JP2013140929A - 共通モードフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、共通モードフィルタ1000は、下部基板1100と、内部に導電体パターンが形成され、下部基板1100上に設けられる絶縁層1200と、絶縁層1200上に設けられる上部基板1300と、フェライトで形成され、絶縁層1200と、下部基板1100及び/または上部基板1300を貫いて、絶縁層1200と、下部基板1100及び/または上部基板1300の中央に設けられるフェライトコア1400とを含む。
【選択図】図2
Description
<表1> (単位:Ω)
1100 下部基板
1200 絶縁層
1300 上部基板
1400 フェライトコア
Claims (27)
- 下部基板と、
内部に導電体パターンが形成され、前記下部基板上に設けられる絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられる上部基板と、
フェライトで形成され、前記絶縁層と、前記下部基板または前記上部基板とを貫いて、前記絶縁層と、前記下部基板または前記上部基板の中央に設けられるフェライトコアと
を含む共通モードフィルタ。 - 下部基板と、
内部に導電体パターンが形成され、前記下部基板上に設けられる絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられる上部基板と、
フェライトで形成され、前記絶縁層と、前記下部基板及び前記上部基板とを貫いて、前記絶縁層と、前記下部基板及び前記上部基板の中央に設けられるフェライトコアと
を含む共通モードフィルタ。 - 前記下部基板及び前記上部基板は、フェライトで形成される請求項1または2に記載の共通モードフィルタ。
- 前記絶縁層は、エポキシ、ポリイミド及びポリアミドよりなる群から選ばれる少なくとも一つまたは少なくとも二つの混合物で形成される請求項1または2に記載の共通モードフィルタ。
- 前記絶縁層は、B2O3-SiO2系ガラス及びAl2O3-SiO2系ガラスのうちの少なくとも一つと、SiO2、B2O3、Al2O3、Li2O、MgO、CaO、SrO及びZnOのうちの少なくとも一つの低温焼成セラミックパウダとを混合して形成される請求項1または2に記載の共通モードフィルタ。
- 前記下部基板と前記絶縁層との間及び/または前記上部基板と前記絶縁層との間に接合層がさらに設けられる請求項1または2に記載の共通モードフィルタ。
- 前記絶縁層内部に形成された導電体パターンは、複数の層で形成される請求項1または2に記載の共通モードフィルタ。
- 前罰複数の層で形成される導電体パターンは、ビアホールを通じて上下層間が接続される請求項7に記載の共通モードフィルタ。
- 下部基板、上部基板及び内部に導電体パターンが形成された絶縁層を準備するステップと、
前記下部基板、前記上部基板及び前記絶縁層を下面から順に積層するステップと、
前記絶縁層と、前記下部基板または前記上部基板とを貫くホールを形成するステップと、
前記ホールにフェライトで形成されたフェライトコアを形成するステップと
を含む共通モードフィルタ製造方法。 - ホールを形成するステップは、ルータ工程によって行われる請求項9に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記フェライトコアを形成するステップは、
フェライトからなるスラリを前記ホールに充填するステップと、
前記スラリを硬化させるステップとから成る請求項9に記載の共通モードフィルタ製造方法。 - 前記スラリは、フェライトパウダと、エポキシ、ポリイミド及びポリアミドよりなる群から選ばれる少なくとも一つまたは少なくとも二つの混合物で形成された樹脂とを混合して形成される請求項11に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記スラリは、酸化銅、酸化ニッケル及び酸化亜鉛よりなる群から選ばれる少なくとも一つまたは少なくとも二つの混合物で形成された添加剤パウダとをさらに混合して形成される請求項12に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記フェライトパウダまたは前記添加剤パウダをボーリング処理した後、3−ロールミラーによってパウダ粒子を均一に分散して混合する請求項12または13に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記フェライトパウダの重量と前記樹脂の重量との比は、8:2〜9:1である請求項12に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記スラリを充填するステップは、スクリーンプリンタ方式またはダイコーティング方式によって行われる請求項11に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記スラリは、粒子大きさが異なる請求項11に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記スラリは、2〜3μmの粒子大きさを有する組立粒子と、0.3〜0.5μmの粒子大きさを有する微粒粒子とから成る請求項17に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記スラリを充填するステップは、粒子大きさが異なるスラリを各々分けて充填する請求項11に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 2〜3μmの粒子大きさを有するスラリを1次充填し、0.3〜0.5μmの粒子大きさを有するスラリを2次充填する請求項19に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記硬化するステップの前に、スラリに含まれた気泡を除去するための真空脱泡工程を行う請求項11に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記硬化するステップは、
低温領域では、1℃/minで温度を上昇させ、
高温領域では、5℃/minで温度を上昇させる請求項11に記載の共通モードフィルタ製造方法。 - 前記積層するステップにて、前記下部基板、前記上部基板及び前記絶縁層間の接合が行われるように、前記下部基板と前記絶縁層との間及び/または前記上部基板と前記絶縁層との間に接合層がさらに積層される請求項9に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記接合層は、フェライトパウダと、エポキシ、ポリイミド及びポリアミドよりなる群から選ばれる少なくとも一つまたは少なくとも二つの混合物からなる樹脂とを混合して形成される請求項23に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記下部基板及び前記上部基板は、フェライトで形成される請求項9に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記絶縁層は、エポキシ、ポリイミド及びポリアミドよりなる群から選ばれる少なくとも一つまたは少なくとも二つの混合物で形成される請求項9に記載の共通モードフィルタ製造方法。
- 前記絶縁層は、B2O3-SiO2系ガラス及びAl2O3-SiO2系ガラスのうちの少なくとも一つと、SiO2、B2O3、Al2O3、Li2O、MgO、CaO、SrO及びZnOのうちの少なくとも一つの低温焼成セラミックパウダとを混合して形成される請求項9に記載の共通モードフィルタ製造方法。
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