JP2009215588A - フッ素ガス発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フッ素ガス発生装置は、フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を、電解槽内で電気分解してフッ素を含むガスを発生するフッ素ガス発生装置であって、電解槽から発生したガスに含まれている不純物を除去する除害塔5aを有しており、除害塔5aが、ガス導入口31と、ガス導出口32と、ガス導入口31とガス導出口32との間に充填されている除害剤33とを備え、ガス導入口31と除害剤33とが、ガスを透過でき且つ除害剤33の通過を阻止できる離隔手段34により空間を介して隔てられているものである。また、離隔手段34が、ガス導出口32側の方向に向かって、窪んだ形状を有している。
【選択図】図2
Description
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置を運転させて、第1除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。なお、除害剤には、ペレット状のフッ化ナトリウム(以下、NaFペレットと呼ぶ)を用い、下記に述べる実施例並びに比較例においても、除害剤に、NaFペレットを用いた。
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置において、本実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔及び第2除害塔の代わりに、第3実施形態に係る第1除害塔と同様の構成を有する除害塔をそれぞれ用いたフッ素ガス発生装置を運転させて、第1除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置において、本実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔及び第2除害塔の代わりに、第2実施形態に係る第1除害塔と同様の構成を有する除害塔をそれぞれ用いて、フッ素ガス発生装置を運転させて、第1除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置において、本実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔及び第2除害塔の代わりに、図14に示す従来の除害塔と同様の構成を有した除害塔をそれぞれ用いて、フッ素ガス発生装置を運転させて、除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。
次に、実施例1〜3及び比較例1に係るフッ素ガス発生装置の運転終了後、実施例1〜3及び比較例1で用いたフッ素ガス発生装置の第1除害塔に充填されているガス導入口側の除害剤のNaFペレット及びガス導出口側の除害剤のNaFペレットを採取して、X線回折(XRD)による分析を行った。また、実施例1〜3及び比較例1に係るフッ素ガス発生装置の運転終了後、実施例1〜3及び比較例1で用いたフッ素ガス発生装置に設けられている圧力調整弁の内部のNaFの粉体の付着の状態を調べた。これらX線回折(XRD)で同定された結果及び圧力調整弁の内部のNaFの粉体の付着の状態の結果を、下記表2に示す。
2 陰極室
3 電解槽
4 電解浴
5a、15a、415a、515a、615a、715a、815a、915a、1115a、1215a、1315a、1415a、1515a 第1除害塔
5b 第2除害塔
6a、6b 圧力計
7a 第1圧力調整弁
7b 第2圧力調整弁
8 フッ素ガス発生口
9 水素ガス発生口
10 加温ヒーター
11a、11b フィルター
16 隔壁
17 陽極
18 陰極
19 上蓋
20 第1液面検知手段
21 第2液面検知手段
31、41、51、61、71、81、91、111、121、131、141、151、201 ガス導入口
32、42、52、62、72、82、92、112、122、132、142、152、202 ガス導出口
33、43、53、63、73、83、93、113、123、133、143、153、203 除害剤
34、44、54、64、74、84、94、114、124、134、144、154 底網
35、45、55、65、75、85、95、115、125、135、145、155 空間
36a、36b、46a、46b、56a、56b、66a、66b、76a、76b、86a、86b、96a、96b、116a、116b、126a、126b、136a、136b、146a、146b、156a、156b、206a、206b 縁切り弁
47、67、87、117、137、157 フィルター
49、69、89、119、139、159 ガス導出口側空間部
100 フッ素ガス発生装置
2000 除害塔
Claims (4)
- フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を、電解槽内で電気分解してフッ素を含むガスを発生するフッ素ガス発生装置であって、
前記電解槽から発生したガスに含まれている不純物を除去する除害塔を有しており、
前記除害塔が、
前記電解槽から発生したガスを導入させるガス導入口と、
前記除害塔からガスを導出させるガス導出口と、
前記ガス導入口と前記ガス導出口との間に充填されている除害剤とを備え、
前記ガス導入口と前記除害剤との間に位置しており、ガスを透過でき且つ除害剤の通過を阻止できる離隔手段とを備え、
前記離隔手段が、前記ガス導入口と前記除害剤との間において、前記離隔手段よりも前記ガス導入口側に空間を形成するように位置していることを特徴とするフッ素ガス発生装置。 - 前記離隔手段が、前記ガス導出口側の方向に向かって、窪んだ形状を有しているものであることを特徴とする請求項1に記載のフッ素ガス発生装置。
- 前記除害塔が、前記除害剤と前記ガス導出口との間に設けられているフィルターを有しているものであることを特徴とする請求項1又は2に記載のフッ素ガス発生装置。
- 前記除害塔が、前記除害剤と前記ガス導出口との間に設けられた前記ガス導出口側空間部を有し、
前記フィルターが、前記ガス導出口側空間部に設けられていることを特徴とする請求項3に記載のフッ素ガス発生装置。
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