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EP1998373A3
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2005-09-29 |
2012-10-31 |
Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. |
Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method thereof
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JP5037808B2
(ja)
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2005-10-20 |
2012-10-03 |
キヤノン株式会社 |
アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
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KR101103374B1
(ko)
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2005-11-15 |
2012-01-05 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체장치
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TWI292281B
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2005-12-29 |
2008-01-01 |
Ind Tech Res Inst |
Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
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US7867636B2
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2006-01-11 |
2011-01-11 |
Murata Manufacturing Co., Ltd. |
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(ja)
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2006-01-21 |
2012-07-18 |
三星電子株式会社 |
ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
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(en)
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2006-02-02 |
2009-08-18 |
Kochi Industrial Promotion Center |
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US7977169B2
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2006-02-15 |
2011-07-12 |
Kochi Industrial Promotion Center |
Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
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KR20070101595A
(ko)
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2006-04-11 |
2007-10-17 |
삼성전자주식회사 |
ZnO TFT
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2006-04-28 |
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Toppan Printing Co., Ltd. |
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2006-08-09 |
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キヤノン株式会社 |
酸化物半導体膜のドライエッチング方法
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2006-08-09 |
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Nec液晶テクノロジー株式会社 |
薄膜デバイス及びその製造方法
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2006-09-15 |
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キヤノン株式会社 |
電界効果型トランジスタ及びその製造方法
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(ja)
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2009-06-03 |
セイコーエプソン株式会社 |
電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
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JP5164357B2
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2006-09-27 |
2013-03-21 |
キヤノン株式会社 |
半導体装置及び半導体装置の製造方法
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Samsung Electronics Co., Ltd. |
Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
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2006-12-04 |
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Toppan Printing Co Ltd |
カラーelディスプレイおよびその製造方法
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박막 식각 방법
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Eastman Kodak Company |
Process for atomic layer deposition
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삼성에스디아이 주식회사 |
박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
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2007-04-17 |
2010-09-14 |
Toppan Printing Co., Ltd. |
Structure with transistor
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2007-04-18 |
2013-11-05 |
삼성디스플레이 주식회사 |
박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
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KR20080094300A
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2007-04-19 |
2008-10-23 |
삼성전자주식회사 |
박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
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KR101334181B1
(ko)
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2007-04-20 |
2013-11-28 |
삼성전자주식회사 |
선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
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WO2008133345A1
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2007-04-25 |
2008-11-06 |
Canon Kabushiki Kaisha |
Oxynitride semiconductor
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2007-12-17 |
2013-06-19 |
富士フイルム株式会社 |
無機結晶性配向膜及びその製造方法、半導体デバイス
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JP4623179B2
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2008-09-18 |
2011-02-02 |
ソニー株式会社 |
薄膜トランジスタおよびその製造方法
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JP5451280B2
(ja)
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2008-10-09 |
2014-03-26 |
キヤノン株式会社 |
ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置
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