミックスは、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を主成分として90モル%以上含むことが好ましい。より望ましくは95モル%以上である。
前記第1副成分、前記第2副成分、前記第3副成分の重量部を測定する手段は特に限定されない。手段としては、X線蛍光分析、ICP発光分光分析、原子吸光分析などが挙げられる。
(相転移点)
本発明の圧電セラミックスは、0℃から90℃において結晶構造相転移点を有さないことが好ましい。−20℃から100℃において結晶構造相転移点を有さないことがより好ましい。
一般的に知られているチタン酸バリウムは、結晶構造が斜方晶から正方晶へ転移する温度(以下、To→tという)が17℃付近に、正方晶から斜方晶へと転移する温度(Tt→o)が5℃付近に存在する。圧電セラミックスが、これらの結晶構造相転移点を往き来すると、単位格子の体積と分極軸方向が変化するために、次第に脱分極が起こり、圧電特性が劣化する恐れがある。そのため、チタン酸バリウムは広い温度域での使用が困難であった。本発明の圧電セラミックスは、To→tが0℃より低いため、チタン酸バリウムが抱えていた上述の課題に対する恐れがない。また、キュリー温度が90℃以上に存在することにより、夏季の車中で想定される80℃という過酷な状況下においても、圧電性を損失することなく、維持することができる。さらに、0℃から90℃において正方晶構造を維持するため、機械的品質係数を高く維持することになり、機械的品質係数が小さくなる斜方晶領域を使用することを避けることができるため、広い実用温度域で良好かつ安定な圧電定数と機械的品質係数を有することが可能となる。
(キュリー温度について)
本明細書において、キュリー温度とは、セラミックスの強誘電性が消失する温度をいう。通常、キュリー温度以上で圧電セラミックスの圧電特性も消失する。キュリー温度の特定方法は、測定温度を変えながら強誘電性が消失する温度を直接測定する方法に加えて、微小交流電界を用いて測定温度を変えながら比誘電率が極大を示す温度から求める方法がある。
(結晶粒の粒径と円相当径について)
本発明に係る圧電セラミックスは、前記圧電セラミックスを構成する複数の結晶粒の平均円相当径が1μm以上10μm以下であることが好ましい。結晶粒の平均円相当径をこの範囲にすることで、本発明の圧電セラミックスは、良好な圧電特性と機械的強度を有することが可能となる。平均円相当径が1μm未満であると、圧電特性が充分でなくなる恐れがある。一方で、10μmより大きくなると機械的強度が低下する恐れがある。より好ましい範囲としては1μm以上4.7μm以下である。
本発明に係る圧電セラミックスは、前記圧電セラミックスを構成する結晶粒において、円相当径が25μm以下である結晶粒が99個数パーセント以上であることが好ましい。円相当径が25μm以下である結晶粒の個数パーセントをこの範囲にすることで、本発明の圧電セラミックスは、良好な機械的強度を有することが可能となる。機械的強度は円相当径の大きな結晶粒の含有割合と強い負の相関関係がある。円相当径が25μm以下である結晶粒の個数パーセントが99個数パーセント未満であると、円相当径が25μmを超える粒子の含有割合が多くなるため、機械的強度が低下する恐れがある。
本発明における「円相当径」とは、顕微鏡観察法において一般に言われる「投影面積円相当径」を表し、結晶粒の投影面積と同面積を有する真円の直径を表す。本発明において、この円相当径の測定方法は特に制限されない。例えば圧電セラミックスの表面を偏光顕微鏡や走査型電子顕微鏡で撮影して得られる写真画像を画像処理して求めることができる。対象となる粒子径により最適倍率が異なるため、光学顕微鏡と電子顕微鏡を使い分けても構わない。材料の表面ではなく研磨面や断面の画像から円相当径を求めても良い。
(相対密度について)
本発明の圧電セラミックスは、前記圧電セラミックスの相対密度が90%以上100%以下であることが好ましい。
相対密度は前記圧電セラミックスの格子定数と前記圧電セラミックスの構成元素の原子量から算出した理論密度に対しての実測した密度の割合である。格子定数は、例えば、X線回折分析により測定することができる。密度は、例えば、アルキメデス法で測定することができる。
相対密度が90%より小さくなると、圧電特性や機械的品質係数が充分でなかったり、機械的強度が低下したりする恐れがある。
より好ましい相対密度の下限は93%以上である。さらに好ましい相対密度の下限は95%以上である。
本発明に係る圧電セラミックスの製造方法は、少なくともBa、Ca、Ti、Sn、Mnを含有する成形体を焼結する工程を有し、前記焼結の温度が1200℃以下であることを特徴とする。
(本願発明の圧電セラミックスの製造方法)
以下本願発明の圧電セラミックスの製造方法を述べる。
(圧電セラミックスの原料)
圧電セラミックスを製造する場合は、構成元素を含んだ酸化物、炭酸塩、硝酸塩、蓚酸塩などの固体粉末を常圧化で焼結する一般的な手法を採用することができる。原料としては、Ba化合物、Ca化合物、Ti化合物、Sn化合物、Zr化合物、Mn化合物、Cu化合物、B化合物とSi化合物といった金属化合物から構成される。
使用可能なBa化合物としては、酸化バリウム、炭酸バリウム、蓚酸バリウム、酢酸バリウム、硝酸バリウム、チタン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウムなどが挙げられる。
使用可能なCa化合物としては、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、蓚酸カルシウム、酢酸カルシウム、チタン酸カルシウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なTi化合物としては、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、チタン酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なZr化合物としては、酸化ジルコニウム、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なSn化合物としては、酸化スズ、スズ酸バリウム、チタン酸スズ酸バリウム、スズ酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なMn化合物としては、炭酸マンガン、酸化マンガン、二酸化マンガン、酢酸マンガン、四酸化三マンガンなどが挙げられる。
使用可能なCu化合物としては、酸化銅(I)、酸化銅(II)、炭酸銅、酢酸銅(II)、蓚酸銅などが挙げられる。
使用可能なB化合物としては、酸化ホウ素などが挙げられる。
使用可能なSi化合物としては、酸化ケイ素などが挙げられる。
また、本発明に係る前記圧電セラミックスのAサイトにおけるBaとCaの存在量とBサイトにおけるTi、SnとZrのモル量の比を示すaを調整するための原料は特に限定されない。Ba化合物、Ca化合物、Ti化合物、Sn化合物、Zr化合物のいずれでも効果は同じである。
(造粒粉と成形体)
前記成形体とは前記固体粉末を成形した固形物である。成形方法としては、一軸加圧加工、冷間静水圧加工、温間静水圧加工、鋳込成形と押し出し成形を挙げることができる。成形体を作製する際には、造粒粉を用いることが好ましい。造粒粉を用いた成形体を焼結すると、焼結体の結晶粒の大きさの分布が均一になり易いという利点がある。また、焼結体の密度を上げるという観点で、前記成形体にはCu、BおよびSiから選ばれる少なくとも1種を含む第2副成分を含むことが好ましい。
本発明に係る圧電セラミックスの原料粉を造粒する方法は特に限定されないが、造粒粉の粒径をより均一にできるという観点において、最も好ましい造粒方法はスプレードライ法である。
造粒する際に使用可能なバインダーの例としては、PVA(ポリビニルアルコール)、PVB(ポリビニルブチラール)、アクリル系樹脂が挙げられる。添加するバインダーの量は、前記圧電セラミックスの原料粉100重量部に対して1重量部から10重量部が好ましく、成形体の密度が上がるという観点において2重量部から5重量部がより好ましい。
(焼結)
前記成形体の焼結方法は特に限定されない。
焼結方法の例としては、電気炉による焼結、ガス炉による焼結、通電加熱法、マイクロ波焼結法、ミリ波焼結法、HIP(熱間等方圧プレス)などが挙げられる。電気炉およびガス炉による焼結は、連続炉であってもバッチ炉であっても構わない。
前記焼結方法におけるセラミックスの焼結温度は1200℃以下である。焼結温度を1200℃以下とすることで、均質な圧電セラミックスが得られる。焼結温度が1200℃を超えると第2副成分が凝集して機械的強度に悪影響を及ぼす恐れがある。焼結温度の下限は特に限定されないが、各化合物が反応し、充分に結晶成長する温度であることが好ましい。好ましい焼結温度としては、セラミックスの粒径を1μmから10μmの範囲にするという観点で、1000℃以上1200℃以下であり、より好ましくは1100℃以上1200℃以下である。上記温度範囲において焼結した圧電セラミックスは良好な圧電性能を示す。
焼結処理により得られる圧電セラミックスの特性を再現よく安定させるためには、焼結温度を上記範囲内で一定にして2時間以上24時間以下の焼結処理を行うとよい。また、二段階焼結法などの焼結方法を用いてもよい。
焼結処理により得られた圧電セラミックスを研磨加工した後に、1000℃以上の温度で熱処理することが好ましい。機械的に研磨加工されると、圧電セラミックスの内部には残留応力が発生するが、1000℃以上で熱処理することにより、残留応力が緩和し、圧電セラミックスの圧電特性がさらに良好になる。また、粒界部分に析出した炭酸バリウムなどの原料粉を排除する効果もある。熱処理の時間は特に限定されないが、1時間以上が好ましい。
(電極について)
図1は本発明の圧電素子の構成の一実施形態を示す概略図である。本発明に係る圧電素子は、第一の電極1、圧電セラミックス2および第二の電極3を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電セラミックス2が本発明の圧電セラミックスであることを特徴とする。
本発明に係る圧電セラミックス2は、少なくとも第一の電極1と第二の電極3を有する圧電素子にすることにより、その圧電特性を評価できる。前記第一の電極1および第二の電極3は、厚み5nmから2000nm程度の導電層よりなる。その材料は特に限定されず、圧電素子に通常用いられているものであればよい。例えば、Ti、Pt、Ta、Ir、Sr、In、Sn、Au、Al、Fe、Cr、Ni、Pd、Ag、Cuなどの金属およびこれらの化合物を挙げることができる。
前記第一の電極1および第二の電極3は、これらのうちの1種からなるものであっても、あるいはこれらの2種以上を積層してなるものであってもよい。また、第一の電極1と第二の電極3が、それぞれ異なる材料であっても良い。
前記第一の電極1と第二の電極3の製造方法は限定されず、金属ペーストの焼き付けにより形成しても良いし、スパッタ、蒸着法などにより形成してもよい。また第一の電極1と第二の電極3とも所望の形状にパターニングして用いても良い。
(分極処理について)
前記圧電素子は一定方向に分極軸が揃っているものであると、より好ましい。分極軸が一定方向に揃っていることで前記圧電素子の圧電定数は大きくなる。
前記圧電素子の分極方法は特に限定されない。分極処理は大気中で行ってもよいし、シリコーンオイル中で行ってもよい。分極をする際の温度は60℃から150℃の温度が好ましいが、素子を構成する圧電セラミックスの組成によって最適な条件は多少異なる。分極処理をするために印加する電界は800V/mmから2.0kV/mmが好ましい。
(圧電定数および機械的品質係数の測定)
前記圧電素子の圧電定数および機械的品質係数は、市販のインピーダンスアナライザーを用いて得られる共振周波数及び反共振周波数の測定結果から、日本電子材料工業会標準規格(EMAS−6100)に基づいて、計算により求めることができる。以下、この方法を共振−反共振法と呼ぶ。
次に、本発明の圧電セラミックスを用いた積層圧電素子について説明する。
(積層圧電素子の構造)
本発明に係る積層圧電素子は、圧電セラミックスと、内部電極を含む電極とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電セラミックスが本発明の圧電セラミックスよりなることを特徴とする。
図2は本発明の積層圧電素子の構成の一実施形態を示す断面概略図である。本発明に係る積層圧電素子は、圧電セラミックス層54と、内部電極55を含む電極とで構成されており、これらが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電セラミックス層54が上記の圧電セラミックスよりなることを特徴とする。電極は、内部電極55以外に第一の電極51や第二の電極53といった外部電極を含んでいても良い。
図2(a)は2層の圧電セラミックス層54と1層の内部電極55が交互に積層され、その積層構造体を第一の電極51と第二の電極53で狭持した本発明の積層圧電素子の構成を示しているが、図2(b)のように圧電セラミックス層と内部電極の数を増やしてもよく、その層数に限定はない。図2(b)の積層圧電素子は、9層の圧電セラミックス層504と8層の内部電極505が交互に積層され、その積層構造体を第一の電極501と第二の電極503で挟持した構成であり、交互に形成された内部電極を短絡するための外部電極506aおよび外部電極506bを有する。
内部電極505および外部電極506a、506bの大きさや形状は必ずしも圧電セラミックス層504と同一である必要はなく、また複数に分割されていてもよい。
内部電極55、505および外部電極506a、506bおよび第一の電極51、501およびは第二の電極53、503は、厚み5nmから2000nm程度の導電層よりなる。その材料は特に限定されず、圧電素子に通常用いられているものであればよい。例えば、Ti、Pt、Ta、Ir、Sr、In、Sn、Au、Al、Fe、Cr、Ni、Pd、Ag、Cuなどの金属およびこれらの化合物を挙げることができる。内部電極5および外部電極は、これらのうちの1種からなるものであっても2種以上の混合物あるいは合金であってもよく、あるいはこれらの2種以上を積層してなるものであってもよい。また複数の電極が、それぞれ異なる材料であっても良い。
本発明の積層圧電素子は、内部電極55、505がAgとPdを含み、前記Agの含有重量M1と前記Pdの含有重量M2との重量比M1/M2が0.25≦M1/M2≦4.0であることが好ましい。より好ましくは0.3≦M1/M2≦3.0である。前記重量比M1/M2が0.25未満であると内部電極の焼結温度が高くなるので望ましくない。一方で、前記重量比M1/M2が4.0よりも大きくなると、内部電極が島状になるために面内で不均一になるので望ましくない。
図2(b)に示すように、内部電極505を含む複数の電極は、駆動電圧の位相をそろえる目的で互いに短絡させても良い。例えば、内部電極505aと第一の電極501を外部電極506aで短絡させても良い。内部電極505bと第二の電極503を外部電極506bで短絡させても良い。内部電極505aと内部電極505bは交互に配置されていても良い。また電極どうしの短絡の形態は限定されない。積層圧電素子の側面に短絡のための電極や配線を設けてもよいし、圧電セラミックス層504を貫通するスルーホールを設け、その内側に導電材料を設けて電極どうしを短絡させてもよい。
(積層圧電素子の製造方法)
次に、本発明の圧電セラミックスを用いた積層圧電素子の製造方法について説明する。
本発明に係る積層圧電素子の製造方法は、少なくともBa、Ca、Ti、SnおよびMnを含んだ金属化合物粉体を分散させてスラリーを得る工程(A)と、前記スラリーから成形体を得る工程(B)と、前記成形体に電極を形成する工程(C)と前記金属化合物を含む成形体と電極とが交互に積層された成形体を焼結して、積層圧電素子を得る工程(D)とを有し、前記工程(D)における焼結温度が1200℃以下であることを特徴とする。前記金属酸化物粉体はZrを含んでいても良い。本明細書における粉体とは、固形粒子の集合体を意図している。Ba、Ca、Ti、Sn、Zr、Mnを同時に含んだ粒子の集合体であっても良いし、任意の元素を含んだ複数種類の粒子の集合体であっても良い。
前記工程(A)における金属化合物粉体としては、Ba化合物、Ca化合物、Ti化合物、Sn化合物、Zr化合物、Mn化合物、Cu化合物、B化合物およびSi化合物をあげることができる。使用可能なBa化合物としては、酸化バリウム、炭酸バリウム、蓚酸バリウム、酢酸バリウム、硝酸バリウム、チタン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウムなどが挙げられる。
使用可能なCa化合物としては、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、蓚酸カルシウム、酢酸カルシウム、チタン酸カルシウム、ジルコン酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なTi化合物としては、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、チタン酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なZr化合物としては、酸化ジルコニウム、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なSn化合物としては、酸化スズ、スズ酸バリウム、チタン酸スズ酸バリウム、スズ酸カルシウムなどが挙げられる。
使用可能なMn化合物としては、炭酸マンガン、酸化マンガン、二酸化マンガン、酢酸マンガン、四酸化三マンガンなどが挙げられる。
使用可能なCu化合物としては、酸化銅(I)、酸化銅II)、炭酸銅、酢酸銅(II)、蓚酸銅などが挙げられる。
使用可能なB化合物としては、酸化ホウ素などが挙げられる。
使用可能なSi化合物としては、酸化ケイ素などが挙げられる。
前記工程(A)におけるスラリーの作成方法を例示する。前記金属化合物粉の1.6〜1.7倍の重量の溶媒を加え、混合する。溶媒には、例えば、トルエン、エタノール、または、トルエンとエタノールの混合溶媒、酢酸n−ブチル、水を用いることができる。ボールミルで24時間混合した後にバインダーと可塑剤を加える。バインダーとしてはPVA(ポリビニルアルコール)、PVB(ポリビニルブチラール)、アクリル系樹脂が挙げられる。バインダーにPVBを用いる場合、溶媒とPVBの重量比は例えば88:12となるように秤量する。可塑剤としてはジオクチルセバケート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレートが挙げられる。可塑剤にジブチルフタレートを用いる場合、バインダーと等重量を秤量する。そして、再度ボールミルを一晩行う。スラリーの粘度が、300〜500mPa・sとなるように溶媒やバインダーの量を調整する。
前記工程(B)における成形体とは、前記金属化合物粉、バインダーと可塑剤のシート形状の混合物である。前記工程(B)における成形体を得る方法としては、例えば、シート成形がある。シート成形には、例えば、ドクターブレード法を用いることができる。ドクターブレード法とは、ドクターブレードを用いて、前記スラリーを基材上に塗布し、乾燥させることで、シート形状の成形体を形成する方法である。前記基材としては、例えば、ペットフィルムを用いることができる。ペットフィルムのスラリーを設置する面には例えばフッ素コートすると成形体を剥離するのが容易になるので望ましい。乾燥は自然乾燥でも熱風乾燥でもよい。前記成形体の厚みは特に制限されることはなく、積層圧電素子の厚みに合わせて調整することができる。成形体の厚みは例えばスラリーの粘度を高くすると厚くすることができる。
前記工程(C)における電極すなわち内部電極505および外部電極506a、506bの製造方法は限定されず、金属ペーストの焼き付けにより形成しても良いし、スパッタ、蒸着法、印刷法などにより形成してもよい。駆動電圧を小さくする目的で、圧電セラミックス層504の層厚およびピッチ間隔を小さくすることがある。その際には圧電セラミックス層504の前駆体と内部電極505を含む積層体を形成した後に、前記積層体を同時に焼成するプロセスが選択される。その場合には、圧電セラミックス層504の焼結に必要な温度により形状変化や導電性劣化を起こさないような内部電極の素材が求められる。本発明の圧電セラミックスの焼結温度は1100から1200℃と従来のチタン酸バリウム系圧電セラミックスより低温である。そのため、Ag、Pd、Au、Cu、NiといったPtと比べて低融点かつ低コストである金属又はその合金を内部電極505および外部電極506a、506bに用いることができる。ただし、外部電極506a、506bは、前記積層体の焼成後に設けても良く、その場合はAg、Pd、Cu、Niに加え、Alや炭素系電極材料を使用する事ができる。
前記電極の形成方法としてはスクリーン印刷法が望ましい。スクリーン印刷法とは基材上に設置された成形体上に、スクリーン版を設置した上から、ヘラを用いて、金属ペーストを塗布する方法である。前記スクリーン版には少なくとも一部にスクリーンメッシュが形成されている。よって、前記スクリーンメッシュの形成されている部分の金属ペーストが成形体上に塗布される。前記スクリーン版中のスクリーンメッシュは、パターンが形成されていていることが望ましい。金属ペーストを用いて前記パターンを前記成形体に転写することで、前記成形体上に電極をパターニングすることができる。
前記工程(C)における電極を形成後、前記基材から剥離した後に、前記成形体を一枚または複数枚積み重ね圧着する。圧着方法としては、一軸加圧加工、冷間静水圧加工と温間静水圧加工が挙げられる。温間静水圧加工は等方的に均一に圧力をかけることができるので、望ましい。圧着中にバインダーのガラス転移点温度近傍まで加熱するとより良好に圧着できるので望ましい。前記成形体は所望の厚さになるまで複数枚積みかさねて圧着することができる。例えば、前記成形体を10〜100層積み重ねた後に、50〜80℃で10〜60MPaの圧力を積層方向に10秒から10分かけて熱圧着することで、前記成形体を積層することができる。また、電極にアライメントマークを付けることで、複数枚の成形体をアライメントして精度よく積み重ねることができる。もちろん、位置決め用のスルーホールを成形体に設けることでも精度よく積み重ねることができる。
前記工程(D)において、焼結温度が1200℃以下であると、Ag、Pd、Au、Cu、NiといったPtと比べて低融点で低コストである金属又はその合金を用いることができるので好適である。
本発明に係る積層圧電素子の製造方法は、前記スラリーがBaおよびCaの少なくとも一方と、TiおよびSnの少なくとも一方を含むペロブスカイト型金属酸化物を含むことが好ましい。前記ペロブスカイト型金属酸化物としては、例えば、チタン酸バリウム、スズ酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、チタン酸スズ酸バリウム、チタン酸カルシウム、スズ酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸カルシウム、チタン酸スズ酸カルシウムなどが挙げられる。前記スラリーはZrを含んでいても良く、その場合はペロブスカイト型金属酸化物としてジルコン酸バリウムやジルコン酸カルシウムを用いる事が出来る。
前記スラリーが前記ペロブスカイト型金属酸化物を含むことで、粒成長が促進されるため、密度が上がるので好適である。
(液体吐出ヘッド)
本発明に係る液体吐出ヘッドは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動部を備えた液室、前記液室と連通する吐出口を少なくとも有することを特徴とする。
図3は、本発明の液体吐出ヘッドの構成の一実施態様を示す概略図である。図3(a)(b)に示すように、本発明の液体吐出ヘッドは、本発明の圧電素子101を有する液体吐出ヘッドである。圧電素子101は、第一の電極1011、圧電セラミックス1012、第二の電極1013を少なくとも有する圧電素子である。圧電セラミックス1012は、図3(b)の如く、必要に応じてパターニングされている。
図3(b)は液体吐出ヘッドの模式図である。液体吐出ヘッドは、吐出口105、個別液室102、個別液室102と吐出口105をつなぐ連通孔106、液室隔壁104、共通液室107、振動板103、圧電素子101を有する。図において圧電素子101は矩形状だが、その形状は、楕円形、円形、平行四辺形等の矩形以外でも良い。一般に、圧電セラミックス1012は個別液室102の形状に沿った形状となる。
本発明の液体吐出ヘッドに含まれる圧電素子101の近傍を図3(a)で詳細に説明する。図3(a)は、図3(b)に示された圧電素子の幅方向での断面図である。圧電素子101の断面形状は矩形で表示されているが、台形や逆台形でもよい。
図中では、第一の電極1011が下部電極、第二の電極1013が上部電極として使用されている。しかし、第一の電極1011と、第二の電極1013の配置はこの限りではない。例えば、第一の電極1011を下部電極として使用しても良いし、上部電極として使用しても良い。同じく、第二の電極1013を上部電極として使用しても良いし、下部電極として使用しても良い。また、振動板103と下部電極の間にバッファ層108が存在しても良い。なお、これらの名称の違いはデバイスの製造方法によるものであり、いずれの場合でも本発明の効果は得られる。
前記液体吐出ヘッドにおいては、振動板103が圧電セラミックス1012の伸縮によって上下に変動し、個別液室102の液体に圧力を加える。その結果、吐出口105より液体が吐出される。本発明の液体吐出ヘッドは、プリンタ用途や電子デバイスの製造に用いる事が出来る。
振動板103の厚みは、1.0μm以上15μm以下であり、好ましくは1.5μm以上8μm以下である。振動板の材料は限定されないが、好ましくはSiである。振動板のSiにホウ素やリンがドープされていても良い。また、振動板上のバッファ層、電極が振動板の一部となっても良い。バッファ層108の厚みは、5nm以上300nm以下であり、好ましくは10nm以上200nm以下である。吐出口105の大きさは、円相当径で5μm以上40μm以下である。吐出口105の形状は、円形であっても良いし、星型や角型状、三角形状でも良い。
(液体吐出装置)
次に、本発明の液体吐出装置について説明する。本発明の液体吐出装置は、記録媒体の搬送部と前記液体吐出ヘッドを備えたことを特徴とする。
本発明の液体吐出装置の一例として、図4および図5に示すインクジェット記録装置を挙げることができる。図4に示す液体吐出装置(インクジェット記録装置)881の外装882〜885及び887を外した状態を図5に示す。インクジェット記録装置881は、記録媒体としての記録紙を装置本体896内へ自動給送する自動給送部897を有する。更に、自動給送部897から送られる記録紙を所定の記録位置へ導き、記録位置から排出口898へ導く搬送部899と、記録位置に搬送された記録紙に記録を行う記録部891と、記録部891に対する回復処理を行う回復部890とを有する。記録部891には、本発明の液体吐出ヘッドを収納し、レール上を往復移送されるキャリッジ892が備えられる。
このようなインクジェット記録装置において、コンピューターから送出される電気信号によりキャリッジ892がレール上を移送され、圧電セラミックスを挟持する電極に駆動電圧が印加されると圧電セラミックスが変位する。この圧電セラミックスの変位により、図3(b)に示す振動板103を介して個別液室102を加圧し、インクを吐出口105から吐出させて、印字を行う。
本発明の液体吐出装置においては、均一に高速度で液体を吐出させることができ、装置の小型化を図ることができる。
上記例は、プリンタとして例示したが、本発明の液体吐出装置は、ファクシミリや複合機、複写機などのインクジェット記録装置の他、産業用液体吐出装置として使用することができる。
(超音波モータ)
本発明に係る超音波モータは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動体、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有することを特徴とする。
図6は、本発明の超音波モータの構成の一実施態様を示す概略図である。本発明の圧電素子が単板からなる超音波モータを、図6(a)に示す。超音波モータは、振動子201、振動子201の摺動面に不図示の加圧バネによる加圧力で接触しているロータ202、ロータ202と一体的に設けられた出力軸203を有する。前記振動子201は、金属の弾性体リング2011、本発明の圧電素子2012、圧電素子2012を弾性体リング2011に接着する有機系接着剤2013(エポキシ系、シアノアクリレート系など)で構成される。本発明の圧電素子2012は、不図示の第一の電極と第二の電極によって挟まれた圧電セラミックスで構成される。
本発明の圧電素子に位相がπ/4の奇数倍異なる二相の交番電圧を印加すると、振動子201に屈曲進行波が発生し、振動子201の摺動面上の各点は楕円運動をする。この振動子201の摺動面にロータ202が圧接されていると、ロータ202は振動子201から摩擦力を受け、屈曲進行波とは逆の方向へ回転する。不図示の被駆動体は、出力軸203と接合されており、ロータ202の回転力で駆動される。
圧電セラミックスに電圧を印加すると、圧電横効果によって圧電セラミックスは伸縮する。金属などの弾性体が圧電素子に接合している場合、弾性体は圧電セラミックスの伸縮によって曲げられる。ここで説明された種類の超音波モータは、この原理を利用したものである。
次に、積層構造を有した圧電素子を含む超音波モータを図6(b)に例示する。振動子204は、筒状の金属弾性体2041に挟まれた積層圧電素子2042よりなる。積層圧電素子2042は、不図示の複数の積層された圧電セラミックスにより構成される素子であり、積層外面に第一の電極と第二の電極、積層内面に内部電極を有する。金属弾性体2041はボルトによって締結され、圧電素子2042を挟持固定し、振動子204となる。
圧電素子2042に位相の異なる交番電圧を印加することにより、振動子204は互いに直交する2つの振動を励起する。この二つの振動は合成され、振動子204の先端部を駆動するための円振動を形成する。なお、振動子204の上部にはくびれた周溝が形成され、駆動のための振動の変位を大きくしている。
ロータ205は、加圧用のバネ206により振動子204と加圧接触し、駆動のための摩擦力を得る。ロータ205はベアリングによって回転可能に支持されている。
(光学機器)
次に、本発明の光学機器について説明する。本発明の光学機器は、駆動部に前記超音波モータを備えたことを特徴とする。
図7は、本発明の撮像装置の好適な実施形態の一例である一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒の主要断面図である。また、図8は本発明の撮像装置の好適な実施形態の一例である一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒の分解斜視図である。カメラとの着脱マウント711には、固定筒712と、直進案内筒713、前群鏡筒714が固定されている。これらは交換レンズ鏡筒の固定部材である。
直進案内筒713には、フォーカスレンズ702用の光軸方向の直進案内溝713aが形成されている。フォーカスレンズ702を保持した後群鏡筒716には、径方向外方に突出するカムローラ717a、717bが軸ビス718により固定されており、このカムローラ717aがこの直進案内溝713aに嵌まっている。
直進案内筒713の内周には、カム環715が回動自在に嵌まっている。直進案内筒713とカム環715とは、カム環715に固定されたローラ719が、直進案内筒713の周溝713bに嵌まることで、光軸方向への相対移動が規制されている。このカム環715には、フォーカスレンズ702用のカム溝715aが形成されていて、カム溝715aには、前述のカムローラ717bが同時に嵌まっている。
固定筒712の外周側にはボールレース727により固定筒712に対して定位置回転可能に保持された回転伝達環720が配置されている。回転伝達環720には、回転伝達環720から放射状に延びた軸720fにコロ722が回転自由に保持されており、このコロ722の径大部722aがマニュアルフォーカス環724のマウント側端面724bと接触している。またコロ722の径小部722bは接合部材729と接触している。コロ722は回転伝達環720の外周に等間隔に6つ配置されており、それぞれのコロが上記の関係で構成されている。
マニュアルフォーカス環724の内径部には低摩擦シート(ワッシャ部材)733が配置され、この低摩擦シートが固定筒712のマウント側端面712aとマニュアルフォーカス環724の前側端面724aとの間に挟持されている。また、低摩擦シート733の外径面はリング状とされマニュアルフォーカス環724の内径724cと径嵌合しており、更にマニュアルフォーカス環724の内径724cは固定筒712の外径部712bと径嵌合している。低摩擦シート733は、マニュアルフォーカス環724が固定筒712に対して光軸周りに相対回転する構成の回転環機構における摩擦を軽減する役割を果たす。
なお、コロ722の径大部722aとマニュアルフォーカス環724のマウント側端面724bとは、波ワッシャ726が超音波モータ725をレンズ前方に押圧する力により、加圧力が付与された状態で接触している。また同じく、波ワッシャ726が超音波モータ725をレンズ前方に押圧する力により、コロ722の径小部722bと接合部材729の間も適度な加圧力が付与された状態で接触している。波ワッシャ726は、固定筒712に対してバヨネット結合したワッシャ732によりマウント方向への移動を規制されており、波ワッシャ726が発生するバネ力(付勢力)は、超音波モータ725、更にはコロ722に伝わり、マニュアルフォーカス環724が固定筒712のマウント側端面712aを押し付け力ともなる。つまり、マニュアルフォーカス環724は、低摩擦シート733を介して固定筒712のマウント側端面712aに押し付けられた状態で組み込まれている。
従って、不図示の制御部により超音波モータ725が固定筒712に対して回転駆動されると、接合部材729がコロ722の径小部722bと摩擦接触しているため、コロ722が軸720f中心周りに回転する。コロ722が軸720f回りに回転すると、結果として回転伝達環720が光軸周りに回転する(オートフォーカス動作)。
また、不図示のマニュアル操作入力部からマニュアルフォーカス環724に光軸周りの回転力が与えられると、マニュアルフォーカス環724のマウント側端面724bがコロ722の径大部722aと加圧接触しているため、摩擦力によりコロ722が軸720f周りに回転する。コロ722の径大部722aが軸720f周りに回転すると、回転伝達環720が光軸周りに回転する。このとき超音波モータ725は、ロータ725cとステータ725bの摩擦保持力により回転しないようになっている(マニュアルフォーカス動作)。
回転伝達環720には、フォーカスキー728が2つ互いに対向する位置に取り付けられており、フォーカスキー728がカム環715の先端に設けられた切り欠き部715bと嵌合している。従って、オートフォーカス動作或いはマニュアルフォーカス動作が行われて、回転伝達環720が光軸周りに回転させられると、その回転力がフォーカスキー728を介してカム環715に伝達される。カム環が光軸周りに回転させられると、カムローラ717aと直進案内溝713aにより回転規制された後群鏡筒716が、カムローラ717bによってカム環715のカム溝715aに沿って進退する。これにより、フォーカスレンズ702が駆動され、フォーカス動作が行われる。
ここで本発明の光学機器として、一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒について説明したが、コンパクトカメラ、電子スチルカメラ等、カメラの種類を問わず、駆動部に超音波モータを有する光学機器に適用することができる。
(振動装置及び塵埃除去装置)
粒子、粉体、液体の搬送、除去等で利用される振動装置は、電子機器等で広く使用されている。
以下では、本発明の圧電素子、もしくは積層圧電素子を配した振動体を有する振動装置の一つの例として、塵埃除去装置について説明する。
本発明に係る塵埃除去装置は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動体を少なくとも有することを特徴とする。
図9(a)および図9(b)は本発明の塵埃除去装置の一実施態様を示す概略図である。塵埃除去装置310は板状の圧電素子330と振動板320より構成される。圧電素子330は、本発明の積層圧電素子であっても良い。振動板320の材質は限定されないが、塵埃除去装置310を光学デバイスに用いる場合には透光性材料や光反射性材料を振動板320として用いることができる。
図10は図9における圧電素子330の構成を示す概略図である。図10(a)と(c)は圧電素子330の表裏面の構成、図10(b)は側面の構成を示している。圧電素子330は図10(a)−10(c)に示すように圧電セラミックス331と第1の電極332と第2の電極333より構成され、第1の電極332と第2の電極333は圧電セラミックス331の板面に対向して配置されている。図9と同様に圧電素子330は、本発明の積層圧電素子であっても良い。その場合、圧電セラミックス331は圧電セラミックスと内部電極の交互構造をとり、内部電極を交互に第一の電極332または第二の電極333と短絡させることにより、圧電セラミックスの層ごとに位相の異なる駆動波形を与える事が出来る。図10(c)において圧電素子330の手前に出ている第1の電極332が設置された面を第1の電極面336、図10(a)において圧電素子330の手前に出ている第2の電極333が設置された面を第2の電極面337とする。
ここで、本発明における電極面とは電極が設置されている圧電素子の面を指しており、例えば図10に示すように第1の電極332が第2の電極面337に回りこんでいても良い。
圧電素子330と振動板320は、図9(a)(b)に示すように圧電素子330の第1の電極面336で振動板320の板面に固着される。そして圧電素子330の駆動により圧電素子330と振動板320との間に応力が発生し、振動板に面外振動を発生させる。本発明の塵埃除去装置310は、この振動板320の面外振動により振動板320の表面に付着した塵埃等の異物を除去する装置である。面外振動とは、振動板を光軸方向つまり振動板の厚さ方向に変位させる弾性振動を意味する。
図11は本発明の塵埃除去装置310の振動原理を示す模式図である。上図は左右一対の圧電素子330に同位相の交番電界を印加して、振動板320に面外振動を発生させた状態を表している。左右一対の圧電素子330を構成する圧電セラミックスの分極方向は圧電素子330の厚さ方向と同一であり、塵埃除去装置310は7次の振動モードで駆動している。下図は左右一対の圧電素子330に位相が180°反対である逆位相の交番電圧を印加して、振動板320に面外振動を発生させた状態を表している。塵埃除去装置310は6次の振動モードで駆動している。本発明の塵埃除去装置310は少なくとも2つの振動モードを使い分けることで振動板の表面に付着した塵埃を効果的に除去できる装置である。
(撮像装置)
次に、本発明の撮像装置について説明する。本発明の撮像装置は、前記塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動部材を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けた事を特徴とする。図12および図13は本発明の撮像装置の好適な実施形態の一例であるデジタル一眼レフカメラを示す図である。
図12は、カメラ本体601を被写体側より見た正面側斜視図であって、撮影レンズユニットを外した状態を示す。図13は、本発明の塵埃除去装置と撮像ユニット400の周辺構造について説明するためのカメラ内部の概略構成を示す分解斜視図である。
カメラ本体601内には、撮影レンズを通過した撮影光束が導かれるミラーボックス605が設けられており、ミラーボックス605内にメインミラー(クイックリターンミラー)606が配設されている。メインミラー606は、撮影光束をペンタダハミラー(不図示)の方向へ導くために撮影光軸に対して45°の角度に保持される状態と、撮像素子(不図示)の方向へ導くために撮影光束から退避した位置に保持される状態とを取り得る。
カメラ本体の骨格となる本体シャーシ300の被写体側には、被写体側から順にミラーボックス605、シャッタユニット200が配設される。また、本体シャーシ300の撮影者側には、撮像ユニット400が配設される。撮像ユニット400は、撮影レンズユニットが取り付けられる基準となるマウント部602の取付面に撮像素子の撮像面が所定の距離を空けて、且つ平行になるように調整されて設置される。
ここで、本発明の撮像装置として、デジタル一眼レフカメラについて説明したが、例えばミラーボックス605を備えていないミラーレス型のデジタル一眼カメラのような撮影レンズユニット交換式カメラであってもよい。また、撮影レンズユニット交換式のビデオカメラや、複写機、ファクシミリ、スキャナ等の各種の撮像装置もしくは撮像装置を備える電子電気機器のうち、特に光学部品の表面に付着する塵埃の除去が必要な機器にも適用することができる。
(電子機器)
次に、本発明の電子機器について説明する。本発明の電子機器は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を備えた圧電音響部品を配することを特徴とする。圧電音響部品にはスピーカ、ブザー、マイク、表面弾性波(SAW)素子が含まれる。
図14は本発明の電子機器の好適な実施形態の一例であるデジタルカメラの本体931の前方から見た全体斜視図である。本体931の前面には光学装置901、マイク914、ストロボ発光部909、補助光部916が配置されている。マイク914は本体内部に組み込まれているため、破線で示している。マイク914の前方には外部からの音を拾うための穴形状が設けられている。
本体931上面には電源ボタン933、スピーカ912、ズームレバー932、合焦動作を実行するためのレリーズボタン908が配置される。スピーカ912は本体931内部に組み込まれており、破線で示してある。スピーカ912の前方には音声を外部へ伝えるための穴形状が設けられている。
本発明の圧電音響部品は、マイク914、スピーカ912、また表面弾性波素子、の少なくとも一つに用いられる。
ここで、本発明の電子機器としてデジタルカメラについて説明したが、本発明の電子機器は、音声再生機器、音声録音機器、携帯電話、情報端末等各種の圧電音響部品を有する電子機器にも適用することができる。
前述したように本発明の圧電素子および積層圧電素子は、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置および電子機器に好適に用いられる。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上のノズル密度、および吐出力を有する液体吐出ヘッドを提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の吐出速度および吐出精度を有する液体吐出装置を提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の駆動力、および耐久性を有する超音波モータを提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の耐久性および動作精度を有する光学機器を提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の振動能力、および耐久性を有する振動装置を提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の塵埃除去効率を有する塵埃除去装置を提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の塵埃除去機能を有する撮像装置を提供出来る。
本発明の非鉛圧電セラミックスを備えた圧電音響部品を用いることで、鉛を含む圧電セラミックスを用いた場合と同等以上の発音性を有する電子機器を提供出来る。
本発明の圧電セラミックスは、液体吐出ヘッド、モータに加え、超音波振動子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、強誘電メモリ等のデバイスに用いることができる。
以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例により限定されるものではない。
以下のように本発明の圧電セラミックスを作製した。
(圧電セラミックス)
(実施例1)
(Ba1−xCa(Ti1−y−zSnZr)Oの一般式において、x=0.120、y=0.030、z=0、a=1.0111で表わすことができる組成((Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)O)を以下のように秤量した。
チタン酸バリウム、チタン酸カルシウムとスズ酸バリウムをBa、Ca、Ti、Snが組成((Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)O)の比率になるように秤量した。また、AサイトにおけるBaとCaのモル量とBサイトにおけるTiとSnのモル量との比を示すaを調整するために蓚酸バリウムおよび蓚酸カルシウムを用いた。
上記組成((Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)O)の1モルに対して、第1副成分のMnの含有量bモルが0.0121モルとなるように二酸化マンガンを秤量した。
これらの秤量粉は、ボールミルを用いて24時間の乾式混合によって混合した。混合粉100重量部に対して3重量部となるPVAバインダーを、それぞれスプレードライヤー装置を用いて、混合粉表面に付着させた。
次に、得られた造粒粉を金型に充填し、プレス成型機を用いて200MPaの成形圧をかけて円盤状の成形体を作製した。この成形体は冷間等方加圧成型機を用いて、更に加圧しても構わない。
得られた成形体を電気炉に入れ、最高温度Tmaxが1250℃の条件で5時間保持し、合計24時間かけて大気雰囲気で焼結した。
そして、得られたセラミックスを構成する結晶粒の平均円相当径と円相当径が25μm以下である結晶粒の個数パーセント(以下、D25とする。)と相対密度を評価した。その結果、平均円相当径は1.92μm、D25は99.7%、相対密度は97.0%であった。なお、結晶粒の観察には、主に偏光顕微鏡を用いた。小さな結晶粒の粒径を特定する際には、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いた。偏光顕微鏡や走査型電子顕微鏡で撮影して得られた写真画像を画像処理して、平均円相当径とD25を算出した。また、相対密度はアルキメデス法を用いて評価した。
次に、得られたセラミックスを厚さ0.5mmになるように研磨し、X線回折により結晶構造を解析した。その結果、ペロブスカイト構造に相当するピークのみが観察された。
また、蛍光X線分析により組成を評価した。その結果、(Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)Oの化学式で表わすことができる組成の1モルに対してMnが0.0121モル含有されていることが分かった。これは秤量した組成と焼結後の組成が一致していることを意味する。また、Ba、Ca、Ti、SnおよびMn以外の元素は検出限界以下の量であり、0.0001重量部未満であった。
さらに、結晶粒の観察を再度行ったが、研磨前後で、平均円相当径に大きな違いは無かった。
(実施例2から47及び100から112)
実施例1と同様の工程で、実施例2から実施例47及び実施例100から実施例112の圧電セラミックスを作製した。ただし、主成分および第1副成分を表1に示す比率にし、焼結時の最高温度Tmaxを表1に示す条件にした。実施例1の原料に加えてZr原料としてジルコン酸バリウムを用いた。
Figure 2013241326

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実施例1と同様に平均円相当径、D25、相対密度を評価した。その結果を表2に示す。
Figure 2013241326
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実施例1と同様に組成分析を行った。その結果を表3に示す。表中の第3副成分とは、Ba、Ca、Ti、Zr、SnおよびMn以外の元素のことである。下記表で0と記載されている実施例は、その成分が検出限界以下すなわち0.0001重量部未満であることを意味する。これより、いずれのサンプルにおいても秤量した組成と焼結後の組成は一致していることが分かった。
Figure 2013241326

Figure 2013241326
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(比較例1から23及び比較例100から105)
実施例1と同様の工程で、ただし、主成分および第1副成分を表1に示す比率及び焼結時の最高温度Tmaxという条件で比較用のセラミックスを作製した。
実施例1と同様に平均円相当径と相対密度を評価した。その結果を表2に示す。
実施例1と同様に組成分析を行った。その結果を表3に示す。表中の第3副成分とは、Ba、Ca、Ti、Zr、SnおよびMn、以外の元素のことであり、0は検出限界以下、すなわち0.0001重量部未満であることを意味する。これより、いずれのサンプルにおいても秤量した組成と焼結後の組成は一致していることが分かった。
(実施例48)
実施例1と同様に主成分をチタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、ジルコン酸バリウム、スズ酸バリウム、蓚酸バリウム、蓚酸カルシウムを用いてBa、Ca、Ti、Zr、Snが表4に示した比率になるように秤量した。前記主成分1モルに対して、第1副成分のMnが表4に示した比率になるように二酸化マンガンを表量した。前記主成分100重量部に対して、第2副成分として金属換算でSi、Bが表4に示した比率になるように二酸化ケイ素と酸化ホウ素を秤量した。これらの秤量粉を実施例1と同様に混合と造粒を行った。実施例1と同様に表4に示した最高温度Tmaxで焼成した。実施例1と同様に平均円相当径、D25、と相対密度を評価した。結果を表5に示す。実施例1と同様に組成を評価し、結果を表6に示す。
Figure 2013241326

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(実施例49から80及び実施例113から115)
実施例48と同様に表4に示した比率および最高温度Tmaxという条件で圧電セラミックスを作製した。ただし、Cuの原料としては酸化銅(II)を用いた。平均円相当径、D25、と相対密度を評価した。結果を表5に示す。実施例1と同様に組成を評価し、結果を表6に示す。
次に、本発明の圧電素子を作製した。
(圧電素子の作製と特性評価)
(実施例1から80及び実施例100から115)
続いて、実施例1から80及び実施例100から115の圧電セラミックスを用いて圧電素子を作製した。
前記円盤状のセラミックスの表裏両面にDCスパッタリング法により厚さ400nmの金電極を形成した。なお、電極とセラミックスの間には、密着層として30nmのチタンを成膜した。この電極付きのセラミックスを切断加工し、10mm×2.5mm×0.5mmの短冊状圧電素子を作製した。
得られた圧電素子を、ホットプレートの表面を60℃から150℃になるように設定し、前記ホットプレート上で1.4kV/mmの電界を30分間印加し、分極処理した。
以下では、本発明の圧電セラミックス及び比較例に対応する圧電セラミックスを有する圧電素子の特性として、分極処理した圧電素子のキュリー温度、圧電定数d31及び機械的品質係数(Qm)を評価した。その結果を表7に示す。(表中の「相転移点」は、0℃から90℃の間に相転移点が存在しているか否かを調べた結果を表わす。周波数1kHzの微小交流電界を用いて測定温度を0℃から90℃まで変えながら誘電率を測定し極大点があったものを「有」、なかったものを「無」と記載した。)キュリー温度は、周波数1kHzの微小交流電界を用いて測定温度を変えながら誘電率を測定し誘電率が極大を示す温度から求めた。また、圧電定数d31は共振−反共振法によって求め、表中にはその絶対値を記載した。機械的品質係数Qmは共振−反共振法によって求めた。
絶縁性の評価として、抵抗率の測定を行った。抵抗率の測定は、未分極の圧電素子を用いた。圧電素子の2つの電極間に直流10Vのバイアスを印加し、20秒後のリーク電流値より抵抗率を評価した。その結果を表7に示す。
この抵抗率が1×10Ω・cm以上、より好ましくは100×10Ω・cm以上であれば、圧電セラミックス及び圧電素子の実用において十分な絶縁性を有している。
Figure 2013241326

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また、全ての実施例において、電極を銀ペーストの焼き付けに変更しても、金電極と同等の特性であった。
(比較例1から23及び比較例100から105)
次に、比較例1から23及び比較例100から105の比較用のセラミックスを用いて圧電素子を実施例1から80及び実施例100から115と同様の方法で作製した。
素子の評価は実施例1から80及び実施例100から115と同様の方法で行った。その結果を表7に示す。ただし、Xは抵抗率が低すぎてその評価項目が測定できなかったことを示す。
比較例1、2、7、8、13、14、100と101と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとyが0.04よりも大きいとキュリー温度が100℃を大きく下回り、80℃以下であるので適当でないことが分かる。
比較例3、9、15、102と実施例1から80及び実施例100から115に記載の素子の特性を比較すると、xが0.08よりも小さいと相転移点が0〜90℃の間にあるため圧電素子の耐久性が低いので適当でないことが分かる。
比較例4、10、16及び103と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとxが0.20よりも大きいとd31が50 [pm/V]を著しく下回るので適当ではないことが分かる。
比較例5、6、11、12、17、18、104及び105と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとyが0.01よりも小さいとd31が50 [pm/V]を著しく下回るので適当ではないことが分かる。
比較例19と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとzが0.04よりも大きいと焼結温度が高くなるため、相対密度が低下する。その結果、抵抗率が低下し、分極することができないので適当ではないことが分かる。
比較例20と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとaの値が0.9925+bより小さいと異常粒成長が発生し、平均円相当径が10umを大きく上回ることで、機械強度が大幅に低下するため適当でないことが分かる。
比較例21と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとaの値が1.0025+bより大きいと粒成長が抑制されるため、相対密度が低下する。その結果、抵抗率が低下し、分極することができないので適当ではないことが分かる。
比較例22と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとbの値が0.0048より小さいとQmが400を大幅に下回り、駆動時に効率が著しく低下するので適当でないことが分かる。
比較例23と実施例1から80及び実施例100から115を比較するとbの値が0.0400より大きいと、抵抗率が著しく低下する。その結果、分極することができないので適当ではないことが分かる。これは圧電特性に寄与しない異相が発生したためであると考えられる。
実施例1〜47及び実施例100から112と実施例48〜80及び実施例113から115を比較すると第2副成分を含む実施例48〜80及び実施例113から115は抵抗率が80×10Ω・cm以上になるのでより望ましいことが分かる。また、焼成温度が1200℃になるのでさらに望ましいことが分かる。
実施例48〜63、72、及び113と実施例64〜71、73〜80及び114〜115を比較すると第2副成分のSiの含有重量G1とBの含有重量G2との重量比G1/G2が2.0≦G1/G2≦3.8であると絶縁率が100×10Ω・cm以上になるのでさらに好適であることが分かる。
実施例1〜14及び44〜47と実施例15〜43及び100から112を比較するとz=0であると焼結時の最高温度が30℃以上低温にできるのでより望ましいことが分かる。これは、z=0であるので粒成長速度が速くなるためであると考えられる。
(圧電素子の耐久性評価)
次に圧電素子の耐久性を確認するため、実施例1から14、実施例20、実施例33、実施例54、実施例62、実施例63、実施例105、実施例113と比較例1、比較例3、比較例7、比較例9、比較例11、比較例13、比較例15、比較例100、比較例102、比較例104とを恒温槽に入れ、25℃→0℃→50℃→25℃を1サイクルとした温度サイクルを100サイクル繰り返す、サイクル試験を行った。サイクル試験前後の圧電定数d31を評価し、圧電定数の変化率を表8にまとめた。
Figure 2013241326
Figure 2013241326
比較例1、3、7、9、11、13、15、100、102、104は実施例1から14と20、33、54、62、63、105、113と比較して、変化率が−10%を大きく上回るので、耐久性が不足している。よって、適当でないことが分かる。
次に、本発明の積層圧電素子を作製した。
(積層圧電素子)
(実施例81)
(Ba1−xCa(Ti1−y−zSnZr)Oの一般式において、x=0.120、y=0.030、z=0、a=1.0111で表わすことができる組成((Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)O)を以下のように秤量した。
主成分の原料として炭酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化スズをBa、Ca、Ti、Snが上記の組成((Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)O)の比率になるように秤量した。
上記組成(Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)Oの1モルに対して、第1副成分のMnの含有量bモルが0.0121モルとなるように二酸化マンガンを秤量した。
上記組成(Ba0.880Ca0.1201.0111(Ti0.970Sn0.030)Oの100重量部に対して、第2副成分として金属換算でSiを0.0140重量部、Bを0.0066重量部となるように二酸化ケイ素と酸化ホウ素を秤量した。
この秤量粉にPVBを加えて混合した後、ドクターブレード法によりシート形成して厚み50μmのグリーンシートを得た。
上記グリーンシートに内部電極用の導電ペーストを印刷した。導電ペーストには、Ag70%−Pd30%合金(Ag/Pd=2.33)ペーストを用いた。導電ペーストを塗布したグリーンシートを9枚積層して、その積層体を1200℃の条件で5時間焼成して焼結体を得た。このようにして得られた焼結体を10mm×2.5mmの大きさに切断した後にその側面を研磨し、内部電極を交互に短絡させる一対の外部電極(第一の電極と第二の電極)をAuスパッタにより形成し、図2(b)のような積層圧電素子を作製した。
得られた積層圧電素子の内部電極を観察したところ、電極材であるAg−Pdが圧電セラミックスと交互に形成されていた。
圧電性の評価に先立って試料に分極処理を施した。具体的には、試料をホットプレート上で100℃から150℃に加熱し、第一の電極と第二の電極間に1.4kV/mmの電圧を30分間印加し、電圧を印加したままで室温まで冷却した。
得られた積層圧電素子の圧電性を評価したところ、十分な絶縁性を有し、実施例1の圧電セラミックスと同等の良好な圧電特性を得ることができた。
(実施例82)
実施例81と同様に積層圧電素子を作製した。ただし、主成分の原料としてチタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、スズ酸バリウムを用いた。また、AサイトにおけるBaとCaのモル量とBサイトにおけるTiとSnのモル量との比を示すaを調整するために蓚酸バリウムおよび蓚酸カルシウムを用いた。
得られた積層圧電素子の圧電性を評価したところ、十分な絶縁性を有し、実施例81よりも5%以上優れた圧電特性を得ることができた。これは、原料がペロブスカイト型金属酸化物であるので粒成長が促進されたため、緻密になったからと考えられる。
(比較例24)
実施例81と同様の工程で積層圧電素子を作製した。ただし、組成は比較例19と同様で、焼成温度は1300℃で、内部電極はAg95%−Pd5%合金(Ag/Pd=19)である。
内部電極を走査型電子顕微鏡で観察した。その結果、内部電極は溶解し、島状に点在していていた。よって、内部電極が導通していないので分極ができなかった。そのため、圧電定数は測定できなかった。
(比較例25)
比較例24と同様に積層圧電素子を作製した。ただし、内部電極はAg5%−Pd95%合金(Ag/Pd=0.05)である。
内部電極を走査型電子顕微鏡で観察した。電極材であるAg−Pdは焼結が不十分であった。よって、内部電極が導通していないので、分極することができなかった。そのため、圧電定数は測定できなかった。
(比較例26)
比較例24と同様に積層圧電素子を作製した。ただし、内部電極はAg70%−Pd30%合金(Ag/Pd=2.33)である。
内部電極を走査型電子顕微鏡で観察した。電極材であるAg−Pdが圧電セラミックスと交互に形成されていたが、圧電セラミックスが焼結不十分であるために、素子の一対の外部電極間の抵抗率が1×10Ω・cm以下と低かった。よって、分極することができなかったため、圧電定数は測定できなかった。
(実施例83)
実施例1の圧電素子を用いて、図3に示される液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。
(実施例84)
実施例83の液体吐出ヘッドを用いて、図4に示される液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が記録媒体上に確認された。
(実施例85)
実施例1の圧電素子を用いて、図6(a)に示される超音波モータを作製した。交流電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。
(実施例86)
実施例85の超音波モータを用いて、図7に示される光学機器を作製した。交番電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された。
(実施例87)
実施例1の圧電素子を用いて、図9に示される塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交番電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率が確認された。
(実施例88)
実施例87の塵埃除去装置を用いて、図12に示される撮像装置を作製した。動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。
(実施例89)
実施例1の圧電素子を用いて、図14に示される電子機器を作製した。交番電圧の印加に応じたスピーカ動作が確認された。
(実施例90)
実施例81の積層圧電素子を用いて、図3に示される液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。
(実施例91)
実施例90の液体吐出ヘッドを用いて、図4に示される液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が記録媒体上に確認された。
(実施例92)
実施例81の積層圧電素子を用いて、図6(b)に示される超音波モータを作製した。交番電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。
(実施例93)
実施例92の超音波モータを用いて、図7に示される光学機器を作製した。交番電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された
(実施例94)
実施例81の積層圧電素子を用いて、図9に示される塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交流電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率が確認された。

(実施例95)
実施例94の塵埃除去装置を用いて、図12に示される撮像装置を作製した。動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。
(実施例96)
実施例81の積層圧電素子を用いて、図14に示される電子機器を作製した。交番電圧の印加に応じたスピーカ動作が確認された。
本発明の圧電セラミックスは、広い実用温度領域で良好かつ安定な圧電定数と機械的品質係数を有する。また、鉛を含まないために、環境に対する負荷が少ない。よって、本発明の圧電セラミックスは、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置および電子機器などの圧電セラミックスを多く用いる機器にも問題なく利用することができる。
1 第一の電極
2 圧電セラミックス
3 第二の電極
4 圧電セラミックス
5 内部電極
6a 外部電極
6b 外部電極
101 圧電素子
102 個別液室
103 振動板
104 液室隔壁
105 吐出口
106 連通孔
107 共通液室
108 バッファ層
1011 第一の電極
1012 圧電セラミックス
1013 第二の電極
201 振動子
202 ロータ
203 出力軸
204 振動子
205 ロータ
206 バネ
2011 弾性体リング
2012 圧電素子
2013 有機系接着剤
2041 金属弾性体
2042 積層圧電素子
310 塵埃除去装置
330 圧電素子
320 振動板
330 圧電素子
331 圧電セラミックス
332 第1の電極
333 第2の電極
336 第1の電極面
337 第2の電極面
310 塵埃除去装置
320 振動板
330 圧電素子

Claims (19)

  1. 一般式(1)または一般式(2)
    (Ba1−xCa(Ti1−y−zSnZr)O (1)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04、0<z≦0.04)
    (Ba1−xCa(Ti1−ySn)O (2)(0.08≦x≦0.20、0.01≦y≦0.04)
    で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を含む主成分と、Mnよりなる第1副成分とを有する圧電セラミックスであって、前記金属酸化物1モルに対する前記Mnの含有量をbモルとしたときに、0.0048≦b≦0.0400であり、前記aの値が0.9925+b≦a≦1.0025+bであることを特徴とする圧電セラミックス。
  2. 前記一般式(1)においてz=0であることを特徴とする請求項1に記載の圧電セラミックス。
  3. 前記圧電セラミックスが、Cu、BおよびSiから選ばれる少なくとも1種を含む第2副成分を含有しており、前記第2副成分の含有量が、前記金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.001重量部以上4.000重量部以下であることを特徴とする請求項1に記載の圧電セラミックス。
  4. 前記圧電セラミックスを構成する複数の結晶粒の平均円相当径が1μm以上10μm以下であり、かつ円相当径が25μm以下である結晶粒が99個数パーセント以上であることを特徴とする請求項1記載の圧電セラミックス。
  5. 前記圧電セラミックスの相対密度が90%以上100%以下であることを特徴とする請求項1記載の圧電セラミックス。
  6. 請求項1乃至5のいずれかに一項記載の圧電セラミックスの製造方法であって、少なくともBa、Ca、Ti、SnおよびMnを含有する成形体を焼結する工程を有し、前記焼結の温度が1200℃以下であることを特徴とする圧電セラミックスの製造方法。
  7. 第一の電極、圧電セラミックスおよび第二の電極を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電セラミックスが請求項1に記載の圧電セラミックスであることを特徴とする圧電素子。
  8. 圧電セラミックス層と、内部電極を含む電極層とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電セラミックス層が請求項1に記載の圧電セラミックスよりなることを特徴とする積層圧電素子。
  9. 前記内部電極がAgとPdを含み、前記Agの含有重量M1と前記Pdの含有重量M2との重量比M1/M2が0.25≦M1/M2≦4.0であることを特徴とする請求項8に記載の積層圧電素子。
  10. 前記内部電極がNiおよびCuの少なくともいずれか1種を含むことを特徴とする請求項8に記載の積層圧電素子
  11. 請求項8に記載の積層圧電素子の製造方法であって、少なくともBa、Ca、Ti、SnおよびMnを含んだ金属化合物を分散させてスラリーを得る工程(A)と、前記スラリーから成形体を得る工程(B)と、前記成形体に電極を形成する工程(C)と、前記金属化合物を含む成形体と前記電極とが交互に積層された形成された成形体を焼結して、積層圧電素子を得る工程(D)とを有し、前記工程(D)における焼結温度が1200℃以下であることを特徴とする積層圧電素子の製造方法。
  12. 前記スラリーがBaおよびCaの少なくとも一方と、TiおよびSnの少なくとも一方を含むペロブスカイト型金属酸化物を含むことを特徴とする請求項11に記載の積層圧電素子の製造方法。
  13. 請求項7に記載の圧電素子または請求項8に記載の積層圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を少なくとも有する液体吐出ヘッド。
  14. 記録媒体の搬送部と請求項13に記載の液体吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液体吐出装置。
  15. 請求項7に記載の圧電素子または請求項8に記載の積層圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有する超音波モータ。
  16. 請求項7に記載の圧電素子または請求項8に記載の積層圧電素子を配した振動体を有する振動装置。
  17. 請求項16に記載の振動装置を振動部に備えた塵埃除去装置。
  18. 請求項17に記載の塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動部材を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けたことを特徴とする撮像装置。
  19. 請求項7に記載の圧電素子または請求項8に記載の積層圧電素子を備えた圧電音響部品を配したことを特徴とする電子機器。
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