JP2013026379A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1枚の基板Wの処理が終了してノズルアーム62が処理位置から待機位置に帰還したときに、その待機位置にてアーム乾燥部75の2本の乾燥ガスノズルからノズルアーム62に乾燥用ガスが吹き付けられる。また、固定設置された乾燥ガスノズルから水平方向に噴出される乾燥用ガスの流れをノズルアーム62の先端側が横切るように旋回駆動部63が3本のノズルアーム62を揺動させている。これによって、基板Wの処理後に処理液が付着していた3本のノズルアーム62が乾燥され、付着していた処理液が取り除かれる。その結果、基板Wの処理中に処理液が付着したノズルアーム62による汚染を防止することができる。
【選択図】図1
Description
3 制御部
10 チャンバー
11 側壁
15 仕切板
20 スピンチャック
21 スピンベース
22 スピンモータ
28 下面処理液ノズル
40 処理カップ
41 内カップ
42 中カップ
43 外カップ
60 上面処理液ノズル
61,81 吐出ヘッド
62,82 ノズルアーム
63,83 旋回駆動部
64,84 昇降駆動部
70,90 アーム洗浄部
71,91 シャワーノズル
75,95 アーム乾燥部
76,96,97,98 乾燥ガスノズル
80 二流体ノズル
85 気体ヘッド
86 支持部材
W 基板
Claims (12)
- 基板を略水平姿勢に保持して回転させる基板保持手段と、
前記基板保持手段の周囲を取り囲むカップと、
前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する吐出ヘッドを先端に備えたノズルアームと、
前記基板保持手段に保持された基板の上方の処理位置と前記カップよりも外側の待機位置との間で前記吐出ヘッドが移動するように前記ノズルアームを旋回させる旋回駆動部と、
前記吐出ヘッドが前記処理位置から前記待機位置に帰還したときに、前記ノズルアームのうち、少なくとも前記吐出ヘッドが前記処理位置に移動したときに前記基板保持手段に保持された基板に対向する部位に乾燥用ガスを吹き付けて乾燥させるガス噴出部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記ガス噴出部は、前記吐出ヘッドが前記待機位置に位置しているときに前記ノズルアームの先端側から乾燥用ガスを吹き付ける位置に設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2記載の基板処理装置において、
前記ガス噴出部は固定設置され、
前記旋回駆動部は、前記ガス噴出部から噴出される乾燥用ガスの流れを前記ノズルアームの先端側が横切るように前記ノズルアームを揺動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記ガス噴出部は、1枚の基板に処理液を吐出する処理が終了して前記吐出ヘッドが前記処理位置から前記待機位置に帰還する毎に、前記ノズルアームに乾燥用ガスを吹き付けることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記旋回駆動部には前記ノズルアームが水平方向に沿って互いに平行に複数本接続されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記ノズルアームには、前記吐出ヘッドから吐出される処理液に気体を混合する気体吐出部が前記吐出ヘッドの側方に付設されることを特徴とする基板処理装置。 - 吐出ヘッドを先端に備えたノズルアームを旋回させて前記吐出ヘッドを基板保持手段に略水平姿勢に保持されて回転される基板の上方の処理位置に移動させ、前記吐出ヘッドから前記基板に処理液を吐出する処理工程と、
前記ノズルアームを旋回させて前記吐出ヘッドを前記処理位置から前記基板保持手段の周囲を取り囲むカップよりも外側の待機位置に帰還させる帰還工程と、
前記吐出ヘッドが前記処理位置から前記待機位置に帰還したときに、前記ノズルアームのうち、少なくとも前記吐出ヘッドが前記処理位置に移動したときに前記基板保持手段に保持された基板に対向する部位にガス噴出部から乾燥用ガスを吹き付けて乾燥させるアーム乾燥工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項7記載の基板処理方法において、
前記アーム乾燥工程では、前記吐出ヘッドが前記待機位置に位置しているときに前記ノズルアームの先端側から乾燥用ガスを吹き付けることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項8記載の基板処理方法において、
前記ガス噴出部は固定設置され、
前記アーム乾燥工程では、前記ガス噴出部から噴出される乾燥用ガスの流れを前記ノズルアームの先端側が横切るように前記ノズルアームを揺動させることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項7から請求項9のいずれかに記載の基板処理方法において、
1回の前記処理工程が終了して前記吐出ヘッドが前記処理位置から前記待機位置に帰還する毎に、前記アーム乾燥工程を実行することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項7から請求項10のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記ノズルアームは水平方向に沿って互いに平行に複数本設けられていることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項7から請求項10のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記ノズルアームには、前記吐出ヘッドから吐出される処理液に気体を混合する気体吐出部が前記吐出ヘッドの側方に付設されることを特徴とする基板処理方法。
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