JP5238299B2 - フッ素ガス発生装置 - Google Patents

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Description

本発明は、フッ素ガスを発生させるフッ素ガス発生装置に関するものである。
フッ素ガス発生装置は、電解浴及び電極を内部に有した電解槽と、除害剤が充填された除害塔とを有している。そして、除害塔において、電解槽で発生したガスに含まれた不要な成分を取り除き、純度の高いフッ素ガスを生成するものである。このような、不要な成分を取り除く除害装置として、下記特許文献1に開示されているような装置が公知となっている。この特許文献1の除害装置は、不要なガスを除害処理する薬剤が充填された処理筒を有しており、処理筒内が、区切り板によって小室に区切られており、この区切り板に千鳥配列となるように、ガス通路が設けられている。
特開2006−55854号公報
上記特許文献1の除害装置の処理筒は、ガスの流れが蛇行状になるように、ガス通路が設けられているので、ガスの流れが抑制されるとともに、薬剤とガスとが十分に接して、ガス処理効率を向上させることができる。しかしながら、ガス通路にミストが通過する場合は、ミスト中に分散した液滴によって処理筒入口の薬剤が膨張や融着することがあり、薬剤の目詰まりが生じるおそれがあった。このような目詰まりが生じると、ガスの流れが抑えられるので、装置の運転を中断して、薬剤を全て使い切る前に薬剤の交換が必要となるおそれがあった。これによって、処理筒のメンテナンスの頻度が多くなり、装置全体の連続運転が中断されるおそれがあった。
そこで、本発明は、除害剤の目詰まりを抑止して、除害塔のメンテナンスの頻度を少なくでき、フッ素ガス発生装置の連続運転を長くできるフッ素ガス発生装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段及び効果
本発明のフッ素ガス発生装置は、フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を、電解槽内で電気分解してフッ素を含むガスを発生するフッ素ガス発生装置であって、前記電解槽から発生したガスに含まれている不純物を除去する除害塔を有しており、前記除害塔が、前記電解槽から発生したガスを導入させるガス導入口と、前記除害塔からガスを導出させるガス導出口と、前記ガス導入口と前記ガス導出口との間に充填されている除害剤と、前記ガス導入口と前記除害剤との間に位置しており、ガスを透過でき且つ除害剤の通過を阻止できる離隔手段とを備え、前記除害塔内には、前記離隔手段の下方において、前記ガス導入口と前記離隔手段との間に空間が形成されており、前記離隔手段が、前記ガス導出口側の方向に向かって、窪んだ形状を有しているものである。また、前記ガス導入口が、前記空間の上下方向の途中に設けられていることが好ましい。
上記構成によると、電解槽から発生したガスに溶融塩の液滴が分散したミストが、除害塔に導入されると、ミストは空間に放散されて、空間内で溶融塩の液滴が沈降するので、除害剤に溶融塩の液滴が吸収されることが抑止でき、除害剤の目詰まりを生じにくいものとすることができる。また、ミストが、空間に放散されてから離隔手段を介して除害剤に接触するので、ミストが除害剤に局所的に接触することを抑止できるとともに、除害塔内のガスの圧力損失を低下させることができる。これによって、除害剤を通過するガスの流れが良好になり、除害剤の交換回数を減らすことができるので、除害塔のメンテナンスの頻度を少なくでき、フッ素ガス発生装置の連続運転を長くできるフッ素ガス発生装置を提供することができる。
また、上記構成によると、離隔手段が、窪んだ形状を有しているので、窪んでいない平板状のものに比べて表面積が大きくなり、ミスト中に分散した溶融塩の液滴をより除去しやすくなる。これにより、除害剤の目詰まりをより抑止することができるとともに、ガスの圧力損失をより低下させることができる。
また、本発明のフッ素ガス発生装置においては、前記除害塔が、前記除害剤と前記ガス導出口との間に設けられているフィルターを有しているものであることが好ましい。
上記構成によると、除害塔において、除害剤を通過したガスはフィルターを通過して除害塔から導出されるので、除害剤から発生する粉末や除害剤によって除害できなかった不純物をフィルターにおいてさらに除去できる。これにより、不純物のより少ないガスを供給することができるフッ素ガス発生装置を提供することができる。
また、本発明のフッ素ガス発生装置においては、前記除害塔が、前記除害剤と前記ガス導出口との間に設けられた前記ガス導出口側空間部を有し、前記フィルターが、前記ガス導出口側空間部に設けられていることが好ましい。
上記構成によると、除害剤から発生した粉末や不純物が、ガス導出口側空間部に広がり、重力によって、粉末や不純物の一部を沈降させることができると共に、フィルターの周囲にガス導出口側空間部が形成されているので、フィルターへのガス接触効率が高められ、ガスに含まれた不純物を効率よく除去しつつガスを供給できるフッ素ガス発生装置を提供することができる。
以下、本発明に係るフッ素ガス発生装置の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置の主要部の概略構成図である。図2は、本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置の除害塔の断面模式図である。
図1において、フッ素ガス発生装置100は、陽極室1と陰極室2とを備えた電解槽3と、電解槽3に収容されている電解浴4と、電解槽3から発生したガスに含まれるフッ化水素を除去する第1除害塔5a及び第2除害塔5bと、陽極室1に設けられている圧力計6aと、陰極室2に設けられている圧力計6bと、第1除害塔5aより下流側に設けられている第1圧力調整弁7aと、第2除害塔5bより下流側に設けられている第2圧力調整弁7bと、電解槽3の陽極室1側に設けられているフッ素ガス発生口8と、電解槽3の陰極室2側に設けられている水素ガス発生口9とを有している。また、電解槽3の外側には、加温ヒーター10が設けられている。さらに、第1除害塔5aと圧力調整弁7aとの間にフィルター11aが配置されており、第2除害塔5bと圧力調整弁7bとの間にフィルター11bが配置されている。
電解槽3は、Ni、モネル、純鉄、ステンレス鋼等の金属や合金で形成されている。電解槽3は、モネルからなる隔壁16によって、陽極室1及び陰極室2に分離されている。陽極室1には、陽極17が配置されている。陰極室2には、陰極18が設けられている。なお、陽極17には低分極性炭素電極を使用することが好ましい。また、陰極18としては、Niや鉄等を使用することが好ましい。電解槽3の上蓋19には、電解槽3を陽極室1と陰極室2とに分離している隔壁16と、陽極室1から発生したガスを排出させるフッ素ガス発生口8と、陰極室2から発生したガスを排出させる水素ガス発生口9と、電解浴4の液面高さが低下した場合にフッ化水素を供給するフッ化水素供給ライン(図示せず)からのフッ化水素導入口(図示せず)と、陽極室1の電解浴4の液面レベルを検知する第1液面検知手段20と、陰極室2の液面レベルを検知する第2液面検知手段21と、陽極室1の圧力を測定する圧力計6a、陰極室2の圧力を測定する圧力計6bとが設けられている。
電解浴4は、フッ化カリウム−フッ化水素系やフッ化アンモニウム−フッ化水素系の混合溶融塩で、電解槽3内部に満たされているものである。電解浴4に用いられる混合溶融塩は、室温より高い融点を有するものが多いので、電解槽3の外周部に加温ヒーター10が設けられている。電解浴4に用いられる混合溶融塩の融点の例として、例えば、約70℃(KF・2HF)や約50℃(NHF・2HF)がある。
第1除害塔5aは、陽極室1から発生する不要な成分を除去するものである。第1除害塔5aは、例えば、電解浴4にフッ化水素が含まれている場合で、電気分解によりフッ素ガスを発生させるときには、フッ素ガス及びフッ化水素に対して耐食性を有する材料、例えば、ステンレス鋼、モネル、Niで形成されていることが好ましい。また、第1除害塔5aの内部にはフッ化ナトリウム(以下、NaFとする)が充填されており、導入されたフッ素ガス中に含まれるフッ化水素等を除去することができる。
ここで、図2を用いて、第1除害塔5aの内部を詳細に説明する。図2において、第1除害塔5aは、電解槽3から発生したガスを導入させるガス導入口31と、第2除害塔5bからガスを導出させるガス導出口32と、ガス導入口31とガス導出口32との間に充填されている除害剤33と、ガス導入口31と除害剤33との間に位置しており、ガスを透過でき且つ除害剤33の通過を阻止できる底網(離隔手段)34とを備えている。ここで、底網34は、ガス導入口31と除害剤33との間において、底網34よりガス導入口31側に空間35を形成するように位置している。これにより、ガス導入口31から導入されたガスは、空間35に放散されてから底網34を介して除害剤33へと流れていく。また、本実施形態において、底網34は、第1除害塔5aのガス導出口32側の端部から約20cmの高さの位置に設けられているが、底網を設ける位置は、除害剤の量などに合わせて適宜変更してよい。なお、底網34として、例えば、網目状の部材、スポンジ状の部材、多孔質構造やメッシュ構造を有した焼結体に凹凸を形成したもの等を用いることができる。また、フッ素ガス発生口8とガス導入口31との間を接続している配管には、縁切り弁36aが設けられている。これらの縁切り弁36a、36bによって、第1除害塔5aへ導入されるガス及び第1除害塔5aから導出されるガスの量を調整することができる。また、ガス導出口32とフィルター11aとの間を接続している配管にも、縁切り弁36bが設けられている。なお、本実施形態において、ガス導入口31は第1除害塔5aの側面に設けられているが、第1除害塔5aの底部に設けられているものを用いてもよい。また、本実施形態において、ガス導出口32が、第1除害塔5aの側面に用いられているものを用いても良い。
第2除害塔5bは、陰極室2から発生する不要な成分を除去するものであり、前述した第1除害塔5aと同様に、例えば、電解浴4にフッ化水素が含まれている場合で、電気分解により水素ガスを発生させるときには、フッ素ガス及びフッ化水素に対して耐食性を有する材料、例えば、ステンレス鋼、モネル、Niで形成されていることが好ましい。また、第2除害塔5bの内部にはNaF、炭酸カルシウム(CaCO)酸化カルシウム(CaO)等を用いて形成された除害剤が装填されており、導入されたガス中に含まれるフッ化水素等を除去することができる。そして、第2除害塔5bは、図2に示す第1除害塔5aと同様の構成を有している。なお、本実施形態において、第2除害塔5bは、第1除害塔5aと同様の構成を有しているものであるが、異なる構成を有しているものを用いてもよい。例えば、第2除害塔5bが、内部全体に除害剤が充填された、図14に示す従来の除害塔と同様の構成を有するものや、後述する他の実施形態にかかる構成を有するものを用いてもよい。ここで、図14に示す除害塔は、図示しない電解槽から発生したガスを導入させるガス導入口201と、除害塔2000からガスを導出させるガス導出口202と、除害塔2000内部のガス導出口側端部からガス導入口側端部にかけて充填されている除害剤203とを有しており、第1除害塔5aに示した離隔手段34、空間35が設けられていないものである。また、図示しないフッ素ガス発生口とガス導入口201との間を接続している配管には、縁切り弁206aが設けられている。さらに、ガス導出口202と図示しない除害塔の下流に設けられたフィルターとの間を接続している配管にも、縁切り弁206bが設けられている。
圧力計6aは、陽極室1の圧力を測定するものである。そして、この測定結果に応じて、第1圧力調整弁7aが開閉して、陽極室1が減圧になることを抑止する。圧力計6bは、陰極室2の圧力を測定するものである。そして、この測定結果に応じて、第1圧力調整弁7aが開閉して、陰極室2が減圧になることを抑止する。
第1圧力調整弁7aは、第1除害塔5aより下流に設けられており、圧力計6aの圧力に応じて連動して開閉するものである。これによって、陽極室1の圧力が調整されて、陽極室1が減圧になることを抑止する。
第2圧力調整弁7bは、第2除害塔5bより下流に設けられており、上述の第1圧力調整弁7aと同様に、圧力計6bの圧力に応じて連動して開閉するものである。これによって、陰極室2の圧力が調整されて、陰極室2が減圧になることを抑止する。
フッ素ガス発生口8は、上蓋19に設けられており、陽極室1から発生するガスのガス発生口である。また、水素ガス発生口9は、上蓋19に設けられており、陰極室2から発生するガスのガス発生口である。
加温ヒーター10は、電解槽3の側面及び底部に設けられており、電解槽3を介して電解浴4を加熱するものである。なお、加温ヒーター10は、図示しない温度計の信号によって作動するものを用いることができる。
フィルター11a、11bは、焼結金属又は合金で構成された多孔質構造又はメッシュ構造を有するものであることが好ましい。このフィルター11a、11bの材質としては、例えば、ステンレス鋼、Ni、モネル、ハステロイなどが挙げられる。なお、本実施形態において、フィルター11aは、第1除害塔5aと圧力調整弁7aとの間に設けられており、フィルター11bは第2除害塔5bと第2圧力調整弁7bとの間に設けられている。
次に、本実施形態のフッ素ガス発生装置100を運転させた際の、電解槽3の陽極室1から発生したガスの流れについて説明する。電解浴4の電気分解が行われると、陽極室1から発生し陽極室1に滞留したフッ素ガスやフッ化水素を含むガスに、電解浴4から飛散した溶融塩の液滴が分散したミストがフッ素ガス発生口8から放出される。そして、第1除害塔5aへと導かれ、開いている縁切り弁36aを通過してガス導入口31から第1除害塔5a内部へ導かれる。その後、ミストは、空間35に広がり放散する。このとき、空間35内において、ミスト中に分散した溶融塩の液滴は沈降していき、ミスト中から溶融塩液滴の一部が取り除かれる。そして、空間35内に放散されたミストは、底網34を介して除害剤33を通過する。なお、ミストは、底網34を通過する前に、一旦空間35へ広がり放散されるので、ミストが、除害剤33に局所的に接触することなく、除害剤33と十分に接触して、除害剤33を通過していく。この除害剤33の通過中に、ミスト中のフッ化水素ガスや溶融塩の液滴は除去される。そして、除害剤33を通過したガスは、ガス導出口32から第1除害塔5a外へ放出され、フッ素ガス発生装置100の外部へと導かれる。
一方、陰極室2では、電解浴4の電気分解が行われると、陰極室2から発生し陰極室2に滞留した水素ガスやフッ化水素を含むガスに、電解浴4から飛散した溶融塩の液滴が分散したミストが水素ガス発生口9から放出される。そして、第2除害塔5bへと導かれ、開いている縁切り弁36aを通過してガス導入口31から第1除害塔5a内部へ導かれる。その後、ミストは、空間35に広がり放散する。このとき、空間35内において、ミストは沈降していき、ミスト中に分散した溶融塩の液滴は沈降していき、ミスト中から溶融塩の一部が取り除かれる。そして、空間35内に放散されたミストは、底網34を介して除害剤33を通過する。なお、ミストは、底網34を通過する前に、一旦空間35へ広がり放散されるので、ミストが、除害剤33に局所的に接触することなく、除害剤33と十分に接触して、除害剤33を通過していく。この除害剤33の通過中に、ミスト中のフッ化水素ガスや溶融塩の液滴は除去される。そして、除害剤33を通過したガスは、ガス導出口32から第2除害塔5b外へ放出され、フッ素ガス発生装置100の外部へと導かれる。
本実施形態によると、電解槽3から発生したガスに溶融塩の液滴が分散したミストが、第1除害塔5a及び第2除害塔5bへ導入されると、ミストは空間に放散されて、空間内で溶融塩の液滴が沈降するので、除害剤33に溶融塩の液滴が吸収されることが抑止でき、除害剤33の目詰まりを生じにくいものとすることができる。また、ミストが、空間35に放散されてから底網34を介して除害剤33に接触するので、ミストが除害剤33に局所的に接触することを抑止できるとともに、第1除害塔5a及び第2除害塔5b内のガスの圧力損失を低下させることができる。これによって、除害剤33を通過するガスの流れが良好になり、除害剤33の交換回数を減らすことができるので、第1除害塔5a及び第2除害塔5bのメンテナンスの頻度を少なくでき、フッ素ガス発生装置100の連続運転を長くできるフッ素ガス発生装置100を提供することができる。
次に、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の他の実施形態について説明する。図3〜図8は、本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の他の実施形態を示す図である。なお、第1実施形態におけるフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aにおける符号31〜36bがふられている各部と、本実施形態において符号41〜46b、51〜56b、61〜66b、71〜71b、81〜86b、91〜96b、111〜116b、121〜126b、131〜136b、141〜146b、151〜156bがふられている各部は、順に同様のものであるので、説明を省略することがある。
図3は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第2実施形態を示している。本実施形態は、第1除害塔415aに、(1)除害剤43とガス導出口42との間にガス導出口側空間部49が設けられている点、(2)除害剤43とガス導出口42との間に筒状のフィルター47が設けられている点、及び、(3)除害剤43のガス導出口42側と反対側の端部に、除害剤44の飛散を抑止する図示しない部材、例えば、網目状の部材が設けられている点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。
上記構成を有する第1除害塔415aをフッ素ガス発生装置に用いると、本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の効果が得られる。また、筒状のフィルター47が設けられているので、除害剤43を通過したガスはフィルター47を通過して第1除害塔415aから導出されるので、除害剤43から発生する粉末や除害剤43によって除害できなかった不純物をフィルター47においてさらに除去できる。これにより、不純物のより少ないガスを供給することができるフッ素ガス発生装置を提供することができる。さらに、除害剤43から発生した粉末や不純物が、ガス導出口側空間部49に広がり、重力によって、粉末や不純物の一部を沈降させることができると共に、フィルター47の周囲にガス導出口側空間部49が形成されているので、フィルター47へのガス接触効率が高められ、ガスに含まれた不純物を効率よく除去しつつガスを供給できる。
図4は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第3実施形態を示している。本実施形態は、底網(離隔手段)54が、ガス導出口52側に窪んだ、ガス導出口52側に頂点を有する円錐形状のものであり、且つ、底網(離隔手段)54の縦方向の断面が、ガス導出口52側にくの字状に約120度屈曲しているものである点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。なお、窪んでいる角度は、本実施形態において、120度のものを示したが、120度屈曲している形状の代わりに、例えば30〜150度に屈曲した形状を有しているものを用いてもよい。
上記構成を有する第1除害塔515aをフッ素ガス発生装置に用いると、本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の効果が得られる。また、底網54が、第1除害塔515aのガス導出口52側に窪んだ円錐形状を有しているので、窪んでいない平板状のものに比べて表面積が大きくなり、ガスに含まれているミストを、より除去できる。これにより、除害剤53の目詰まりをより抑止することができるとともに、ガスの圧力損失をより低下させることができる。
図5は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第4実施形態を示している。本実施形態は、(1)除害剤63とガス導出口62との間にガス導出口側空間部69が設けられている点、(2)底網(離隔手段)64が、ガス導出口62側に窪んだ、ガス導出口62側に頂点を有する円錐形状のものであり、且つ、底網64の断面が、ガス導出口62側にくの字状に約120度屈曲しているものである点、(3)除害剤63とガス導出口62との間に筒状のフィルター67が設けられている点、及び、(4)除害剤63の底網64側と反対側の端部に、除害剤63の飛散を抑止する図示しない部材、例えば、網目状の部材が設けられている点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。なお、窪んでいる角度は、本実施形態において、120度のものを示したが、120度窪んでいる形状の代わりに、例えば30〜150度に窪んだ形状を有しているものを用いてもよい。
上記構成を有する第1除害塔をフッ素ガス発生装置に用いると、本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の効果が得られる。また、底網64が、第1除害塔615aのガス導入口61側に窪んだ円錐形状を有しているので、窪んでいない平板状のものに比べて表面積が大きくなり、ガスに含まれているミストをより除去できる。これにより、除害剤63の目詰まりをより抑止することができるとともに、ガスの圧力損失をより低下させることができる。さらに、筒状のフィルター67が設けられているので、第1除害塔615aにおいて、除害剤63を通過したガスはフィルター67を通過して第1除害塔615aから導出されるので、除害剤63から発生する粉末や除害剤63によって除害できなかった不純物をフィルター67においてさらに除去できる。これにより、不純物のより少ないガスを供給することができるフッ素ガス発生装置を提供することができる。
図6は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第5実施形態を示している。本実施形態は、(1)底網(離隔手段)74が、ガス導出口72側に半球形状に窪んだ形状を有しており、底網74の縦方向の断面が、ガス導出口72側に弓状に湾曲した形状を有しているものである点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。
上記構成を有する第1除害塔715aをフッ素ガス発生装置に用いると、本発明の第3離隔手段に係る第1除害塔515aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図7は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第6離隔手段を示している。本実施形態は、(1)除害剤83とガス導出口82との間にガス導出口側空間部89が設けられている点、(2)底網(離隔手段)84がガス導出口82側に半球形状に窪んだ形状を有しており、底網84の縦方向の断面が、ガス導出口82側に弓状に湾曲した形状を有しているものである点(3)除害剤83とガス導出口82との間に筒状のフィルター87が設けられている点、及び、(4)除害剤83の底網84側と反対側の端部に、除害剤83の飛散を抑止する図示しない部材、例えば、網目状の部材が設けられている点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。
上記構成を有する第1除害塔815aをフッ素ガス発生装置に用いると、本発明の第4実施形態に係る第1除害塔615aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図8は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第7実施形態を示している。本実施形態は、底網(離隔手段)94が、ガス導出口92側の他端が閉塞され、ガス導入口91側の一端が外側に広がるように開口した筒状を有したものであり、底網94の縦方向の断面が、テーパー形状(除害剤93のガス導入口91側の端部側からガス導出口92側にかけて縮径した形状)を有しているものである点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。なお、本実施形態において、底網94の縦方向の断面の側面が、ガス導出口92側にかけてテーパー形状を有しているものを用いたが、代わりに、例えば、階段形状を有しているもの、凹凸形状を有しているもの又は弓状に湾曲した形状を有しているものを用いてもよい。
上記構成を有する第1除害塔915aをフッ素ガス発生装置に用いると、本発明の第3実施形態に係る第1除害塔515aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図9は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第8実施形態を示している。本実施形態は、(1)除害剤113とガス導出口112との間にガス導出口側空間部119が設けられている点、(2)底網(離隔手段)114が、他端が閉塞され、一端が外側に広がるように開口した円筒形状を有したものであり、底網114の縦方向の断面が、テーパー形状(除害剤113のガス導入口111側の端部側からガス導出口112側にかけて縮径した形状)をものである点、(3)除害剤113とガス導出口112との間に筒状のフィルター117が設けられている点、及び、(4)除害剤113の底網114側と反対側の端部に、除害剤113の飛散を抑止する図示しない部材、例えば、網目状の部材が設けられている点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。
上記構成を有する第1除害塔1115aをフッ素ガス発生装置に用いると、第4実施形態に係る第1除害塔615aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図10は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第9実施形態を示している。本実施形態は、底網(離隔手段)124が、第1除害塔1215aのガス導出口122側に窪んだ、複数の円錐形状が形成されており、底網124の縦方向の断面が、ガス導出口122側に突出した複数の連続した山型形状を有しているものである点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。なお、本実施形態において、底網124に、ガス導出口122側に突起した円錐形状のものを用いたが、代わりに、例えば、球形状のものや、角錘形状のもの、波状に繰り返し形成された凹凸形状のものを用いてもよい。
上記構成を有する第1除害塔1215aをフッ素ガス発生装置に用いると、第3実施形態に係る第1除害塔515aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図11は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第10実施形態を示している。本実施形態は、(1)除害剤133とガス導出口132との間にガス導出口側空間部139が設けられている点、(2)底網(離隔手段)134が、第1除害塔1315aのガス導出口132側に突出した円錐形状が形成されており、底網134の縦方向の断面が、ガス導出口132側に突出した複数の連続した山型形状を有しているものである点、(3)除害剤133とガス導出口132との間に筒状のフィルター137が設けられている点、及び、(4)除害剤133の底網134側と反対側の端部に、除害剤133の飛散を抑止する図示しない部材、例えば、網目状の部材が設けられている点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。
上記構成を有する第1除害塔1315aをフッ素ガス発生装置に用いると、第4実施形態に係る第1除害塔615aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図12は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第11実施形態を示している。本実施形態は、底網(離隔手段)144が、ガス導出口142側に球体状に窪んだ形状を有しており、底網144の断面が、ガス導出口142側に弓状に湾曲した形状を有しており、且つ、底網144の表面に凹凸形状が形成されているものである点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。なお、本実施形態において、底網144として、第1除害塔1415aのガス導出口142側に弓状に湾曲して窪んでいるものを用いたが、代わりに、底網144の断面が平板状に形成されているものを用いてもよい。また、本実施形態においては、底網144に、例えば、スポンジ状のものや、多孔質構造又はメッシュ構造を有する焼結体に凹凸形状を形成したものを用いることが好ましい。
上記構成を有する第1除害塔1415aをフッ素ガス発生装置に用いると、第3実施形態に係る第1除害塔515aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
図13は、本発明の実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔の第12実施形態を示している。本実施形態は、(1)除害剤153とガス導出口152との間にガス導出口側空間部159が設けられている点、(2)底網(離隔手段)154が、ガス導出口152側に球体状に窪んだ形状を有しており、底網154の縦方向の断面が、ガス導出口152側に弓状に湾曲した形状を有しており、且つ、底網154の表面に凹凸形状が形成されているものである点、(3)除害剤153とガス導出口152との間に筒状のフィルター157が設けられている点、及び、(4)除害剤153の底網154側と反対側の端部に、除害剤153の飛散を抑止する図示しない部材、例えば、網目状の部材が設けられている点で、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100に用いた第1除害塔5aと異なっている。なお、本実施形態において、底網154として、第1除害塔1515aのガス導出口152側に弓状に湾曲して窪んでいるものを用いたが、代わりに、底網154の断面が平板状に形成されているものを用いてもよい。また、本実施形態においては、底網154に、例えば、スポンジ状のものや、多孔質構造又はメッシュ構造を有する焼結体に凹凸形状を形成したものを用いることが好ましい。
上記構成を有する第1除害塔1515aをフッ素ガス発生装置に用いると、第4実施形態に係る第1除害塔615aをフッ素ガス発生装置に用いた場合と同様の効果が得られる。
次に、実施例を用いて説明する。
(実施例1)
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置を運転させて、第1除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。なお、除害剤には、ペレット状のフッ化ナトリウム(以下、NaFペレットと呼ぶ)を用い、下記に述べる実施例並びに比較例においても、除害剤に、NaFペレットを用いた。
(実施例2)
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置において、本実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔及び第2除害塔の代わりに、第3実施形態に係る第1除害塔と同様の構成を有する除害塔をそれぞれ用いたフッ素ガス発生装置を運転させて、第1除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。
(実施例3)
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置において、本実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔及び第2除害塔の代わりに、第2実施形態に係る第1除害塔と同様の構成を有する除害塔をそれぞれ用いて、フッ素ガス発生装置を運転させて、第1除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。
(比較例1)
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置と同様の構成を有するフッ素ガス発生装置において、本実施形態に係るフッ素ガス発生装置に用いた第1除害塔及び第2除害塔の代わりに、図14に示す従来の除害塔と同様の構成を有した除害塔をそれぞれ用いて、フッ素ガス発生装置を運転させて、除害塔における電解浴の詰まり具合及びフッ素ガス発生装置の積算電気量を調べた。
Figure 0005238299
表1から、実施例1〜3は、積算電気量が432000Ahを超える電気量を通電しても、除害剤の電解浴による目詰まりに起因して、フッ素ガス発生装置が停止することはなかった。これにより、実施例1〜3に係るフッ素ガス発生装置は、第1除害塔のガス導入口側に空間を設けたことよって、空間にミスト状の電解浴が拡散するとともにミストが沈降したので、除害剤に、電解浴が局所的に詰まることが抑止されたことがわかる。また、実施例1〜3に係るフッ素ガス発生装置は、第1除害塔に設けられた底網によって、除害剤へのミストの付着及びミストの付着による除害剤の閉塞が抑止されたことがわかる。これに対して、比較例1では、積算電気量が2000Ahで、除害塔内で電解浴が詰まり、フッ素ガス発生装置の運転が停止した。また、フッ素ガス発生装置の運転開始直後に、ガス導入口の周辺に充填されている除害剤が、ミスト状の電解浴によって詰まったことがわかった。
(実施例4〜6、比較例2)
次に、実施例1〜3及び比較例1に係るフッ素ガス発生装置の運転終了後、実施例1〜3及び比較例1で用いたフッ素ガス発生装置の第1除害塔に充填されているガス導入口側の除害剤のNaFペレット及びガス導出口側の除害剤のNaFペレットを採取して、X線回折(XRD)による分析を行った。また、実施例1〜3及び比較例1に係るフッ素ガス発生装置の運転終了後、実施例1〜3及び比較例1で用いたフッ素ガス発生装置に設けられている圧力調整弁の内部のNaFの粉体の付着の状態を調べた。これらX線回折(XRD)で同定された結果及び圧力調整弁の内部のNaFの粉体の付着の状態の結果を、下記表2に示す。
Figure 0005238299
表2から、実施例4において、第1除害塔の除害剤のガス導入口側及びガス導出口側のいずれのNaFペレットにも、NaHF相がみられた。これにより、第1除害塔のガス導出口から、フッ化水素が放出されていることがわかる。実施例5、6では、ガス導出口側の除害剤にNaHF相がみられなかった。これにより、実施例5、6(実施例2、3)で用いた第1除害塔では、底網がガス導出口側に窪んでおり、また、筒状のフィルターが設けられているので、陽極室から発生したガス中に含まれた電解浴やフッ化水素ガスが取り除かれていることがわかる。これに対して、比較例2は、除害塔内のガス導出口のすぐ近くでNaHF相が存在した状態であった。この比較例2のNaFペレットは、完全に、膨張・一部融着している状態であり、これが、除害剤の目詰まりの原因と考えられる。
また、実施例1、2、比較例1に係るフッ素ガス発生装置の圧力調整弁の内部に設けられた部材である、ダイヤフラム及び台座部分には、NaFペレットから発生したと思われる粉末が付着していた。そして、これらの付着物の成分を分析したところ、フッ化ナトリウム成分であることがわかった。これらは、第1除害塔や第2除害塔から飛散して、圧力調整弁の内部の部品に付着したものと考えられる。これに対して、実施例3で用いたフッ素ガス発生装置に設けられた圧力調整弁の内部及び圧力調整弁の周辺の配管等の部材には、付着物はなかった。これにより、実施例3で用いた第1除害塔及び第2除害塔に設けられた筒状のフィルターによって、NaFペレットから発生したと思われる粉末が十分に濾過されたと考えられる。
以上、本発明の実施形態のフッ素ガス発生装置について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能なものである。例えば、本実施形態において、第1除害塔と第2除害塔とが異なる構成を有しているものを用いてもよい。また、第2〜12実施形態に係る第1除害塔は、本実施形態に係るガス発生装置の第2除害塔にも用いることができる。
本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置の主要部の概略構成図である。 本発明の第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置の第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第2実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第3実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第4実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第5実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第6実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第7実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第8実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第9実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第10実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第11実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 本発明の第12実施形態に係る第1除害塔の断面模式図である。 従来の除害塔の断面模式図である。
符号の説明
1 陽極室
2 陰極室
3 電解槽
4 電解浴
5a、15a、415a、515a、615a、715a、815a、915a、1115a、1215a、1315a、1415a、1515a 第1除害塔
5b 第2除害塔
6a、6b 圧力計
7a 第1圧力調整弁
7b 第2圧力調整弁
8 フッ素ガス発生口
9 水素ガス発生口
10 加温ヒーター
11a、11b フィルター
16 隔壁
17 陽極
18 陰極
19 上蓋
20 第1液面検知手段
21 第2液面検知手段
31、41、51、61、71、81、91、111、121、131、141、151、201 ガス導入口
32、42、52、62、72、82、92、112、122、132、142、152、202 ガス導出口
33、43、53、63、73、83、93、113、123、133、143、153、203 除害剤
34、44、54、64、74、84、94、114、124、134、144、154 底網
35、45、55、65、75、85、95、115、125、135、145、155 空間
36a、36b、46a、46b、56a、56b、66a、66b、76a、76b、86a、86b、96a、96b、116a、116b、126a、126b、136a、136b、146a、146b、156a、156b、206a、206b 縁切り弁
47、67、87、117、137、157 フィルター
49、69、89、119、139、159 ガス導出口側空間部
100 フッ素ガス発生装置
2000 除害塔

Claims (4)

  1. フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を、電解槽内で電気分解してフッ素を含むガスを発生するフッ素ガス発生装置であって、
    前記電解槽から発生したガスに含まれている不純物を除去する除害塔を有しており、
    前記除害塔が、
    前記電解槽から発生したガスを導入させるガス導入口と、
    前記除害塔からガスを導出させるガス導出口と、
    前記ガス導入口と前記ガス導出口との間に充填されている除害剤と、
    前記ガス導入口と前記除害剤との間に位置しており、ガスを透過でき且つ除害剤の通過を阻止できる離隔手段とを備え、
    前記除害塔内には、前記離隔手段の下方において、前記ガス導入口と前記離隔手段との間に空間が形成されており、
    前記離隔手段が、前記ガス導出口側の方向に向かって、窪んだ形状を有しているものであることを特徴とするフッ素ガス発生装置。
  2. 前記ガス導入口が、前記空間の上下方向の途中に設けられていることを特徴とする請求項1に記載のフッ素ガス発生装置。
  3. 前記除害塔が、前記除害剤と前記ガス導出口との間に設けられているフィルターを有しているものであることを特徴とする請求項1又は2に記載のフッ素ガス発生装置。
  4. 前記除害塔が、前記除害剤と前記ガス導出口との間に設けられた前記ガス導出口側空間部を有し、
    前記フィルターが、前記ガス導出口側空間部に設けられていることを特徴とする請求項に記載のフッ素ガス発生装置。
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