JP2013149764A - 光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 光電変換効率を高く維持することが可能な信頼性の高い光電変換装置を提供する。
【解決手段】 光電変換装置11は、多環芳香族炭化水素を含む金属カルコゲナイド多結晶体を光吸収層3として具備している。
また、多環芳香族炭化水素としてテトラセンおよびペンタセンの少なくとも一方を含んでもよい。
また、光吸収層3上にヘテロ接合された、金属カルコゲナイドおよび金属水酸化物を少なくとも含む混晶化合物層4をさらに具備していてもよい。
【選択図】 図1
【解決手段】 光電変換装置11は、多環芳香族炭化水素を含む金属カルコゲナイド多結晶体を光吸収層3として具備している。
また、多環芳香族炭化水素としてテトラセンおよびペンタセンの少なくとも一方を含んでもよい。
また、光吸収層3上にヘテロ接合された、金属カルコゲナイドおよび金属水酸化物を少なくとも含む混晶化合物層4をさらに具備していてもよい。
【選択図】 図1
Description
本発明は、金属カルコゲナイド多結晶体を用いた光電変換装置に関する。
太陽光発電などに使用される光電変換装置として、CIGS等の金属カルコゲナイド多結晶体を光吸収層として用いたものがある(例えば、特許文献1など)。
このような光電変換装置は、ガラスなどの基板の上に、金属電極などの下部電極層と、光吸収層と、バッファ層と、透明導電膜とを、この順に積層した光電変換セルが、平面的に複数並設されて構成されている。複数の光電変換セルは、隣り合う一方の光電変換セルの透明導電膜と他方の下部電極層とが接続導体で接続されることで、電気的に直列接続されている。
光電変換装置は長期信頼性が要求される。しかしながら、上記光電変換装置において、水分が光吸収層内に浸入し、光電変換効率が低下しやすくなる傾向がある。
本発明の一つの目的は、光電変換効率を高く維持することが可能な信頼性の高い光電変換装置を提供することにある。
本発明の一実施形態に係る光電変換装置は、多環芳香族炭化水素を含む金属カルコゲナイド多結晶体を光吸収層として具備することを特徴とする。
本発明によれば、光電変換効率を高く維持することが可能な信頼性の高い光電変換装置となる。
以下に本発明の一実施形態に係る光電変換装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る光電変換装置の一例を示す斜視図であり、図2はその断面図である。光電変換装置11は、基板1上に複数の光電変換セル10が並べられて互いに電気的に接続されている。なお、図1においては図示の都合上、2つの光電変換セル10のみを示しているが、実際の光電変換装置11においては、図面左右方向、あるいはさらにこれに垂直な方向に、多数の光電変換セル10が平面的に(二次元的に)配設されていてもよい。
図1、図2において、基板1上に複数の下部電極層2が平面配置されている。図1、図2において、複数の下部電極層2は、一方向に間隔をあけて並べられた下部電極層2a〜2cを具備している。この下部電極層2a上から基板1上を経て下部電極層2b上にかけて、第1の半導体層3が設けられている。また、第1の半導体層3上には、第1の半導体層3とは異なる導電型の第2の半導体層4が設けられている。さらに、下部電極層2b上において、接続導体7が、第1の半導体層3の表面(側面)に沿って、または第1の半導体層3を貫通して設けられている。この接続導体7は、第2の半導体層4と下部電極層2bとを電気的に接続している。これら、下部電極層2、第1の半導体層3および第2の半導体層4によって1つの光電変換セル10が構成され、隣接する光電変換セル10同士が接続導体7を介して直列接続されることによって、高出力の光電変換装置11となる。なお、本実施形態における光電変換装置11は、第2の半導体層4側から光が入射されるものを想定しているが、これに限定されず、基板1側から光が入射されるものであってもよい。
基板1は、光電変換セル10を支持するためのものである。基板1に用いられる材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、樹脂および金属等が挙げられる。基板1としては、例えば、厚さ1〜3mm程度の青板ガラス(ソーダライムガラス)を用いることができる。
下部電極層2(下部電極層2a、2b、2c)は、基板1上に設けられた、Mo、Al、TiまたはAu等の導電体である。下部電極層2は、スパッタリング法または蒸着法などの公知の薄膜形成手法を用いて、0.2μm〜1μm程度の厚みに形成される。
第1の半導体層3は、光吸収層として機能する半導体層であり、例えば1μm〜3μm程度の厚みを有する。第1の半導体層3は、金属カルコゲナイド多結晶体を主に含んでおり、さらに多環芳香族炭化水素を含んでいる。このような構成により、光電変換装置11中に水分が浸入してきたとしても、疎水性の高い多環芳香族炭化水素によって水分が第1の半導体層3中に浸入するのを有効に低減できる。その結果、光電変換装置11の光電変換機能を良好に維持でき、高い光電変換効率を長期にわたって維持することができる。
多環芳香族炭化水素は、芳香環が縮合した炭化水素のことであり、例えば、アントラセン、ナフタセン、フェナントレン、テトラセン、ペンタセン、ベンゾピレン、クリセン、ピレン、トリフェニレン、コランヌレン、コロネンおよびオバレン等が挙げられる。第1の半導体層3の内部抵抗を低減して電荷の移動度を高めるという観点から、多環芳香族炭化水素は導電性の比較的高いテトラセンやペンタセンが用いられても良い。
金属カルコゲナイド多結晶体は、金属元素とカルコゲン元素との化合物である金属カルコゲナイドの多結晶体である。カルコゲン元素とは、VI−B族元素(16族元素ともいう)のうち、S、Se、Teをいう。金属カルコゲナイドとしては、II−VI族化合物、I−III−VI族化合物およびI−II−IV−VI族化合物等が挙げられる。
II−VI族化合物とは、II−B族(12族元素ともいう)とVI−B族元素(16族元素ともいう)との化合物半導体である。II−VI族化合物としては、例えば、CdTe等が挙げられる。
I−III−VI族化合物とは、I−B族元素(11族元素ともいう)とIII−B族元素(13族元素ともいう)とVI-B族元素との化合物である。I−III−VI族化合物としては、例えば、CuInSe2(二セレン化銅インジウム、CISともいう)、Cu(In,Ga)Se2(二セレン化銅インジウム・ガリウム、CIGSともいう)、Cu(In,Ga
)(Se,S)2(二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム、CIGSSともいう)が挙げられる。あるいは、第1の半導体層3は、薄膜の二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム層を表面層として有する二セレン化銅インジウム・ガリウム等の多元化合物半導体薄膜にて構成されていてもよい。
)(Se,S)2(二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム、CIGSSともいう)が挙げられる。あるいは、第1の半導体層3は、薄膜の二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム層を表面層として有する二セレン化銅インジウム・ガリウム等の多元化合物半導体薄膜にて構成されていてもよい。
I−II−IV−VI族化合物とは、I−B族元素とII−B族元素とIV−B族元素(14族元素ともいう)とVI−B族元素との化合物である。I−II−IV−VI族化合物としては、例えば、Cu2ZnSnS4(CZTSともいう)、Cu2ZnSn(S,Se)4(CZTSSeともいう)、およびCu2ZnSnSe4(CZTSeともいう)が挙げられる。
第1の半導体層3に含まれる多環芳香族炭化水素は、第1の半導体層3における金属カルコゲナイドの重量に対して、例えば0.1%〜1.0%程度含まれている。
第1の半導体層3は、例えばいわゆる塗布法あるいは印刷法と称されるプロセスによって形成することができる。塗布法あるいは印刷法と称されるプロセスは、金属カルコゲナイドの構成元素の錯体および多環芳香族炭化水素が有機溶剤に溶解された原料溶液を下部電極層2の上に塗布して皮膜を形成し、その後、この皮膜を熱処理して多結晶化させるプロセスである。熱処理は、例えば400〜600℃で行なわれる。この熱処理の雰囲気として、窒素等の不活性ガスおよび水素等の還元性ガスを単独であるいは混合して用いることにより、多環芳香族炭化水素の第1の半導体層3中の濃度を制御することができる。つまり、熱処理の雰囲気において、不活性ガスの比率が高いと第1の半導体層3中の多環芳香族炭化水素の含有率が高くなり、還元性ガスの比率が高いと多環芳香族炭化水素の含有率が低くなる。
第2の半導体層4は、第1の半導体層3とは異なる導電型を有する半導体層である。第1の半導体層3および第2の半導体層4が電気的に接合することにより、電荷を良好に取り出すことが可能な光電変換層が形成される。例えば、第1の半導体層3がp型であれば、第2の半導体層4はn型である。第1の半導体層3がn型で、第2の半導体層4がp型であってもよい。
第2の半導体層4としては、例えば、CdS、ZnS、ZnO、Zn(OH,S)、In2S3、In2Se3、In(OH,S)、(Zn,In)(Se,OH)、および(Zn,Mg)O等が挙げられる。この場合、第2の半導体層4は、例えばケミカルバスデポジション(CBD)法等で10〜200nmの厚みで形成される。なお、Zn(OH,S)とは、Znが水酸化物および硫化物として含まれる混晶化合物をいう。In(OH,S)とは、Inが水酸化物および硫化物として含まれる混晶化合物をいう。(Zn,In)(Se,OH)は、ZnおよびInがセレン化物およぶ水酸化物として含まれる混晶化合物をいう。(Zn,Mg)Oは、ZnおよびMgが酸化物として含まれる化合物をいう。
第2の半導体層4が第1の半導体層3上にヘテロ接合された、金属カルコゲナイドおよび金属水酸化物を少なくとも含む混晶化合物層である場合、第2の半導体層4は水溶液を用いたCBD法によって形成されると、良好な接合が形成され得る。この場合、第2の半導体層4の形成中に第1の半導体層3内に水溶液が浸入し、残存する結果、第1の半導体層3のクラック等の原因となる可能性があるが、上述したように第1の半導体層3内に多環芳香族炭化水素が含まれることによって、水溶液が第1の半導体層3内に浸入するのが有効に低減される。その結果、第1の半導体層3のクラック等の破損が低減され得る。具体的には、第1の半導体層3がCIGS等のI−III−VI族化合物を含み、第2の半導体
層4がZn(OH,S)またはIn(OH,S)等の混晶化合物を含んだものが挙げられる。
層4がZn(OH,S)またはIn(OH,S)等の混晶化合物を含んだものが挙げられる。
図1、図2のように、第2の半導体層4上にさらに上部電極層5が設けられていてもよい。上部電極層5は、第2の半導体層4よりも抵抗率の低い層であり、第1の半導体層3および第2の半導体層4で生じた電荷を良好に取り出すことが可能となる。光電変換効率をより高めるという観点からは、上部電極層5の抵抗率が1Ω・cm未満でシート抵抗が50Ω/□以下であってもよい。
上部電極層5は、例えばITO、ZnO等の0.05〜3μmの透明導電膜である。透光性および導電性を高めるため、上部電極層5は第2の半導体層4と同じ導電型の半導体で構成されてもよい。上部電極層5は、スパッタリング法、蒸着法または化学的気相成長(CVD)法等で形成され得る。
また、図1、図2に示すように、上部電極層5上にさらに集電電極8が形成されていてもよい。集電電極8は、第1の半導体層3および第2の半導体層4で生じた電荷をさらに良好に取り出すためのものである。集電電極8は、例えば、図1に示すように、光電変換セル10の一端から接続導体7にかけて線状に形成されている。これにより、第1の半導体層3および第4の半導体層4で生じた電流が上部電極層5を介して集電電極8に集電され、接続導体7を介して隣接する光電変換セル10に良好に通電される。
集電電極8は、第1の半導体層3への光透過率を高めるとともに良好な導電性を有するという観点から、50〜400μmの幅を有していてもよい。また、集電電極8は、枝分かれした複数の分岐部を有していてもよい。
集電電極8は、例えば、Ag等の金属粉を樹脂バインダー等に分散させた金属ペーストがパターン状に印刷され、これが硬化されることによって形成される。
図1、図2において、接続導体7は、第1の半導体層3、第2の半導体層4および第2の電極層5を貫通する溝内に設けられた導体である。接続導体7は、金属や導電ペースト等が用いられ得る。図1、図2においては、集電電極8を延伸して接続導体7が形成されているが、これに限定されない。例えば、上部電極層5が延伸したものであってもよい。
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良などが可能である。
1:基板
2、2a、2b、2c:下部電極層
3:第1の半導体層
4:第2の半導体層
7:接続導体
10:光電変換セル
11:光電変換装置
2、2a、2b、2c:下部電極層
3:第1の半導体層
4:第2の半導体層
7:接続導体
10:光電変換セル
11:光電変換装置
Claims (4)
- 多環芳香族炭化水素を含む金属カルコゲナイド多結晶体を光吸収層として具備することを特徴とする光電変換装置。
- 前記多環芳香族炭化水素はテトラセンおよびペンタセンの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
- 前記光吸収層上にヘテロ接合された、金属カルコゲナイドおよび金属水酸化物を少なくとも含む混晶化合物層をさらに具備することを特徴とする請求項1または2に記載の光電変換装置。
- 前記光吸収層はI−III−VI族化合物を含み、前記混晶化合物層は亜鉛元素またはイン
ジウム元素を含むことを特徴とする請求項3に記載の光電変換装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012008601A JP2013149764A (ja) | 2012-01-19 | 2012-01-19 | 光電変換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2013149764A true JP2013149764A (ja) | 2013-08-01 |
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