JP2013232541A - 半導体発光素子 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 194
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 190
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 190
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 97
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 626
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 32
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 17
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 16
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 15
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 10
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 4
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 Ta 2 O 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- GSWGDDYIUCWADU-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Mg++].[Al+3] GSWGDDYIUCWADU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- UPGUYPUREGXCCQ-UHFFFAOYSA-N cerium(3+) indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[In+3].[Ce+3] UPGUYPUREGXCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N lithium aluminate Chemical compound [Li+].[O-][Al]=O YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/10—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a light reflecting structure, e.g. semiconductor Bragg reflector
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/40—Materials therefor
- H01L33/405—Reflective materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/40—Materials therefor
- H01L33/42—Transparent materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/44—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
- H01L33/46—Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
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- Power Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
【解決手段】n型半導体層123、発光層124及びp型半導体層125が積層された積層半導体層126と、積層半導体層126のp型半導体層125上に積層され且つ発光層124から出射される光に対して光透過性を示す金属酸化物から構成された透明導電層131と、透明導電層131上に積層され且つ透明導電層131の一部が露出する複数の開口部132hを設けた絶縁反射層132と、絶縁反射層132上と絶縁反射層132の開口部132h内に形成され且つアルミニウムを含む金属から構成された金属反射層133と、少なくとも透明導電層131の開口部132hにおいて露出する部分と金属反射層133の開口部132h内に形成された部分との間に設けられ且つ周期表第6A族及び第8族から選ばれる元素を含む金属コンタクト層137と、を有することを特徴とする半導体発光素子10。
【選択図】図2
Description
しかし、銀(Ag)は他の元素と比較して移動性(migration:マイグレーション)が高く、例えば、GaN電位による欠陥に影響を及ぼし、漏れ電流が発生する場合がある。また、マイグレーション現象を防止するには、例えば、銀(Ag)を含む金属反射膜にバリア層を設ける等の手段が考えられるが、製造工程が煩雑になる等の問題がさらに生じる。
本発明の目的は、半導体発光素子のFC(フリップチップ)実装技術において、金属反射膜の信頼性を向上させることにある。
また、前記金属コンタクト層と前記金属反射層との間に、さらに、アルミニウム又はアルミニウム−ネオジウム合金を含む第1金属層と、タンタル又はニッケルを含む第2金属層と、を有することが好ましい。
さらに、前記金属反射層は、アルミニウム又はアルミニウム−ネオジウム合金を含むことが好ましい。
また、アルミニウムを含む金属から構成された金属反射層と透明導電層との間に、周期表第6A族及び第8族から選ばれる元素を含む金属コンタクト層を設けない場合と比較して、金属反射層の酸化が抑制され、順方向電圧(Vf)の上昇が抑制される。
<半導体発光素子10>
図1は、半導体発光素子の一例である第1の実施の形態を説明する平面模式図である。
図1に示す半導体発光素子10は、正方形の平面形状を有し、中央部分に負極としてのn電極層140が形成されている。n電極層140は、外部との電気的な接続に用いられるn極ボンディング層144の一部が露出している。正極としてのp電極層130は、n電極層140を形成するためにエッチング等の手段により、後述する半導体層120(図2参照)の一部が除去された部分を除き、半導体層120の上面の略全面を覆うように形成されている。p電極層130は、半導体発光素子10の四隅に近接した4個の部分で、外部との電気的な接続に用いられるp極ボンディング層135の一部がそれぞれ露出している。
次に、半導体発光素子10の断面構造を説明する。
図2に示すように、半導体発光素子10は、基板110と、基板110上に積層される半導体層120と、半導体層120上に形成された正極としてのp電極層130及び負極としてのn電極層140とを有している。
p電極層130は、p型半導体層125の上面に形成される。n電極層140は、n型半導体層123の一部を露出させた露出面に形成されている。また、p電極層130とn電極層140には、それぞれ図2において下方側となる面の一部を露出させ、後述するメッキバンプ24,25(図11参照)により外部と電気的に接続する部分がある。
尚、本実施の形態では、n電極層140およびp電極層130の表面は、一部を除き、保護層150により被覆されている。また、保護層150は、p型半導体層125、発光層124およびn型半導体層123の一部の側壁面を覆うように形成されている。
本実施の形態では、p電極層130は、p型半導体層125側から順に、金属酸化物から構成された透明導電層131、絶縁反射層132、絶縁反射層132の開口部132h内に形成された後述する金属コンタクト層137、アルミニウムを含む金属から構成された金属反射層133、p極拡散防止層134(第1p極拡散防止層134a,第2p極拡散防止層134b)、p極ボンディング層135およびp極密着層136が積層されている。
透明導電層131を構成する材料としては、金属酸化物の導電性材料であって、発光層124から出射される波長の光を、少なくとも80%程度透過する材料が用いられる。例えば、In(インジウム)を含む酸化物が挙げられる。具体的には、ITO(酸化インジウム錫(In2O3−SnO2))、IZO(酸化インジウム亜鉛(In2O3−ZnO))、IGO(酸化インジウムガリウム(In2O3−Ga2O3))、ICO(酸化インジウムセリウム(In2O3−CeO2))等が挙げられる。これらの中でも、特に、六方晶構造又はビックスバイト型構造を有するIn2O3結晶を含む透光性材料(例えば、ITO、IZO等)が好ましい。また、六方晶構造のIn2O3結晶を含むIZOを用いる場合、エッチング性に優れたアモルファスのIZO膜を用いて特定形状に加工することができ、さらにその後、熱処理等によりアモルファス状態から結晶を含む構造に転移させ、アモルファスのIZO膜よりも透光性の優れた電極に加工することができる。
透明導電層131のシート抵抗は、製造方法にも依存するものの、膜厚が10nmの時は無限大(∞)であり、膜厚が20nmの時は250Ω/□、膜厚が25nmの時は175Ω/□、膜厚が50nmの時は72Ω/□、膜厚が100nmの時は29Ω/□、膜厚が200nmの時は15Ω/□である。
絶縁反射層132は透明導電層131上に積層され、金属反射層133と組み合わせて、発光層124から出力される光を反射する反射膜としての機能を有している。絶縁反射層132の層構造として、単層構造または多層構造等の例が用いられる。多層構造の絶縁反射層132は、単層構造の絶縁反射層に比べ、反射特性を制御する設計の自由度が大きく、多層構造の絶縁反射層132がより好ましい。
H=AQ (1)
H≧5Q (2)
図3は、絶縁反射層132の層構造の一例を説明する断面模式図である。本実施の形態では、絶縁反射層132は、屈折率が異なる複数の層の積層体である多層構造を有している。多層構造の絶縁反射層132は、第1の屈折率を有する第1の絶縁反射層132aと第1の屈折率より高い第2の屈折率を有する第2の絶縁反射層132bとを、交互に積層して構成されている。特に、本実施の形態では、2つの第1の絶縁反射層132aによって1つの第2の絶縁反射層132bを挟み込む構成を採用している。
図3に示す例では、6層の第1の絶縁反射層132aの間に5層の第2の絶縁反射層132bを挟み込むことにより、合計11層の積層構造を有している。
絶縁反射層132には、透明導電層131の一部が露出するように複数の開口部132hが設けられている。開口部132hは、絶縁反射層132を貫通するように形成され、その中に金属反射層133の一部が形成されている。
平面視における開口部132hの形状は特に限定されず、円形、楕円形、三角形、正方形、長方形、台形、五角形その他の多辺形(星形を含む)、楔形等が挙げられる。開口部132hの面積は特に限定されず、さらに、複数の開口部132hのそれぞれの面積は、同一または異なる場合も含まれる。
絶縁反射層132全体の面積に対し複数の開口部132hの面積の総和が占める割合(占有面積率)は、2%〜50%の範囲より選択される。また、好ましくは、2%〜7%の範囲より選択される。図1及び図2においては、占有面積率は5%である。
本実施の形態においては、絶縁反射層132に複数の開口部132hを設け、その中に金属反射層133の一部及び後述する金属コンタクト層137を含む導体部を形成することにより、p電極層130の面上において、透明導電層131を介し、p型半導体層125の全面に亘り均一に電流を拡散させている。このことにより、発光層124における発光むらが低減する。
開口部132hには、少なくとも透明導電層131の開口部132hにおいて露出する部分と金属反射層133の開口部132h内に形成された部分との間に金属コンタクト層137が形成されている。
本実施の形態では、金属コンタクト層137は、絶縁反射層132の開口部132h内の側面に形成された側面部137aと、絶縁反射層132の金属反射層133側の表面であって開口部132hの周囲に形成された周辺部137bとが一体に形成されている。
金属コンタクト層137の厚さは、本実施の形態では、1nm〜5nmの範囲から選択され、好ましくは3nm以下、特に好ましくは2nm以下の範囲で成膜されている。
尚、金属コンタクト層137と一体に形成される周辺部137bの幅は、本実施の形態では3μmである。
このように、AlNd等からなる金属反射層133を成膜する前に、Ni(ニッケル)金属膜を絶縁反射層132の開口部132hで透明導電層131が露出する部分に成膜することによって、透明導電層131を構成するIn(インジウム)を含む酸化物(例えば、IZO等)からAlNdがO(酸素)を奪う酸化とそれによる抵抗上昇及びVf上昇を防ぐことができる。また、絶縁反射層132の開口部132hで透明導電層131が露出する部分の他に、透明導電層131の表面全体または絶縁反射層132の表面全体にNi(ニッケル)金属膜を形成した場合に比べ、反射率が向上する。
すなわち、本実施の形態では、金属コンタクト層137を透明導電層131の金属反射層133側の表面に部分的に設けることにより、透明導電層131の表面全体にニッケル(Ni)等の金属膜を形成する場合と比べ、半導体発光素子10の輝度低下が抑制される。
本実施の形態では、金属反射層133は、絶縁反射層132の略全域を覆うように形成されている。金属反射層133を構成する材料は、Al(アルミニウム)、Al(アルミニウム)−Nd(ネオジム)合金が挙げられる。これらの中でも、Al(アルミニウム)−Nd(ネオジム)合金が好ましい。金属反射層133にAl(アルミニウム)−Nd(ネオジム)合金を使用すると、金属反射層133の耐熱性が向上し、反射性能の低下が抑制される。
さらに、本実施の形態では、金属反射層133からAg(銀)を排除し且つAl(アルミニウム)またはAl(アルミニウム)−Nd(ネオジム)合金を用いるので、マイグレーション現象による漏れ電流の発生等が抑制される。
本実施の形態では、金属反射層133の厚さは、50nm〜200nmの範囲から選択される。また好ましくは80nm〜150nmの範囲から選択される。
本実施の形態では、n電極層140は、n型半導体層123側から順に、Ni(ニッケル)を含む第1導電層141、Al(アルミニウム)−Nd(ネオジム)合金を含む第2導電層142、Ta(タンタル)を含む第3導電層143a、Pt(白金)を含む第4導電層143b、Au(金)を含むn極ボンディング層144及びTi(チタン)を含むn極密着層145が積層されている。
次に、半導体発光素子10を構成する他の各層の材料について説明する。
基板110としては、III族窒化物半導体結晶が表面にエピタキシャル成長される基板であれば、特に限定されず、各種の基板を選択して用いることができる。ただし、本実施の形態の半導体発光素子10は、後述するように、基板110側から光を取り出すようにフリップチップ実装されることから、発光層124から出射される光に対する光透過性を有していることが好ましい。例えば、サファイア、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムアルミニウム、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化リチウムガリウム、酸化リチウムアルミニウム、酸化ネオジウムガリウム、酸化ランタンストロンチウムアルミニウムタンタル、酸化ストロンチウムチタン、酸化チタン等からなる基板110を用いることができる。上記材料の中でも、特に、C面を主面とするサファイアを基板110として用いることが好ましい。
中間層121は、多結晶のAlxGa1−xN(0≦x≦1)からなるものが好ましく、単結晶のAlxGa1−xN(0≦x≦1)のものがより好ましい。中間層121は、例えば、多結晶のAlxGa1−xN(0≦x≦1)からなる厚さ0.01〜0.5μmのものとすることができる。中間層121の厚みが0.01μm未満であると、中間層121により基板110と下地層122との格子定数の違いを緩和する効果が十分に得られない場合がある。また、中間層121の厚みが0.5μmを超えると、中間層121としての機能には変化が無いのにも関わらず、中間層121の成膜処理時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。中間層121は、基板110と下地層122との格子定数の違いを緩和し、基板110の(0001)面(C面)上にC軸配向した単結晶層の形成を容易にする働きがある。したがって、中間層121の上を介し、より一層結晶性の良い下地層122が積層できる。
下地層122としては、AlxGayInzN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、x+y+z=1)を用いることができるが、AlxGa1−xN(0≦x<1)を用いると結晶性の良い下地層122を形成できるため好ましい。
下地層122の膜厚は0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.5μm以上であり、1μm以上が最も好ましい。この膜厚以上にした方が結晶性の良好なAlxGa1−xN層が得られやすい。また、下地層122の膜厚は、生産コストの点で好ましくは15μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下である。
下地層122の結晶性を良くするためには、下地層122は不純物をドーピングしない方が望ましい。しかし、p型あるいはn型の導電性が必要な場合は、アクセプター不純物あるいはドナー不純物を添加することができる。
図4は、積層半導体層126の一例を説明する断面模式図である。積層半導体層126は、例えば、III族窒化物半導体からなる層であって、基板110上に、n型半導体層123、発光層124およびp型半導体層125の各層が、この順で積層されて構成されている。本実施の形態では、積層半導体層126の各層は、それぞれ、複数の半導体層から構成されている。尚、積層半導体層126は、さらに下地層122、中間層121を含めて呼ぶことがある。ここで、n型半導体層123は、電子をキャリアとする電気伝導を行い、p型半導体層125は、正孔をキャリアとする電気伝導を行う。尚、積層半導体層126は、MOCVD法で形成すると結晶性の良いものが得られるが、スパッタ法によっても条件を最適化することで、MOCVD法よりも優れた結晶性を有する半導体層を形成できる。
図4に示すように、電子をキャリアとするn型半導体層123は、nコンタクト層123aとnクラッド層123bとから構成されるのが好ましい。尚、nコンタクト層123aはnクラッド層123bを兼ねることも可能である。また、前述の下地層122をn型半導体層123に含めてもよい。
nコンタクト層123aは、n電極層140を設けるための層である。nコンタクト層123aとしては、AlxGa1−xN層(0≦x<1、好ましくは0≦x≦0.5、さらに好ましくは0≦x≦0.1)から構成されることが好ましい。
nコンタクト層123aの膜厚は、0.5μm〜5μmに設定することが好ましく、1μm〜3μmの範囲に設定することがより好ましい。nコンタクト層123aの膜厚が上記範囲にあると、半導体の結晶性が良好に維持される。
nクラッド層123bの膜厚は、特に限定されないが、好ましくは0.005〜0.5μmであり、より好ましくは0.005〜0.1μmである。nクラッド層123bのn型ドープ濃度は1×1017〜1×1020/cm3が好ましく、より好ましくは1×1018〜1×1019/cm3である。ドープ濃度がこの範囲であると、良好な結晶性の維持および発光素子の動作電圧低減の点で好ましい。
n型半導体層123の上に積層される発光層124としては、単一量子井戸構造あるいは多重量子井戸構造などを採用することができる。量子井戸構造の井戸層124bとしては、Ga1−yInyN(0<y<0.4)からなるIII族窒化物半導体層が通常用いられる。井戸層124bの膜厚としては、量子効果の得られる程度の膜厚、例えば1〜10nmとすることができ、好ましくは2nm〜6nmとすると発光出力の点で好ましい。
また、多重量子井戸構造の発光層124の場合は、上記Ga1−yInyNを井戸層124bとし、井戸層124bよりバンドギャップエネルギーが大きいAlzGa1−zN(0≦z<0.3)を障壁層124aとする。井戸層124bおよび障壁層124aには、設計により不純物をドープしてもしなくてもよい。尚、本実施の形態では、発光層124が、青色光(発光波長λ=400nm〜465nm程度)を出力するようになっている。
正孔をキャリアとするp型半導体層125は、通常、pクラッド層125aおよびpコンタクト層125bから構成される。また、pコンタクト層125bがpクラッド層125aを兼ねることも可能である。pクラッド層125aは、発光層124へのキャリアの閉じ込めとキャリアの注入とを行なう層である。pクラッド層125aとしては、発光層124のバンドギャップエネルギーより大きくなる組成であり、発光層124へのキャリアの閉じ込めができるものであれば特に限定されないが、好ましくは、AlxGa1−xN(0<x≦0.4)のものが挙げられる。
拡散防止層134は、接触状態にある金属反射層133を構成する金属の拡散を抑制する。拡散防止層134は、それぞれの層が接触する層とのオーミックコンタクトがとれ、かつ、接触する層との接触抵抗が小さいものを用いることが好ましい。本実施の形態では、拡散防止層134の第1p極拡散防止層134aとしてTa(タンタル)、第2p極拡散防止層134bとしてPt(プラチナ)が用いられている。
本実施の形態では、p極ボンディング層135には、Au(金)が用いられている。
p極密着層136は、例えば、Au(金)で構成されたp極ボンディング層135と保護層150との物理的な密着性を向上させるために設けられている。本実施の形態では、Ti(チタン)を用いて形成されている。ただし、Ti以外に、例えば、Ta(タンタル)やNi(ニッケル)を用いることも可能である。
保護層150はSiO2等のシリコン酸化物により形成されている。保護層150の膜厚は、通常50nm〜1μmの範囲内で設けられる。保護層150の膜厚が過度に小さいと保護膜としての機能を損なう恐れがあり、使用環境によっては発光出力が短期間に低下する傾向がある。また、保護層150の膜厚が過度に大きいと、コストアップやクラックが発生する等の傾向がある。
尚、半導体発光素子10のp電極層130は、フリップチップ実装の後述するメッキバンプ25(図11参照)を形成するために、半導体発光素子10の四隅に近接した4個の部分で、公知のフォトリソグラフィー技術により保護層150及びp極密着層136の一部を切り欠き、p極ボンディング層135の一部がそれぞれ露出している。
次に、半導体発光素子10の他の実施の形態を説明する。
図5は、半導体発光素子10の第2の実施の形態を説明する断面模式図である。尚、図2に示した実施の形態と同様な要素については同一符号・名称を用いて同一もしくは同質の要素・部材であることを示し、その詳細な説明は省略する。
図5に示す半導体発光素子10の絶縁反射層132に設けられた開口部132hには、少なくとも透明導電層131の開口部132hにおいて露出する部分と金属反射層133の開口部132h内に形成された部分との間に金属コンタクト層137が積層されている。また、金属コンタクト層137は、絶縁反射層132の開口部132h内の側面に形成された側面部137aと、絶縁反射層132の金属反射層133側の表面であって開口部132hの周囲に形成された周辺部137bとが一体に形成されている。
含Al金属層(第1金属層)138には、Al(アルミニウム)又はAl(アルミニウム)−Nd(ネオジウム)合金が含まれる。第2金属層139には、Ta(タンタル)又はNi(ニッケル)以外に、Ti(チタン)等が含まれてもよい。
絶縁反射層132の開口部132h内に形成された金属コンタクト層137上に、さらに含Al金属層(第1金属層)138と、Ta(タンタル)又はNi(ニッケル)を含む第2金属層139とを積層することにより、図2に示す第1の実施の形態と比べ、金属反射層133に含まれるアルミニウムの酸化がさらに抑制される。
尚、n電極層140は、フリップチップ実装の後述するメッキバンプ24(図11参照)を形成するために、公知のフォトリソグラフィー技術により保護層150及びn極密着層145の一部を切り欠き、n極ボンディング層144の一部を露出させている。
図6は、半導体発光素子10の第3の実施の形態を説明する断面模式図である。尚、図2に示した実施の形態と同様な要素については同一符号・名称を用いて同一もしくは同質の要素・部材であることを示し、その詳細な説明は省略する。
図6に示す半導体発光素子10の絶縁反射層132に設けられた開口部132hには、少なくとも透明導電層131の開口部132hにおいて露出する部分と金属反射層133の開口部132h内に形成された部分との間に金属コンタクト層137が積層されている。さらに、本実施の形態では、金属コンタクト層137と金属反射層133との間に、金属反射層133と同じ元素を含む含Al金属層(第1金属層)138、Ta(タンタル)又はNi(ニッケル)を含む第2金属層139、Pt(白金)を含む第3金属層139aおよびTa(タンタル)又はNi(ニッケル)を含む第4金属層139bが順番に積層されている。
尚、n電極層140は、フリップチップ実装の後述するメッキバンプ24(図11参照)を形成するために、公知のフォトリソグラフィー技術により保護層150及びn極密着層145の一部を切り欠き、n極ボンディング層144の一部を露出させている。
図7は、半導体発光素子における電極配置の他の例である第4の実施の形態を説明する平面模式図である。尚、図1に示した実施の形態と同様な要素については同一符号・名称を用いて同一もしくは同質の要素・部材であることを示している。
図7に示す半導体発光素子11は、正方形の平面形状を有している。p電極層130は、n電極層140を形成するためにエッチング等の手段により半導体層120の一部が除去された部分を除き、半導体層120の上面の略全面を覆うように形成されている。正極としてのp電極層130は、半導体発光素子11の中央部分で、外部との電気的な接続に用いられるp極ボンディング層135の一部が露出している。また、負極としてのn電極層140は、半導体発光素子11の四隅に近接した4個の部分で、n電極層140と外部との電気的な接続に用いられるn極ボンディング層144の一部がそれぞれ露出している(「N分散型」と称する。)。
次に、半導体発光素子11の断面構造を説明する。
図8に示すように、半導体発光素子11は、図2の実施の形態において前述した半導体発光素子10と同様な層構造を有している。すなわち、半導体発光素子11は、基板110と、基板110上に積層される半導体層120と、半導体層120のp型半導体層125上に形成されたp電極層130と、半導体層120のn型半導体層123の一部を露出させた露出面に形成されたn電極層140とを有している。
図7及び図8に示すN分散型の半導体発光素子11は、前述した半導体発光素子10と比べ、発光層124における発光が、半導体発光素子11の中央部分に集中することが抑制される傾向を示す。
尚、半導体発光素子11の複数のn電極層140は、図2に示した実施の形態(半導体発光素子10)と同様の層構造を有している。
図9は、半導体発光素子の第5の実施の形態を説明する断面模式図である。図7および図8に示した実施の形態(第4の実施の形態)と同様な要素については同一符号・名称を用いて同一もしくは同質の要素・部材であることを示し、その詳細な説明は省略する。
図9に示す半導体発光素子11は、図5の第2の実施の形態において前述した半導体発光素子10と同様な層構造を有している。すなわち、絶縁反射層132に設けられた開口部132hには、少なくとも透明導電層131の開口部132hにおいて露出する部分と金属反射層133の開口部132h内に形成された部分との間に金属コンタクト層137が積層されている。また、金属コンタクト層137は、絶縁反射層132の開口部132h内の側面に形成された側面部137aと、絶縁反射層132の金属反射層133側の表面であって開口部132hの周囲に形成された周辺部137bとが一体に形成されている。
半導体発光素子11には、図5に示した第2の実施の形態(半導体発光素子10)と同様に、金属反射層133が、金属コンタクト層137上に積層された含Al金属層(第1金属層)138及び第2金属層139を被覆し、且つ絶縁反射層132を覆うように形成されている。金属反射層133を構成する材料、厚さは、半導体発光素子10の場合と同様な範囲から選択される。
尚、半導体発光素子11の複数のn電極層140は、図5に示した第2の実施の形態(半導体発光素子10)と同様の層構造を有している。
図10は、半導体発光素子の第6の実施の形態を説明する断面模式図である。図7および図8に示した実施の形態(第4の実施の形態)と同様な要素については同一符号・名称を用いて同一もしくは同質の要素・部材であることを示し、その詳細な説明は省略する。
図10に示す半導体発光素子11は、図6の第3の実施の形態において前述した半導体発光素子10と同様な層構造を有している。すなわち、絶縁反射層132に設けられた開口部132hには、少なくとも透明導電層131の開口部132hにおいて露出する部分と金属反射層133の開口部132h内に形成された部分との間に金属コンタクト層137が積層されている。さらに、金属コンタクト層137と金属反射層133との間に、含Al金属層(第1金属層)138、第2金属層139、第3金属層139a、第4金属層139bが順番に積層されている。これらの層に含まれる元素は、前述した第3の実施の形態(半導体発光素子10)の場合と同様な範囲から選択される。
半導体発光素子10および半導体発光素子11は、例えば、次のような操作を経て後述するサブマウント基板21(図11、図12参照)に実装される。初めに、半導体発光素子10,11のウェハ全面にTiW/Auを公知のスパッタ法で成膜した後、公知のフォトリソグラフィー技術によりn電極層140とp電極層130を開口させたレジストを形成し、続いて公知の成膜法によりn電極層140とp電極層130上に所定膜厚のAuを成長させ、後述するメッキバンプ24,25(図11、図12参照)を形成する。レジストおよびTiW/Au膜の不要部分は、公知のエッチング法等により除去される。AlN基板を用いた後述するサブマウント20(図11、図12参照)上に発光チップを裏返して設置し、後述するサブマウント配線22,23(図11、図12参照)と、半導体発光素子10,11のメッキバンプ24,25とがそれぞれ対応するようにサブマウント20とを位置合わせして電気的に接続する。
図11は、本実施の形態が適用される半導体発光装置の一例を説明する断面模式図である。図12は、本実施の形態が適用される半導体発光装置の他の一例を説明する断面模式図である。以下、図11及び図12に基づき説明する。
図11に示す半導体発光装置1は、図1及び図2において説明した半導体発光素子10がサブマウント基板21に実装されている。図1及び図2と同様な構成には同じ符号を使用し詳細な説明は省略する。図12に示す半導体発光装置2は、図7及び図8において説明した半導体発光素子11(N分散型)がサブマウント基板21に実装されている。図7及び図8と同様な構成には同じ符号を使用し詳細な説明は省略する。
図2(第1の実施の形態)と図5(第2の実施の形態)にそれぞれ示す半導体発光素子10を調製した。多層構造の絶縁反射層132に複数の開口部132hを設け、開口部132hにおいて露出したIZO(酸化インジウム亜鉛)からなる透明導電層131とAl(アルミニウム)−Nd(ネオジウム)合金からなる金属反射層133との間にNi(ニッケル)からなる金属コンタクト層137を形成した。
また、開口部132h内に形成された金属コンタクト層137上に、さらに含Al金属層(第1金属層)138と、Ta(タンタル)を含む第2金属層139とを積層することにより(実施例2)、金属コンタクト層137のみの場合(実施例1)と比べ、金属反射層133に含まれるアルミニウムの酸化がさらに抑制されることから、順方向電圧(Vf:V)が減少することが分かる。
Claims (5)
- n型半導体層、発光層及びp型半導体層が積層された積層半導体層と、
前記積層半導体層の前記p型半導体層上に積層され且つ前記発光層から出射される光に対して光透過性を示す金属酸化物から構成された透明導電層と、
前記透明導電層上に積層され且つ当該透明導電層の一部が露出する複数の開口部を設けた絶縁反射層と、
前記絶縁反射層上と当該絶縁反射層の前記開口部内に形成され且つアルミニウムを含む金属から構成された金属反射層と、
少なくとも前記透明導電層の前記開口部において露出する部分と前記金属反射層の当該開口部内に形成された部分との間に設けられ且つ周期表第6A族及び第8族から選ばれる元素を含む金属コンタクト層と、
を有することを特徴とする半導体発光素子。 - 前記金属コンタクト層は、少なくともクロム、モリブデン及びニッケルから選ばれる元素を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記金属コンタクト層と前記金属反射層との間に、さらに、アルミニウム又はアルミニウム−ネオジウム合金を含む第1金属層と、タンタル又はニッケルを含む第2金属層と、を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光素子。
- 前記金属反射層は、アルミニウム又はアルミニウム−ネオジウム合金を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記絶縁反射層は、第1の屈折率を有し前記発光層から出射される光に対して光透過性を示す第1の絶縁層と当該第1の屈折率より高い第2の屈折率を有し当該発光層から出射される光に対して光透過性を示す第2の絶縁層とを交互に積層して構成された多層絶縁層からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012104044A JP5768759B2 (ja) | 2012-04-27 | 2012-04-27 | 半導体発光素子 |
CN201310149497.9A CN103378255B (zh) | 2012-04-27 | 2013-04-26 | 半导体发光元件 |
US13/871,649 US9472718B2 (en) | 2012-04-27 | 2013-04-26 | Semiconductor light-emitting element comprising an insulating reflection layer including plural opening portions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012104044A JP5768759B2 (ja) | 2012-04-27 | 2012-04-27 | 半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013232541A true JP2013232541A (ja) | 2013-11-14 |
JP5768759B2 JP5768759B2 (ja) | 2015-08-26 |
Family
ID=49463089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012104044A Active JP5768759B2 (ja) | 2012-04-27 | 2012-04-27 | 半導体発光素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9472718B2 (ja) |
JP (1) | JP5768759B2 (ja) |
CN (1) | CN103378255B (ja) |
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JP7308831B2 (ja) | 2017-12-14 | 2023-07-14 | ルミレッズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | Ledダイの汚染を防止する方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
US9472718B2 (en) | 2016-10-18 |
US20130285099A1 (en) | 2013-10-31 |
CN103378255A (zh) | 2013-10-30 |
CN103378255B (zh) | 2016-08-24 |
JP5768759B2 (ja) | 2015-08-26 |
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TW202345419A (zh) | 發光元件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140521 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150317 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150526 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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