JP2015076606A - 磁性基板及びその製造方法、磁性基板と絶縁材の接合構造物、並びにその接合構造物を有するチップ部品 - Google Patents
磁性基板及びその製造方法、磁性基板と絶縁材の接合構造物、並びにその接合構造物を有するチップ部品 Download PDFInfo
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Abstract
Description
110 磁性基板
111 第1フェライトシート
112 コア層
112a 第1フェライト層
113 第2フェライトシート
114 外層
114b 第2フェライト層
120 電極層
122 絶縁層
124 コイル電極
130 磁性複合材
140 外部電極
Claims (52)
- フェライト層を有する磁性基板と、
前記磁性基板上に配置されており、内部に配置された電極を有する絶縁層と、
前記絶縁層上で前記電極に連結された外部電極と、を含み、
前記磁性基板と前記絶縁層との界面に、Si‐O‐CまたはSi‐O‐Nを含む化学的結合構造を有する、チップ部品。 - 前記磁性基板は、シラノール基(Si‐OH)を用いた化学的結合により前記絶縁層に密着されることで、前記絶縁層とともに接合構造物を成す、請求項1に記載のチップ部品。
- 前記磁性基板は、
少なくとも一つの第1フェライト層を有するコア層と、
前記コア層と前記絶縁層との間に配置され、前記コア層に比べガラスの含量が高い第2フェライト層と、を含む、請求項1に記載のチップ部品。 - 前記磁性基板は、
相対的に前記磁性基板の中央部分に配置されたコア層と、
前記コア層に比べ前記磁性基板の外側部分に配置された外層と、を含み、
前記外層は、1.0wt%〜5.0wt%のガラス成分を含有する、請求項1に記載のチップ部品。 - 前記磁性基板は、複数の前記フェライト層の積層体であり、
前記フェライト層のうち前記絶縁層に密着される前記積層体の外層は、他のフェライト層に比べガラス成分の含量が高い、請求項1に記載のチップ部品。 - 前記磁性基板は、複数の前記フェライト層の積層体であり、
前記フェライト層のうち前記絶縁層に密着される前記積層体の外層は、Bi2O3、ZnO、B2O3、及びAl2O3の少なくとも何れか一つ及びSiO2を焼成または焼結して形成されたガラス成分を含有する、請求項1に記載のチップ部品。 - 前記フェライト層のうち前記絶縁層に密着される層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物、鉄(Fe)酸化物、及びガラス成分を含有し、
前記フェライト層のうち前記外層以外の層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物及び鉄(Fe)酸化物を含有する、請求項1に記載のチップ部品。 - 前記絶縁材はポリマー絶縁層を有する、請求項1に記載のチップ部品。
- 前記絶縁材はネガ型感光性物質を有し、
前記ネガ型感光性物質は、トリフェノール誘導体(triphenol derivative)、ヒドロキシスチレン誘導体(hydroxystyrene derivative)、及びエポキシ化合物(epoxy compound)の少なくとも何れか一つを含む、請求項1に記載のチップ部品。 - 前記絶縁材は、ナフタレン系エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、りん系エポキシ樹脂、及びこれら樹脂の複合材の少なくとも何れか一つを含む、請求項1に記載のチップ部品。
- 前記絶縁材は、可溶性熱硬化性液晶オリゴマー、ビニルベンゼン系単量体、及びマルチフェノールで構成された重合体の少なくとも何れか一つを含む、請求項1に記載のチップ部品。
- 前記磁性基板は、
少なくとも一つのフェライト層を有し、相対的に前記磁性基板の中央部分に配置されたコア層と、
前記コア層に比べ前記磁性基板の外側部分に配置された外層と、を含み、
前記コア層の厚さは600μm〜900μmであり、
前記外層の厚さは150μm〜350μmである、請求項1に記載のチップ部品。 - 複数のフェライト層を有する磁性基板と、
前記磁性基板を覆う絶縁層、及び前記絶縁層に形成されたコイル電極を有する電極層と、
前記電極層を覆うとともに、前記コイル電極の一部を露出させる孔を有する磁性複合材と、
前記磁性複合材により囲まれ、前記孔を介して前記コイル電極に連結された外部電極と、を含み、
前記磁性基板は、Si‐O‐CまたはSi‐O‐Nの化学構造を有する化学的結合により前記絶縁層と互いに密着される、チップ部品。 - 前記フェライト層のうち相対的に前記絶縁層に隣接して配置された前記磁性基板の外層は、前記磁性基板の中央部分の層に比べガラス成分の含量が高い、請求項13に記載のチップ部品。
- 前記フェライト層のうち前記絶縁層に密着される前記磁性基板の外層は、1.0wt%〜5.0wt%のガラス成分を含有する、請求項13に記載のチップ部品。
- 前記フェライト層のうち前記絶縁層に密着される前記磁性基板の外層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物、鉄(Fe)酸化物、及び前記ガラス成分を含有し、
前記フェライト層のうち前記外層以外の層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物及び鉄(Fe)酸化物を含有する、請求項13に記載のチップ部品。 - 前記絶縁材は、ネガ型感光性物質を有し、
前記ネガ型感光性物質は、トリフェノール誘導体(triphenol derivative)、ヒドロキシスチレン誘導体(hydroxystyrene derivative)、及びエポキシ化合物(epoxy compound)の少なくとも何れか一つを含む、請求項13に記載のチップ部品。 - 前記絶縁材は、ナフタレン系エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、りん系エポキシ樹脂、及びこれら樹脂の複合材の少なくとも何れか一つを含む、請求項13に記載のチップ部品。
- 前記絶縁材は、可溶性熱硬化性液晶オリゴマー、ビニルベンゼン系単量体、及びマルチフェノールで構成された重合体の少なくとも何れか一つを含む、請求項13に記載のチップ部品。
- 前記チップ部品は、差動伝送方式の高速インタフェースで発生するコモンモードノイズ(common mode noise)を除去するためのコモンモードノイズフィルタである、請求項13に記載のチップ部品。
- 薄膜型または積層型の受動素子に適用されるものであって、ガラス成分の含量が異なる異種のフェライト層からなっており、前記フェライト層のうち、ガラス成分の含量が相対的に高いフェライト層が外側に配置された構造を有する、磁性基板。
- 前記外側に配置されたフェライト層の表面上にはシラノール基(Si‐OH)が形成される、請求項21に記載の磁性基板。
- 前記外側に配置されたフェライト層の表面上にはシラノール基(Si‐OH)が形成され、
前記シラノール基は、前記フェライト層の積層体を焼成または焼結することで、前記外層中の前記ガラス成分が前記積層体の焼成セルの界面に移動して形成されたものである、請求項21に記載の磁性基板。 - 前記外層中の前記ガラス成分の含量は1.0wt%〜5.0wt%である、請求項21に記載の磁性基板。
- 前記ガラス成分は、Bi2O3、ZnO、B2O3、及びAl2O3の少なくとも何れか一つ及びSiO2を焼成または焼結することで形成される、請求項21に記載の磁性基板。
- 前記外側に配置されたフェライト層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物、鉄(Fe)酸化物、及び前記ガラスを含有し、
前記外側に配置されたフェライト層以外のフェライト層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物及び鉄(Fe)酸化物を含有する、請求項21に記載の磁性基板。 - 前記外側に配置された少なくとも一つのフェライト層は前記磁性基板の外層を成し、
前記外層以外のフェライト層はコア層を成しており、
前記コア層の厚さは600μm〜900μmであり、
前記外層の厚さは150μm〜350μmである、請求項21に記載の磁性基板。 - 前記磁性基板は、コモンモードノイズフィルター(common mode noise filter:CMF)を製造するためのベース基板として用いられるものであって、
前記外側に配置されたフェライト層は、前記コモンモードノイズフィルタのコイル電極が内蔵された電極層の絶縁層に密着される層であり、
前記ガラス成分は、前記外側に配置されたフェライト層の表面上にシラノール基を形成するためのものである、請求項21に記載の磁性基板。 - フェライトシートが積層された多層構造(multilayer structure)に、焼成または焼結処理を施すことで製造され、
前記多層構造は、相対的に中央に配置されたコア層と、前記コア層上に積層され、前記多層構造の最外側に配置された外層と、を含み、
前記外層の表面上にはシラノール基(Si‐OH)が形成される、磁性基板。 - 前記外層は、前記コア層を成すフェライトシートに比べガラス含量が相対的に高いフェライトシートからなる、請求項29に記載の磁性基板。
- 前記シラノール基は、前記外層を成すフェライトシートにガラス成分を加えて生成される、請求項29に記載の磁性基板。
- 前記ガラス成分は、Bi2O3、ZnO、B2O3、及びAl2O3の少なくとも何れか一つ及びSiO2を焼成または焼結することで形成される、請求項29に記載の磁性基板。
- 前記コア層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物及び鉄(Fe)酸化物を含有し、
前記外層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物、鉄(Fe)酸化物、及び前記ガラス成分を含有する、請求項29に記載の磁性基板。 - 前記第2フェライトシート中の前記ガラス成分の含量は1.0wt%〜5.0wt%である、請求項29に記載の磁性基板。
- 前記ガラス成分は、Bi2O3、ZnO、B2O3、及びAl2O3の少なくとも何れか一つ及びSiO2を焼成または焼結することで形成される、請求項29に記載の磁性基板。
- 前記コア層の厚さは600μm〜900μmであり、
前記外層の厚さは150μm〜350μmである、請求項29に記載の磁性基板。 - 第1フェライトシートを準備する段階と、
前記第1フェライトシートに比べガラス成分の含量が相対的に高い第2フェライトシートを準備する段階と、
前記第1フェライトシート上に前記第2フェライトシートを積層することで、シート積層体を製造する段階と、
前記シート積層体を焼成または焼結する段階と、を含む、磁性基板の製造方法。 - 前記第2フェライトシートを準備する段階は、
Bi2O3、ZnO、B2O3、及びAl2O3の少なくとも何れか一つを含有する粉末とSiO2粉末との混合物を準備する段階と、
前記混合物にバインダー及び溶媒を混合してスラリーを製造する段階と、
前記スラリーをシート化する段階と、を含む、請求項37に記載の磁性基板の製造方法。 - 前記第1フェライトシートを準備する段階は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物を含有する粉末及び鉄(Fe)酸化物を含有する粉末を含むフェライト原料をキャストする段階を含み、
前記第2フェライトシートを準備する段階は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物を含有する粉末、鉄(Fe)酸化物を含有する粉末、及び前記ガラス成分を含有する粉末を含むフェライト原料をキャストする段階を含む、請求項37に記載の磁性基板の製造方法。 - 前記シート積層体を製造する段階は、
複数の前記第1フェライトシートを積層してコア層を製造する段階と、
前記コア層の少なくとも一面上に前記第2フェライトシートを積層して外層を製造する段階と、を含む、請求項37に記載の磁性基板の製造方法。 - フェライト層を有する磁性基板と、
Si‐O‐CまたはSi‐O‐Nを含む化学的結合構造により前記磁性基板に密着された絶縁材と、を含む、磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記磁性基板は、シラノール基(Si‐OH)を用いた化学的結合により前記絶縁材に密着される、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。
- 前記磁性基板は、
少なくとも一つの第1フェライト層を有するコア層と、
前記絶縁材に隣接して配置され、前記コア層に比べガラス含量が高い第2フェライト層と、を含む、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記磁性基板は、
相対的に前記磁性基板の中央部分に配置されたコア層と、
前記絶縁材に密着されるように前記基板の外側部分に配置された外層と、を含み、
前記外層は、1.0wt%〜5.0wt%のガラス成分を含有する、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記磁性基板は、複数の前記フェライト層の積層体であり、
前記フェライト層のうち前記絶縁材に密着されるフェライト層は、Bi2O3、ZnO、B2O3、及びAl2O3の少なくとも何れか一つ及びSiO2を焼成または焼結して形成されたガラス成分を含有する、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記フェライト層のうち前記絶縁材に密着される層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物、鉄(Fe)酸化物、及びガラス成分を含有し、
前記フェライト層のうち前記外層以外の層は、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、及び銅(Cu)の少なくとも何れか一つの酸化物及び鉄(Fe)酸化物を含有する、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記絶縁材はポリマー絶縁層を有する、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。
- 前記絶縁材は、ネガ型感光性物質を有し、
前記ネガ型感光性物質は、トリフェノール誘導体(triphenol derivative)、ヒドロキシスチレン誘導体(hydroxystyrene derivative)、及びエポキシ化合物(epoxy compound)の少なくとも何れか一つを含む、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記絶縁材は、ナフタレン系エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、りん系エポキシ樹脂、及びこれら樹脂の複合材の少なくとも何れか一つを含む、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。
- 前記絶縁材は、可溶性熱硬化性液晶オリゴマー、ビニルベンゼン系単量体、及びマルチフェノールで構成された重合体の少なくとも何れか一つを含む、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。
- 前記磁性基板は、
少なくとも一つのフェライト層を有し、相対的に前記基板の中央部分に配置されたコア層と、
前記コア層に比べ前記基板の外側部分に配置された外層と、を含み、
前記コア層の厚さは600μm〜900μmであり、
前記外層の厚さは150μm〜350μmである、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。 - 前記磁性基板はコモンモードノイズフィルタのベース基板であり、
前記絶縁材は、前記ベース基板上にコイル電極を形成するために、前記磁性基板の表面粗さに比べ小さい表面粗さを有する絶縁層である、請求項41に記載の磁性基板と絶縁材の接合構造物。
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