JP2013139607A - ガス生成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】筒状のハウジング51と、電解槽から発生したガスを導入するガス導入口52と、ハウジングからガスを導出させるガス導出口53と、ガス導入口52とガス導出口53の間に位置し、ミストや微粒子を吸着させるための充填材56を収容する充填材収容部58と、ガス導入口52と充填材収容部58の間に位置しており、電解槽1から発生したガスをハウジング51内に拡散させるためのガス拡散部57と、を備えたミストトラップ50aを有し、ガス導出口52は、ハウジング51内に通ずるガス導入チューブ55を有しており、ガス導入チューブ55のガス入口部59が、前記充填材収容部58に収容された充填材56に埋もれるように配置されているガス生成装置100。
【選択図】図2
Description
上記の本発明の実施の形態以外に、他の変形例として、フッ素ガスの発生に随伴する溶融塩由来のミストや微粒子を除去するための主生ガスのミストトラップ50aと、水素ガスの発生に随伴する溶融塩由来のミストや微粒子を除去するための副生ガスのミストトラップ50bを、一体化して使用してもよい。
1 電解槽
2 フッ素ガス供給系
3 副生ガス供給系
4 外部装置
5 原料供給系
7 陽極
8 陰極
11a 第1気室
12a 第2気室
15 第1メイン通路
17 第1ポンプ
20 精製装置
30 第2メイン通路
31 第2ポンプ
50a、50b ミストトラップ
51 ハウジング
52 ガス導入口
53 ガス導出口
54 堰板
55 ガス導入チューブ
56 充填材
57 ガス拡散部
58 充填材収容部
59 ガス入口部
60 筐体
Claims (4)
- フッ化水素を含む溶融塩中のフッ化水素を電気分解することによって、ガスを生成するガス生成装置であって、
フッ化水素を含む溶融塩からなる電解浴中でフッ化水素を電解することによってガスを発生させる電解槽と、
前記ガスの発生に随伴する溶融塩由来のミストや微粒子を除去するミストトラップと、を備え、
前記ミストトラップは、
ガスを流通させる筒状のハウジングと、
前記電解槽から発生したガスを導入するガス導入口と、
前記ハウジングからガスを導出させるガス導出口と、
前記ガス導入口と前記ガス導出口の間に位置し、ミストや微粒子を吸着させるための充填材を収容する充填材収容部と、
前記ガス導入口と前記充填材収容部の間に位置しており、前記電解槽から発生したガスをハウジング内に拡散させるためのガス拡散部と、を有し、
前記ガス導出口は、ハウジング内に通ずるガス導入チューブを有しており、前記ガス導入チューブのガス入口部が、前記充填材収容部に収容された充填材に埋もれるように配置されていることを特徴とするガス生成装置。 - 前記ハウジングは、横長形状であり、
前記ハウジングの長手方向において、前記ガス導入口は、ハウジングの一方の端面部よりに設けられ、前記ガス導出口は、ハウジングの他方の端面部よりに設けられる、請求項1のガス生成装置。 - 前記ガスが、フッ素ガスを主成分とする主生ガスと、水素ガスを主成分とする副生ガスからなり、
前記主生ガスのミストや微粒子を除去する主生ガスミストトラップと、前記副生ガスのミストや微粒子を除去する副生ガスミストトラップと、を備え、
前記主生ガスミストトラップと前記副生ガスミストトラップとが、ハウジングの端面部を介して、一体化される、請求項1又は請求項2のガス生成装置。 - 前記電解槽と前記ミストトラップとが、同一の筐体に収容される、請求項1から請求項3の何れかのガス生成装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012000409A JP5919824B2 (ja) | 2012-01-05 | 2012-01-05 | ガス生成装置 |
PCT/JP2012/077285 WO2013103041A1 (ja) | 2012-01-05 | 2012-10-23 | ガス生成装置 |
US14/370,708 US9708720B2 (en) | 2012-01-05 | 2012-10-23 | Gas generation device |
KR1020147021561A KR101704649B1 (ko) | 2012-01-05 | 2012-10-23 | 가스 생성 장치 |
TW101149180A TW201331420A (zh) | 2012-01-05 | 2012-12-21 | 氣體生成裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012000409A JP5919824B2 (ja) | 2012-01-05 | 2012-01-05 | ガス生成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013139607A true JP2013139607A (ja) | 2013-07-18 |
JP5919824B2 JP5919824B2 (ja) | 2016-05-18 |
Family
ID=48745108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012000409A Active JP5919824B2 (ja) | 2012-01-05 | 2012-01-05 | ガス生成装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9708720B2 (ja) |
JP (1) | JP5919824B2 (ja) |
KR (1) | KR101704649B1 (ja) |
TW (1) | TW201331420A (ja) |
WO (1) | WO2013103041A1 (ja) |
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- 2012-01-05 JP JP2012000409A patent/JP5919824B2/ja active Active
- 2012-10-23 US US14/370,708 patent/US9708720B2/en active Active
- 2012-10-23 KR KR1020147021561A patent/KR101704649B1/ko active IP Right Grant
- 2012-10-23 WO PCT/JP2012/077285 patent/WO2013103041A1/ja active Application Filing
- 2012-12-21 TW TW101149180A patent/TW201331420A/zh unknown
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US9708720B2 (en) | 2017-07-18 |
TW201331420A (zh) | 2013-08-01 |
JP5919824B2 (ja) | 2016-05-18 |
WO2013103041A1 (ja) | 2013-07-11 |
KR101704649B1 (ko) | 2017-02-08 |
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