JP2013218881A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013218881A5
JP2013218881A5 JP2012088547A JP2012088547A JP2013218881A5 JP 2013218881 A5 JP2013218881 A5 JP 2013218881A5 JP 2012088547 A JP2012088547 A JP 2012088547A JP 2012088547 A JP2012088547 A JP 2012088547A JP 2013218881 A5 JP2013218881 A5 JP 2013218881A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
coil
magnetic flux
plasma
plasma gun
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012088547A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013218881A (ja
JP5968666B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2012088547A external-priority patent/JP5968666B2/ja
Priority to JP2012088547A priority Critical patent/JP5968666B2/ja
Priority to EP13776393.4A priority patent/EP2838324A4/en
Priority to CN201380001628.7A priority patent/CN103597913B/zh
Priority to KR1020137031520A priority patent/KR101953930B1/ko
Priority to US14/117,346 priority patent/US20140158047A1/en
Priority to PCT/JP2013/055230 priority patent/WO2013153864A1/ja
Priority to TW102111668A priority patent/TWI604077B/zh
Publication of JP2013218881A publication Critical patent/JP2013218881A/ja
Publication of JP2013218881A5 publication Critical patent/JP2013218881A5/ja
Publication of JP5968666B2 publication Critical patent/JP5968666B2/ja
Application granted granted Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

前記課題を解決するために、本発明によるプラズマ発生装置は、チャンバと、前記チャンバの内部に臨むように配設され、電子を放出するカソードおよび前記カソードが放出した電子を案内する磁束を形成する収束コイルを備えるプラズマガンと、磁束を前記チャンバ内に形成する補助磁石とを有し、前記収束コイルに磁束の向きが変動する励磁電流を印加し、前記プラズマガンは、前記カソードと前記収束コイルとの間に、第1電極および第2電極を備える圧力勾配型プラズマガンであり、前記第2電極は、内部に電極内コイルが配設されており、前記電極内コイルに前記励磁電流と同期して変動する極内電流を印加するものとする。

Claims (4)

  1. チャンバと、
    前記チャンバの内部に臨むように配設され、電子を放出するカソードおよび前記カソードが放出した電子を案内する磁束を形成する収束コイルを備えるプラズマガンと、
    磁束を前記チャンバ内に形成する補助磁石とを有し、
    前記収束コイルに磁束の向きが変動する励磁電流を印加し、
    前記プラズマガンは、前記カソードと前記収束コイルとの間に、第1電極および第2電極を備える圧力勾配型プラズマガンであり、
    前記第2電極は、内部に電極内コイルが配設されており、
    前記電極内コイルに前記励磁電流と同期して変動する極内電流を印加することを特徴とするプラズマ発生装置。
  2. 前記励磁電流と前記極内電流とは、同位相の相似な周期的波形を有し、前記励磁コイルと前記電極内コイルとに同じ極性の磁束を形成させることを特徴とする請求項に記載のプラズマ発生装置。
  3. 前記補助磁石は、前記プラズマガンと反対側の前記チャンバの外側に、磁極の向きが前記プラズマガンの軸と交差するように配設されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ発生装置。
  4. 請求項1からのいずれかに記載のプラズマ発生装置を備えることを特徴とする蒸着装置。
JP2012088547A 2012-04-09 2012-04-09 プラズマ発生装置および蒸着装置 Expired - Fee Related JP5968666B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012088547A JP5968666B2 (ja) 2012-04-09 2012-04-09 プラズマ発生装置および蒸着装置
US14/117,346 US20140158047A1 (en) 2012-04-09 2013-02-27 Plasma generation apparatus, deposition apparatus, and deposition method
CN201380001628.7A CN103597913B (zh) 2012-04-09 2013-02-27 等离子体发生装置、以及蒸镀装置和蒸镀方法
KR1020137031520A KR101953930B1 (ko) 2012-04-09 2013-02-27 플라즈마 발생 장치 및 증착 장치
EP13776393.4A EP2838324A4 (en) 2012-04-09 2013-02-27 PLASMA PRODUCTION DEVICE, STEAM-PHASE DEPOSITION DEVICE, AND STEAM-PHASE DEPOSITION METHOD
PCT/JP2013/055230 WO2013153864A1 (ja) 2012-04-09 2013-02-27 プラズマ発生装置並びに蒸着装置および蒸着方法
TW102111668A TWI604077B (zh) 2012-04-09 2013-04-01 電漿產生裝置及蒸氣沈積裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012088547A JP5968666B2 (ja) 2012-04-09 2012-04-09 プラズマ発生装置および蒸着装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013218881A JP2013218881A (ja) 2013-10-24
JP2013218881A5 true JP2013218881A5 (ja) 2015-04-09
JP5968666B2 JP5968666B2 (ja) 2016-08-10

Family

ID=49327443

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012088547A Expired - Fee Related JP5968666B2 (ja) 2012-04-09 2012-04-09 プラズマ発生装置および蒸着装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20140158047A1 (ja)
EP (1) EP2838324A4 (ja)
JP (1) JP5968666B2 (ja)
KR (1) KR101953930B1 (ja)
CN (1) CN103597913B (ja)
TW (1) TWI604077B (ja)
WO (1) WO2013153864A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2016282065A1 (en) * 2015-06-23 2018-02-08 Aurora Labs Limited Plasma driven particle propagation apparatus and pumping method
CN113056083A (zh) * 2019-12-26 2021-06-29 上海宏澎能源科技有限公司 等离子束发生装置
CN113365402B (zh) * 2020-03-06 2023-04-07 上海宏澎能源科技有限公司 限制等离子束的装置
CN114442437B (zh) * 2020-10-30 2024-05-17 上海宏澎能源科技有限公司 光源装置
CN114921764B (zh) * 2022-06-28 2023-09-22 松山湖材料实验室 一种用于高功率脉冲磁控溅射的装置及方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986006922A1 (en) * 1985-05-09 1986-11-20 The Commonwealth Of Australia Plasma generator
JPH0215166A (ja) * 1988-07-04 1990-01-18 Kawasaki Steel Corp イオンプレーティング装置
JPH0222464A (ja) * 1988-07-12 1990-01-25 Raimuzu:Kk イオンプレーティング装置
JPH04329637A (ja) * 1991-05-01 1992-11-18 Fuji Electric Co Ltd 絶縁膜の製造方法
US5397956A (en) * 1992-01-13 1995-03-14 Tokyo Electron Limited Electron beam excited plasma system
JPH0765170B2 (ja) * 1992-01-30 1995-07-12 中外炉工業株式会社 薄膜形成装置におけるプラズマ走査装置
JP3409874B2 (ja) * 1993-03-12 2003-05-26 株式会社アルバック イオンプレーティング装置
JPH0776770A (ja) 1993-09-10 1995-03-20 A G Technol Kk 蒸着装置
JPH07254315A (ja) * 1994-03-14 1995-10-03 Nippon Sheet Glass Co Ltd 被膜の形成方法
US5677012A (en) * 1994-12-28 1997-10-14 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Plasma processing method and plasma processing apparatus
JP3275166B2 (ja) * 1997-02-28 2002-04-15 住友重機械工業株式会社 プラズマビームの偏り修正機構を備えた真空成膜装置
JP4287936B2 (ja) * 1999-02-01 2009-07-01 中外炉工業株式会社 真空成膜装置
US7300559B2 (en) * 2000-04-10 2007-11-27 G & H Technologies Llc Filtered cathodic arc deposition method and apparatus
JP2001295031A (ja) 2000-04-14 2001-10-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd 成膜装置及び方法
JP4627365B2 (ja) * 2000-11-17 2011-02-09 中外炉工業株式会社 圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法
JP2003008197A (ja) * 2001-06-20 2003-01-10 Fujitsu Ten Ltd 基板加熱装置
US7033462B2 (en) * 2001-11-30 2006-04-25 Nissin Electric Co., Ltd. Vacuum arc vapor deposition process and apparatus
JP4003448B2 (ja) * 2001-11-30 2007-11-07 日新電機株式会社 真空アーク蒸着方法及びその装置
JP2004010920A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Nissin Electric Co Ltd 真空アーク蒸着装置
JP3744467B2 (ja) * 2002-06-04 2006-02-08 日新電機株式会社 真空アーク蒸着方法及びその装置
KR100606451B1 (ko) * 2004-06-16 2006-08-01 송석균 상압 플라즈마 발생장치
JP3793816B2 (ja) * 2003-10-03 2006-07-05 国立大学法人東北大学 プラズマ制御方法、及びプラズマ制御装置
JP2008038197A (ja) 2006-08-04 2008-02-21 Shin Meiwa Ind Co Ltd プラズマ成膜装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013218881A5 (ja)
ES2527877T3 (es) Procedimiento para el depósito de capas eléctricamente aislantes
WO2012169747A3 (ko) 벨트형 자석을 포함한 플라즈마 발생원 및 이를 이용한 박막 증착 시스템
CA2905931C (en) Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator
MY183557A (en) Plasma cvd device and plasma cvd method
JP2017025407A5 (ja)
MX2016005951A (es) Generador de neutrones de fuente de iones de emision de campo.
UA112145C2 (uk) Джерело плазми
JP2016172927A5 (ja)
EP2587519A3 (en) Film formation apparatus and film formation method
KR101953930B1 (ko) 플라즈마 발생 장치 및 증착 장치
GB2533240A (en) Cryocooler with magnetic reciprocating piston
WO2016106425A3 (en) Combined multipole magnet and dipole scanning magnet
JP2013218985A5 (ja)
MX363412B (es) Fuente de evaporacion por arco.
JP2015017304A5 (ja)
US20130195679A1 (en) Ion pump system
JP2012094462A5 (ja)
JP2016076322A5 (ja)
WO2014135907A3 (en) Method and arrangement to generate few optical cycle coherent electromagnetic radiation in the euv-vuv domain
RU2012105581A (ru) Способ нанесения покрытий электронно-лучевым испарением в вакууме
WO2010001036A3 (fr) Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique
RU2014110358A (ru) Электрод для электродуговой сварки
WO2016149278A8 (en) X-ray tube having planar emitter and magnetic focusing and steering components
RU2015118542A (ru) Вакуумно-плазменный реактор