WO2010001036A3 - Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique - Google Patents

Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique Download PDF

Info

Publication number
WO2010001036A3
WO2010001036A3 PCT/FR2009/051104 FR2009051104W WO2010001036A3 WO 2010001036 A3 WO2010001036 A3 WO 2010001036A3 FR 2009051104 W FR2009051104 W FR 2009051104W WO 2010001036 A3 WO2010001036 A3 WO 2010001036A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
stage
zone
axis
ion generator
magnetic field
Prior art date
Application number
PCT/FR2009/051104
Other languages
English (en)
Other versions
WO2010001036A2 (fr
Inventor
Jean-Yves Pacquet
Gabriel Gaubert
Original Assignee
Commissariat A L'energie Atomique
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat A L'energie Atomique filed Critical Commissariat A L'energie Atomique
Priority to JP2011515536A priority Critical patent/JP5715562B2/ja
Priority to US13/002,105 priority patent/US8760055B2/en
Priority to EP09772718.4A priority patent/EP2311061B1/fr
Publication of WO2010001036A2 publication Critical patent/WO2010001036A2/fr
Publication of WO2010001036A3 publication Critical patent/WO2010001036A3/fr

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00—Ion beam tubes
    • H01J27/02—Ion sources; Ion guns
    • H01J27/16—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
    • H01J27/18—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation with an applied axial magnetic field
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H3/00—Production or acceleration of neutral particle beams, e.g. molecular or atomic beams
    • H05H3/02—Molecular or atomic beam generation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

L'invention concerne un générateur (1 ) d'ions RCE comportant une chambre étan- che (2) sous vide à symétrie axiale suivant un axe longitudinal (AA'), des moyens (3, 4, 5, 6) pour engendrer un champ magnétique possédant une symétrie de révo¬ lution par rapport à l'axe (AA') et des moyens de propagation d'une onde haute- fréquence. La chambre (2) comporte un premier étage d'ionisation (7) au niveau d'une extrémité de la chambre (2) comportant une zone d'ionisation (10) dans la¬ quelle sont générés des ions, le champ magnétique étant sensiblement parallèle à l'axe (AA') dans la zone (10) et un deuxième étage de confinement magnétique (8) des ions générés utilisant une première onde haute-fréquence issue des moyens de propagation. Le champ magnétique est sensiblement parallèle à l'axe (AA') en¬ tre la zone (10) et le deuxième étage (8) de sorte que les ions générés dans la zone (10) migrent vers le deuxième étage (8) et que les premier et deuxième étage (7, 8) comportent un même plasma continu.
PCT/FR2009/051104 2008-07-02 2009-06-11 Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique WO2010001036A2 (fr)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011515536A JP5715562B2 (ja) 2008-07-02 2009-06-11 電子サイクロトロン共鳴イオン・ゼネレータ
US13/002,105 US8760055B2 (en) 2008-07-02 2009-06-11 Electron cyclotron resonance ion generator
EP09772718.4A EP2311061B1 (fr) 2008-07-02 2009-06-11 Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0854502 2008-07-02
FR0854502A FR2933532B1 (fr) 2008-07-02 2008-07-02 Dispositif generateur d'ions a resonance cyclotronique electronique

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2010001036A2 WO2010001036A2 (fr) 2010-01-07
WO2010001036A3 true WO2010001036A3 (fr) 2010-02-25

Family

ID=40342671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/FR2009/051104 WO2010001036A2 (fr) 2008-07-02 2009-06-11 Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8760055B2 (fr)
EP (1) EP2311061B1 (fr)
JP (1) JP5715562B2 (fr)
FR (1) FR2933532B1 (fr)
WO (1) WO2010001036A2 (fr)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2969372B1 (fr) * 2010-12-21 2015-04-17 Commissariat Energie Atomique Dispositif d’ionisation a la resonance cyclotron electronique
FR2985292B1 (fr) * 2011-12-29 2014-01-24 Onera (Off Nat Aerospatiale) Propulseur plasmique et procede de generation d'une poussee propulsive plasmique

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0344969A1 (fr) * 1988-06-03 1989-12-06 Eaton Corporation Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
US4933650A (en) * 1988-02-24 1990-06-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma production apparatus
EP0514255A1 (fr) * 1991-05-14 1992-11-19 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59194407A (ja) * 1983-04-19 1984-11-05 Ulvac Corp 電子サイクロトロン共鳴形イオン源用磁石装置
FR2595868B1 (fr) * 1986-03-13 1988-05-13 Commissariat Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique electronique a injection coaxiale d'ondes electromagnetiques
JP3010059B2 (ja) * 1990-09-20 2000-02-14 日本真空技術株式会社 イオン源
FR2668642B1 (fr) * 1990-10-25 1993-11-05 Commissariat A Energie Atomique Source d'ions fortement charges a sonde polarisable et a resonance cyclotronique electronique.
JPH04262349A (ja) * 1991-02-15 1992-09-17 Kobe Steel Ltd 多価重イオン源および１価重イオン源
JPH069041U (ja) * 1992-07-07 1994-02-04 日新電機株式会社 イオン源
JP2644958B2 (ja) * 1993-04-02 1997-08-25 株式会社日立製作所 イオン源装置およびそのイオン源装置を備えたイオン打ち込み装置
FR2718568B1 (fr) * 1994-04-06 1996-07-05 France Telecom Procédé d'implantation haute énergie à partir d'un implanteur de type faible ou moyen courant et dispositifs correspondants.
FR2757310B1 (fr) 1996-12-18 2006-06-02 Commissariat Energie Atomique Systeme magnetique, en particulier pour les sources ecr, permettant la creation de surfaces fermees d'equimodule b de forme et de dimensions quelconques
JP4249826B2 (ja) * 1998-12-02 2009-04-08 株式会社 Ｓｅｎ−Ｓｈｉ・アクセリス カンパニー Ｅｃｒ用多極永久磁石装置
FR2815954B1 (fr) * 2000-10-27 2003-02-21 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de depot par plasma a la resonance cyclotron electronique de nanotubes de carbone monoparois et nanotubes ainsi obtenus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4933650A (en) * 1988-02-24 1990-06-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma production apparatus
EP0344969A1 (fr) * 1988-06-03 1989-12-06 Eaton Corporation Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
EP0514255A1 (fr) * 1991-05-14 1992-11-19 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ALTON G D: "Broadband frequency ECR ion source concepts with large resonant plasma volumes", NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH, SECTION - A:ACCELERATORS, SPECTROMETERS, DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT, ELSEVIER, AMSTERDAM, NL, vol. 382, no. 1, 11 November 1996 (1996-11-11), pages 276 - 282, XP004015864, ISSN: 0168-9002 *

Also Published As

Publication number Publication date
FR2933532A1 (fr) 2010-01-08
JP2011526724A (ja) 2011-10-13
WO2010001036A2 (fr) 2010-01-07
EP2311061A2 (fr) 2011-04-20
US8760055B2 (en) 2014-06-24
US20110210668A1 (en) 2011-09-01
FR2933532B1 (fr) 2010-09-03
EP2311061B1 (fr) 2016-11-16
JP5715562B2 (ja) 2015-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200644118A (en) Plasma processor
EP3905300A3 (fr) Appareil de source de faisceau de particules ecr
BRPI0409043A (pt) propulsor de nave espacial e processo para a geração de impulsão
WO2004031435A3 (fr) Pulverisation magnetron pulsee haute puissance
JP2012524376A5 (fr)
WO2006103287A3 (fr) Dispositif micro-onde pour le traitement d'un flux par un rayonnement lumineux
WO2013019129A3 (fr) Source d'ions
JP2008084859A (ja) ＥＣＲイオンソース｛ＥｌｅｃｔｒｏｎＣｙｃｌｏｔｒｏｎＲｅｓｏｎａｎｃｅｉｏｎｓｏｕｒｃｅ｝
WO2010001036A3 (fr) Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique
FR2969371B1 (fr) Dispositif generateur d?ions a resonance cyclotronique electronique
JP6863608B2 (ja) プラズマ源及びプラズマ処理装置
JP3593301B2 (ja) 電子サイクロトロン共鳴イオン源
Zheltukhin et al. Microwave techniques for electron density measurements in low pressure RF plasmas
McKee et al. Microwave Assisted Helicon Plasmas
McKee et al. Microwave Assisted Helicon Plasmas
RU2008131791A (ru) Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы
Verma et al. Kinetic Study of Effects of RF Pulsing in Dual Frequency Capacitively Coupled Plasma
Bae et al. High bias voltage plasma with electron beam
McLaughlin et al. Characterization of a neutral calcium plasma
Derzsi Experimental and simulation study of capacitively coupled electronegative discharges
Sun et al. Realistic secondary electron emission coefficients in direct current superposed RF capacitively coupled plasmas.
Benedikt Mass spectrometry of reactive low-pressure and atmospheric plasmas
Li et al. Electrical Asymmetric Effect in Very High Frequency Capacitively Coupled Plasma Source using Electromagnetic Plasma Model
Kim et al. Control of electron energy distribution by the power balance of the combined inductively and capacitively coupled RF plasmas
Sydorenko et al. Excitation of Ion Acoustic Waves by Electron Beams

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09772718

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2011515536

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2009772718

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2009772718

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13002105

Country of ref document: US