JP5402608B2 - フッ素ガス生成装置 - Google Patents
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Description
図1を参照して、本発明の第1の実施の形態に係るフッ素ガス生成装置100について説明する。
図5を参照して、本発明の第2の実施の形態に係るフッ素ガス生成装置200について説明する。
1 電解槽
2 フッ素ガス供給系統
3 副生成ガス処理系統
4 外部装置
5 原料供給系統
7 陽極
8 陰極
11a 第1気室
12a 第2気室
13 粗精製装置
14 本精製装置
14a 第1本精製装置
14b 第2本精製装置
15 第1メイン通路
16 精製装置
23 差圧計
24a,24b 遮断弁
40 フッ化水素供給源
51 フッ化水素貯留槽
52 第1冷却装置
54 凝縮槽
54a 気相部
55 排出槽
55a 気相部
56 連通路
58 冷却槽
59 冷媒給排系統
60 排出通路
76 キャリアガス供給通路
81 ガス通過部
82 第2冷却装置
85 ジャケットチューブ
86 液体窒素給排系統
Claims (9)
- 溶融塩中のフッ化水素を電気分解することによって、フッ素ガスを生成するフッ素ガス生成装置であって、
溶融塩が貯留され、溶融塩に浸漬された陽極にて生成されたフッ素ガスを主成分とする主生成ガスが導かれる第1気室と、溶融塩に浸漬された陰極にて生成された水素ガスを主成分とする副生成ガスが導かれる第2気室とが溶融塩液面上に分離して区画された電解槽と、
前記電解槽の溶融塩から気化して前記陽極から生成された主生成ガスに混入したフッ化水素ガスを捕集してフッ素ガスを精製する精製装置と、を備え、
前記精製装置は、
フッ化水素ガスを凝縮させてフッ素ガスを粗精製する粗精製装置と、
前記粗精製装置の下流に設けられ、フッ化水素ガスを凝固させてフッ素ガスを本精製する本精製装置と、を備え、
前記粗精製装置は、
主生成ガスが通過すると共に、通過中に凝縮したフッ化水素を貯留可能なフッ化水素貯留槽と、
前記フッ化水素貯留槽をフッ化水素の融点を超える温度で冷却することによって、主生成ガスに混入したフッ化水素ガスを凝縮させる第1冷却装置と、を備え、
前記本精製装置は、
主生成ガスが通過するガス通過部と、
主生成ガスに混入したフッ化水素ガスが凝固する一方、フッ素ガスは前記ガス通過部を通過するように、フッ素の沸点以上かつフッ化水素の融点以下の温度で前記ガス通過部を冷却する第2冷却装置と、を備え、
前記本精製装置の前記ガス通過部を主生成ガスが通過する際に凝固したフッ化水素は、前記粗精製装置の前記フッ化水素貯留槽に落下して貯留され、排出設備を通じて外部へ排出されることを特徴とするフッ素ガス生成装置。 - 前記本精製装置の前記ガス通過部は、ガス入口部が前記フッ化水素貯留槽のフッ化水素液面に臨むように、前記粗精製装置の前記フッ化水素貯留槽に連通して設けられることを特徴とする請求項1に記載のフッ素ガス生成装置。
- 前記精製装置の動作を制御する制御手段をさらに備え、
前記本精製装置は、2基以上並列に配置され、
前記本精製装置は、前記ガス通過部のフッ化水素の蓄積状態を検出する蓄積状態検出器を備え、
前記制御手段は、前記蓄積状態検出器の検出結果に基づいて、待機状態の本精製装置を主生成ガスが通過するように前記本精製装置の運転切り換えを行い、
前記運転切り換えによって停止した本精製装置では、前記第2冷却装置による前記ガス通過部の冷却が解除されることによって、凝固していたフッ化水素が液化して前記粗精製装置の前記フッ化水素貯留槽に落下して貯留されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のフッ素ガス生成装置。 - 前記フッ化水素貯留槽は、
フッ化水素液面上に主生成ガスが通過する気相部を有する凝縮槽と、
フッ化水素液中にキャリアガスが供給されることによって、フッ化水素が外部へ排出される前記排出設備としての排出槽と、を備え、
前記凝縮槽と前記排出槽の液相部は連通し、かつ、前記凝縮槽と前記排出槽の気相部は分離されてなることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のフッ素ガス生成装置。 - 前記フッ化水素貯留槽は、前記凝縮槽と前記排出槽を連通する連通路を備え、
前記凝縮槽と前記排出槽の気相部とは、前記連通路に満たされたフッ化水素液によって分離されることを特徴とする請求項4に記載のフッ素ガス生成装置。 - 前記キャリアガスを、前記連通路がフッ化水素で満たされた状態で、前記連通路よりも上方に供給するキャリアガス供給通路をさらに備えることを特徴とする請求項5に記載のフッ素ガス生成装置。
- 前記凝縮槽と前記排出槽の気相部とは、フッ化水素液中に浸漬された区画壁によって分離されることを特徴とする請求項4に記載のフッ素ガス生成装置。
- 前記キャリアガスとして、主生成ガス、副生成ガス、及び不活性ガスのいずれかが用いられることを特徴とする請求項4から請求項7のいずれか1項に記載のフッ素ガス生成装置。
- 排出設備を通じて外部へ排出されるフッ化水素は、前記電解槽又は前記電解槽に補充するためのフッ化水素が貯留されたフッ化水素供給源に回収されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のフッ素ガス生成装置。
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