JP2013140957A - 印刷回路基板及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】所望の高さで切断された導電性材料を電極パッド上に配設し、該導電性材料を電極パッドに接合することによって微細ピッチ化が可能で、縦横比の大きい導電性ポストをより容易く具現することができる、印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の印刷回路基板100の製造方法は、電極パッド115を備えるベース110基板を用意するステップと、一定な高さを有する導電性材料150aを提供するステップと、電極パッド115上に導電性材料150aを配置するステップと、電極パッド115と導電性材料150aとを接合して電極パッド115上に導電性ポスト150を形成するステップとを含む。
【選択図】図5

Description

本発明は、印刷回路基板及びその製造方法に関し、微細ピッチ化が可能で、縦横比(aspect ratio)の大きい導電性ポストを具現することができる、印刷回路基板及びその製造方法に関する。
最近、電子産業の発達に伴って電子部品の高性能化、高機能化、小型化が求められている。これによって、表面実装部品用基板においても、小型化及び技術集積に対応して高集積化、薄型化、微細回路パターン化が求められている。
特に、電子部品の基板への表面実装技術において、半導体チップと印刷回路基板との電気的接続のために、ワイヤーボンディング(wire bonding)方式及びフリップチップボンディング(flipchip bonding)方式が使われている。ワイヤーボンディング方式の場合、ワイヤを用いて印刷回路基板と接続しなければならないため、モジュールの大きさが大きくなり、追加的な工程が必要となると共に、回路パターンの微細ピッチ具現に限界があり、フリップチップボンディング方式がよりたくさん使われている。
フリップチップボンディング方式とは、半導体チップに金、ソルダあるいはその他金属などの素材から成る外部接続端子(すなわち、バンプ)を形成し、既存のワイヤーボンディングによる実装方法とは反対に、バンプの設けられた半導体チップを覆して表面が基板方向に向けるように実装させる。
このようなフリップチップボンディング方式は、ワイヤーボンディングを取り替えたフリップチップ技術の適用によって、相当な成果を見たが、バンプピッチの微細化が依然に難しいという不都合がある。
そのため、ソルダバンプ形成方式よりさらに微細なバンプピッチを作るために、ソルダペーストやソルダボールの代りに、電気銅めっき工程を用いるメタルポスト(metal post)を形成する技術が開発されている。
図1は、アンダーカットが発生したメタルポストを示す断面図、図2は、ディンプルが発生したメタルポストを示す断面図、図3は、メタルポストの下部に設けられたシード層が一部除去された姿を示す断面図、図4は、位置が外したメタルポストを示す断面図である。従来技術によれば、電極パッド11aを備えるベース基板11を用意した後、該ベース基板11上にシード層12を形成し、該シード層12上に電極パッド11aを露出させる開口部を有するドライフィルム13を塗布し、続いて、該開口部をめっきしてメタルポスト14を形成する。続いて、ドライフィルム13を剥離し、シード層12をエッチングして、メタルポスト14を完成する。
特開2000−349112号公報 特開2001−230276号公報
図1に示すように、従来技術によるメタルポストは、ドライフィルムに開口部を完壁に形成しなければ、領域Aのようにアンダーカット(Undercut)が発生してしまい、メタルポストの信頼性を低下させるという不都合がある。
また、電極パッドに対比して、開口部に設けられるめっきの厚さが厚くなり、メッキ時間が長くかかり、図2の領域Bのように、ディンプル(dimple)が発生するため、該ディンプルを除去するための平坦化工程が追加で求められるという不都合がある。
また、図3の領域Cのように、シード層をエッチングする時、メタルポストの下部に設けられたシード層まで除去され、またメタルポストの表面もエッチングされて粗さ(roughness)が設けられるという不都合がある。前述のように、メタルポストの表面に設けられる粗さは、酸化が易しく起きるようにする問題点をもたらす。
また、図4に示すように、ドライフィルムに開口部を形成する時、該開口部の位置整合度が精微ではなければ、位置が外したメタルポストが設けられるため、応力に脆弱な構造を有するという不都合がある。
本発明は上記の問題点に鑑みて成されたものであって、所望の高さで切断された導電性材料を電極パッド上に配設し、該導電性材料を電極パッドに接合することによって微細ピッチ化が可能で、縦横比の大きい導電性ポストをより容易く具現することができる、印刷回路基板及びその製造方法を提供することに、その目的がある。
上記の目的を解決するために、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造方法は、電極パッドを備えるベース基板を用意するステップと、一定の高さを有する導電性材料を提供するステップと、前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップと、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合して前記電極パッド上に導電性ポストを形成するステップとを含む。
前記一定の高さを有する導電性材料を提供するステップは、ワイヤー形態で設けられた導電性材料を形成しようとする高さで切断し、該形成しようとする高さを有する導電性材料を提供する。
前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップは、ジグによって前記導電性材料を前記電極パッド上に移動させ、前記電極パッド上に前記導電性材料を配置する。
前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップは、前記ジグを貫く開口を形成するステップと、前記開口内に前記導電性材料を挿入するステップと、前記導電性材料の挿入された前記ジグを前記ベース基板上に移動させ、前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップを含む。
前記開口内に前記導電性材料を挿入するステップは、振動吸着方式及び真空吸着方式のうちのいずれか一つを使って前記開口内に前記導電性材料を挿入する。
前記ジグを貫く開口を形成するステップは、前記ジグを機械的手段及び化学的手段のうちのいずれか一つを使って前記ジグを貫く開口を形成する。
前記ジグは、高分子化合物または金属材料から成る。
前記電極パッドと前記導電性材料とを接合して前記電極パッド上に導電性ポストを形成するステップは、前記導電性材料にエネルギを加えて前記導電性材料を前記電極パッドに拡散させることによって、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する。
前記電極パッドと前記導電性材料とを接合して前記電極パッド上に導電性ポストを形成するステップは、拡散溶接、スポット溶接、突合せ溶接、超音波溶接、冷間圧接、爆発溶接、摩擦溶接、慣性溶接、誘導溶接、テルミット溶接、フラッシュ溶接、衝撃溶接、シーム溶接、プロジェクション溶接方式のうちのいずれか一つを使って、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する。
前記電極パッドを備えるベース基板を用意するステップの後に、前記ベース基板上に前記電極パッドを露出させる開口部が設けられたレジストを形成するステップをさらに含む。
前記導電性ポストは、1以上の縦横比で設けられる。
前記導電性ポストは、銅から成る。
また、上記の目的を解決するために、本発明の他の実施形態による印刷回路基板は、電極パッドを備えるベース基板と、前記ベース基板上に前記電極パッドを露出させる開口部が設けられたレジストと、前記電極パッド上に一定の高さで設けられる導電性ポストとを含み、前記導電性ポストの表面は平坦に設けられる。
前記導電性ポストは、前記電極パッドに垂直に形成され、前記導電性ポストは、ワイヤー形態で設けられた導電性材料を形成しようとする高さで切断して設けられる。
前記導電性ポストは、円柱状に設けられる。
前記導電性ポストは、1以上の縦横比で設けられる。
前記導電性ポストは、銅から成る。
前記導電性ポストは、前記形成しようとする高さで切断した導電性材料をジグによって前記電極パッド上に配置した後、前記電極パッドに接合することによって設けられる。
前記形成しようとする高さで切断した導電性材料をジグによって前記電極パッド上に配置することは、前記ジグを貫く開口を形成し、該開口内に前記導霞性材料挿入し、前記導電性材料が挿入された前記ジグを前記ベース基板上に移動させ前記電極パッド上に前記導電性材料を配置する。
前記導電性材料を前記電極パッドに接合することは、前記導電性材料にエネルギを加えて前記導電性材料を前記電極パッドに拡散させることによって、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する。
前記電極パッドと前記導電性材料とを接合することは、拡散溶接、スポット溶接、突合せ溶接、超音波溶接、冷間圧接、爆発溶接、摩擦溶接、慣性溶接、誘導溶接、テルミット溶接、フラッシュ溶接、衝撃溶接、シーム溶接またはプロジェクション溶接方式のうちのいずれか一つを使って前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する。
前述のように、本発明の一実施形態による印刷回路基板及びその製造方法によれば、所望の高さで切断した導電性材料を電極パッド上に配設した後、エネルギを加えて該導電性材料を電極パッドに接合させることによって微細ピッチ化が可能で、高さが高い、すなわち、縦横比の大きい導電性ポストをより容易く具現することができるという効果が奏する。
詳しくは、ドライフィルムを使わないため、アンダーカットやドライフィルムに設けられる開口部の位置整合度によって導電性ポストの信頼性が低下するという問題を防止することができる。また、メッキ方式を使わないため、メッキ時間が長くかかったり、ディンプルが発生して平坦化工程が追加で必要となるという問題を防止することができる。さらに、シード層を形成しないため、エッチング時、導電性ポストの下部にあるシード層が除去されたり、導電性ポストの表面に粗さが設けられるという問題を防止することができる。
また、予め製作されているワイヤー形態の導電性材料を使うため、導電性ポストを平坦に形成すると共に、電極パッドに垂直で形成することができるという効果が奏する。
さらに、従来技術のようなメッキ工程では、導電性ポストを所望の長さ、すなわち、長さの長い形態で具現しにくいという問題点があったが、本発明では、ワイヤー形態の導電性材料を切断する方式を使うため、導電性ポストを所望の長さで容易く製作することができるという長所がある。
アンダーカットが発生したメタルポストを示す断面図である。 ディンプルが発生したメタルポストを示す断面図である。 メタルポストの下部に設けられたシード層が一部除去された姿を示す断面図である。 位置が外したメタルポストを示す断面図である。 本発明の一実施形態による印刷回路基板の断面図である。 本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過程を示す断面図である。 同じく、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過程を示す断面図である。 同じく、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過程を示す断面図である。 同じく、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過程を示す断面図である。 同じく、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過程を示す断面図である。 従来技術の一実施形態によって製造された導電性ポストの表面を拡大して示す図面である。 本発明の一実施形態によって製造された導電性ポストの表面を拡大して示す図面である。
以下、本発明の好適な実施の形態は図面を参考にして詳細に説明する。次に示される各実施の形態は当業者にとって本発明の思想が十分に伝達されることができるようにするために例として挙げられるものである。従って、本発明は以下示している各実施の形態に限定されることなく他の形態で具体化されることができる。そして、図面において、装置の大きさ及び厚さなどは便宜上誇張して表現されることができる。明細書全体に渡って同一の参照符号は同一の構成要素を示している。
本明細書で使われた用語は、実施形態を説明するためのものであって、本発明を制限しようとするものではない。本明細書において、単数形は文句で特別に言及しない限り複数形も含む。明細書で使われる「含む」とは、言及された構成要素、ステップ、動作及び/又は素子は、一つ以上の他の構成要素、ステップ、動作及び/又は素子の存在または追加を排除しないことに理解されたい。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態による印刷回路基板について詳記する。
図5は、本発明の一実施形態による印刷回路基板の断面図を示す。
図5に示すように、印刷回路基板100は、ベース基板110、レジスト130及び導電性ポスト150によって構成される。
まず、ベース基板110は、印刷回路基板100を支持する手段であって、プリプレグ(prepreg)、ポリイミド(Polyimide)、ポリエチレンテレブタルレイド(PET:Polyethyeleneterepthalate)、シアン酸エステル(Cyanide Ester)、ABF(Ajinomoto Buildup Film)またはエポキシ(epoxy)などのように電気伝導率が小さく、電流をほとんど通過させない多様な材料から成る。
図5に示すような印刷回路基板の構成は一例であって、これに限定するものではない。例えば、前記印刷回路基板は、単面印刷回路基板、両面印刷回路基板及び多層印刷回路基板が挙げられ、本発明の技術的特徴は同様に適用される。
ベース基板110は、上面に電極パッド115が設けられる。この電極パッド115は、サブトラックティブ(Subtractive)工法、エディティブ(Additive)工法、セミエディティブ(Semi-additive)工法などのような多様な工法によって設けられでもよい。
電極パッド115は、銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、錫(Sn)、ニッケル(Ni)またはそリブデン(Mo)などの金属材料から成る。
レジスト130にはベース基板110上に電極パッド115を露出させる開口部(OP)が設けられる。レジスト130は、フォトレジスト(Photo Resist)、フォトソルダレジスト(Photo Solder Resist)、ドライフィルム(Dry Fi1m)などのような多様な感光性材料から成り、これに限定するものではなく、多様な材料に取り替えられてもよい。
導電性ポスト150は、電極パッド115上に一定の高さ(h)で設けられる手段であり、導電性ポスト150の表面は平坦に設けられる。
詳しくは、ワイヤー形態で且つ円柱状の導電性材料150aを準備し、該導電性材料150aを形成しようとする高さ(h)で切断する。続いて、切断した導電性材料150aを電極パッド115上に配置し、接合過程を通じて導電性ポスト150が設けられる。
このように、導電性ポスト150は、表面が平坦に設けられた導電性材料150aを電極パッド115上に接合して設けられるため、従来技術のように、シード層を除去するためにエッチングを施して導電性ポストの表面に粗さが設けられるという問題を防止することができる。また、粗さによって導電性ポスト150の表面積が広くなり、表面で酸化が易しく起きるという問題を防止すると共に、アンダーフィル(underfill)の円滑な流れを図ることができる。
また、導電性ポスト150は、電極パッド115に垂直に設けられる。すなわち、従来技術では、導電性ポストがドライフィルムの開口時に位置整合度によって不完全な形態で設けられるが、本発明の一実施形態では、導電性ポスト150を電極パッド115にいつも垂直で形成するため、構造的に外部応力に強いという特徴がある。
また、導電性ポスト150は、1以上の縦横比で設けられる。縦横比とは、導電性ポスト150の高さ(h)/導電性ポスト150の径を意味する。従来技術によるメッキ方式では、所望の高さの導電性ポストを形成しにくいという問題点があったが、本発明の一実施形態では、導電性材料150aを所望の高さで切削して加工する方式を使うため、所望の長さや高さだけ導電性ポスト150を長く製作することができる。
また、導電性ポスト150は銅(Cu)から成り、これに限定するものではなく、銀(Ag)、金(Au)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、錫(Sn)、ニッケル(Ni)またはモリブデン(Mo)などのような多様な金属材料から成ってもよい。
以下、前述のような導電性ポストを形成する過程について詳記する。導電性ポスト150は、図8に示すジグ160によって電極パッド115上に配置し接合する過程によって設けられるが、まず、ジグ160を貫く開口162を形成し、該開口162内に導電性材料150aを挿入し、この導電性材料150aが挿入されたジグ160をベース基板110上に移動させ、電極パッド115上に導電性材料150aを配置する。
続いて、導電性材料150aにエネルギを加えて導電性材料150aを電極パッド115に拡散させることによって、電極パッド115と導電性材料150aとを接合することができる。拡散溶接、スポット溶接、突合せ溶接、超音波溶接、冷間圧接、爆発溶接、摩擦溶接、慣性溶接、誘導溶接、テルミット溶接、フラッシュ溶接、衝撃溶接、シーム溶接またはプロジェクション溶接方式のうちのいずれか一つを使って前記電極パッドと前記導電性材料とを接合することができる。
このように、導電性ポストを形成する過程については、下記の印刷回路基板を製造する過程においてより詳しく説明するようにする。
以下、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過穏について詳記する。
図6〜図10は各々、本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造過程を示す断面図を示す。
図6に示すように、電極パッド115を備えるベース基板110を用意する。ベース基板110上には、電極パッド115を露出させる開口部(OP)が設けられたレジスト130をさらに形成する。
ベース基板110は、印刷回路基板100を支持する手段であって、プリプレグ、ポリイミド、ポリエチレンテレブタルレイド(PET)、シアン酸エステル、ABFまたはエポキシなどのように電気伝導率が小さく、電流をほとんど通過させない多様な材料から成ってもよい。
また、ベース基板110は、上面に電極パッド115が設けられる、電極パッド115は、サブトラックティブ工法、エディティブ工法またはセミエディティブ工法などのように多様な工法を使って設けられる。
電極パッド115は、銅、銀、金、アルミニウム、鉄、チタン、錫、ニッケルまたはモリブデンなどの金属材料から成る。
レジスト130は、ベース基板110上に電極パッド115を露出させる開口部(OP)が設けられる手段であって、フォトレジスト、フォトソルダレジストまたはドライフィルムなどのような多様な感光性材料から成り、これに限定するものではなく、多様な材料に取り替えられてもよい。
続いて、図7に示すように、一定の高さ(h)を有する導電性材料150aを提供する。ワイヤー形態で且つ円柱状の導電性材料150aを準備し、該導電性材料150aを形成しようとする高さ(h)で切断することによって、所望の高さを有する導電性材料150aを形成する。例えば、直径100μm、高さ200μmで、導電性材料を形成しようとする場合、直径100μmの導電性材料を200μm単位の長さで切断して所望の高さの導電性材料150aを形成する。
続いて、図8に示すように、ジグ160を通じて導電性材料150aを電極パッド115上に移動させ、電極パッド115上に導電性材料150aを配置する。
以下、電極パッド上に導電性材料を配置する過程について詳記する。ジグ160にジグ160を貫く開口162を形成する。そして、開口160内に一定の高さで切断した導電性材料150aを挿入し、該導電性材料150aが挿入されたジグ160をベース基板110上に移動させ、電極パッド115上に導電性材料150aを配置する。
ジグ160は、シート形態の高分子化合物や金属材料から成ってもよく、機械的手段及び化学的手段のうちのいずれか一つを使ってジグ160を貫く開口162を形成してもよい。すなわち、UV(Ultraviolet)レーザまたはCO2(Carbon dioxide)レーザなどのように開口を形成する多様なレーザ他に、CNC(Computer Numerical Control)ドリルやX-rayドリルなどの多様なドリルを使って、ジグ160に所望の直径を有する開口162を形成することができる。また、化学的材料を用いてジグ160をエッチングすることによって所望の直径を有する開口162を形成してもよい。
続いて、振動吸着方式及び真空吸着方式のうちのいずれか一つを使って、開口162内に導電性材料150aを挿入する。真空吸着方式とは、工場自動化ラインで品物を真空吸着して移送する方式を言う。
続いて、図9に示すように、導電性材料150aにエネルギを加えて導電性材料150aを電極パッド115に拡散させることによって、電極パッド115と導電性材料150aとを接合する。
詳しくは、ジグ160を用いて電極パッド115上に導電性材料150aを配置した状態は、物理的/化学的に固定されていない状態であるため、この状態でエネルギを加えれば、金属の拡散原理によって電極パッド115と導電性材料150aとが物理的/化学的に接合されて固定される。拡散溶接、スポット溶接、突合せ溶接、超音波溶接、冷間圧接、爆発溶接、摩擦溶接、慣性溶接、誘導溶接、テルミット溶接、フラッシュ溶接、衝撃溶接、シーム溶接またはプロジェクション溶接方式のうちのいずれか一つを使って、電極パッド115と導電性材料150aとを接合する。
図10に示すように、ジグ160を除去し、電極パッド115と導電性材料150aとの間の接合を完了すれば、電極パッド115上には導電性ポスト150が設けられる。
図11a及び図11bは各々、従来技術及び本発明の一実施形態によって製造された導電性ポストの表面を拡大して示す写真である。図11aに示すように、従来技術によってメッキ方式で製造された導電性ポストの表面は、粗さが設けられていることが分かる。しかし、図11bに示すように、本発明の一実施形態による導電性ポストは、予め製作されている導電性材料を使うため、表面が滑らかに設けられていることが分かる。
また、従来技術によるメッキ方式では、所望の高さの導電性ポストを形成しにくかったが、本発明の一実施形態では、円柱状の導電性材料を切削する方式によって導電性ポストを容易く製作するので、所望の長さや高さだけ導電性ポストを長く製作することができるという長所がある。これにより、微細ピッチ化が可能で、縦横比の大きい導電性ポストを具現することができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、前記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
100 印刷回路基板
110 ベース基板
115 電極パッド
130 レジスト
150a 導電性材料
150 導電性ポスト
160 ジグ
162 開口

Claims (22)

  1. 電極パッドを備えるベース基板を用意するステップと、
    一定の高さを有する導電性材料を提供するステップと、
    前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップと、
    前記電極パッドと前記導電性材料とを接合して前記電極パッド上に導電性ポストを形成するステップと
    を含む印刷回路基板の製造方法。
  2. 前記一定の高さを有する導電性材料を提供するステップは、
    ワイヤー形態で設けられた導電性材料を形成しようとする高さで切断し、前記一定の高さを有する導電性材料を提供する、請求項1に記載の印刷回路基板の製造方法。
  3. 前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップは、
    ジグによって前記導電性材料を前記電極パッド上に移動させ、前記電極パッド上に前記導電性材料を配置する、請求項1に記載の印刷回路基板の製造方法。
  4. 前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップは、
    前記ジグを貫く開口を形成するステップと、
    前記開口内に前記導電性材料を挿入するステップと、
    前記導電性材料が挿入された前記ジグを前記ベース基板上に移動させ、前記電極パッド上に前記導電性材料を配置するステップと
    を含む、請求項3に記載の印刷回路基板の製造方法。
  5. 前記開口内に前記導電性材料を挿入するステップは、
    振動吸着方式及び真空吸着方式のうちのいずれか一つを使って、前記開口内に前記導電性材料を挿入する、請求項4に記載の印刷回路基板の製造方法。
  6. 前記ジグを貫く開口を形成するステップは、
    前記ジグに機械的手段及び手段化学的手段のうちのいずれか一つを使って前記グを貫く開口を形成する、請求項4または5に記載の印刷回路基板の製造方法。
  7. 前記ジグは、高分子化合物または金属材料から成る、請求項3から6の何れか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
  8. 前記電極パッドと前記導電性材料とを接合して前記電極パッド上に導電性ポストを形成するステップは、
    前記導電性材料にエネルギを加えて前記導電性材料を前記電極パッドに拡散させることによって、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する、請求項1から7の何れか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
  9. 前記電極パッドと前記導電性材料とを接合して前記電極パッド上に導電性ポストを形成するステップは、
    拡散溶接、スポット溶接、突合せ溶接、超音波溶接、冷間任接、爆発溶接、摩擦溶接、慣性溶接、誘導溶接、テルミット溶接、フラッシュ溶接、衝撃溶接、シーム溶接またはプロジェクション溶接方式のうちのいずれか一つを使って、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する、請求項8に記載の印刷回路基板の製造方法。
  10. 前記電極パッドを備えるベース基板を用意するステップの後に、
    前記ベース基板上に前記電極パッドを露出させる開口部が設けられたレジストを形成するステップをさらに含む、請求項1から9の何れか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
  11. 前記導電性ポストは、1以上の縦横比で設けられる、請求項1から10の何れか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
  12. 前記導電性ポストは、銅から成る、請求項1から11の何れか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
  13. 電極パッドを備えるベース基板と、
    前記ベース基板上に前記電極パッドを露出させる開口部が設けられたレジストと、
    前記電極パッド上に一定の高さで設けられる導電性ポストと
    を含み、
    前記導電性ポストの表面は、平坦に設けられる、印刷回路基板。
  14. 前記導電性ポストは、前記電極パッドに垂直に設けられる、請求項13に記載の印刷回路基板。
  15. 前記導電性ポストは、1以上の縦横比で設けられる、請求項13または14に記載の印刷回路基板。
  16. 前記導電性ポストは、銅から成る、請求項13から15の何れか1項に記載の印刷回路基板。
  17. 前記導電性ポストは、円柱状に設けられる、請求項13から16の何れか1項に記載の印刷回路基板。
  18. 前記導電性ポストは、ワイヤー形態で設けられた導電性材料を形成しようとする高さで切断して設けられる、請求項13から17の何れか1項に記載の印刷回路基板。
  19. 前記導電性ポストは、前記形成しようとする高さで切断した導電性材料をジグによって前記電極パッド上に配置し、前記電極パッドに接合することによって設けられる、請求項18に記載の印刷回路基板。
  20. 前記形成しようとする高さで切断した導電性材料をジグによって前記電極パッド上に配置することは、
    前記ジグを貫く開口を形成し、
    前記開口内に前記導電性材料を挿入し、前記導電性材料が挿入された前記ジグを前記ベース基板上に移動させ前記電極パッド上に前記導電性材料を配置する、請求項19に記載の印刷回路基板。
  21. 前記導電性材料を前記電極パッドに接合することは、
    前記導電性材料にエネルギを加えて前記導電性材料を前記電極パッドに拡散させることによって、前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する、請求項19または20に記載の印刷回路基板。
  22. 前記電極パッドと前記導電性材料とを接合することは、拡散溶接、スポット溶接、突合せ溶接、超音波溶接、冷間圧接、爆発溶接、摩擦溶接、慣性溶接、誘導溶接、テルミット溶接、フラッシュ溶接、衝撃溶接、シーム溶接またはプロジェクション溶接方式のうちのいずれか一つを使って前記電極パッドと前記導電性材料とを接合する、請求項21に記載の印刷回路基板。
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