JP2012519950A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012519950A5
JP2012519950A5 JP2011554120A JP2011554120A JP2012519950A5 JP 2012519950 A5 JP2012519950 A5 JP 2012519950A5 JP 2011554120 A JP2011554120 A JP 2011554120A JP 2011554120 A JP2011554120 A JP 2011554120A JP 2012519950 A5 JP2012519950 A5 JP 2012519950A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
workpiece
range
condenser
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011554120A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012519950A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2010/026658 external-priority patent/WO2010104852A2/en
Publication of JP2012519950A publication Critical patent/JP2012519950A/ja
Publication of JP2012519950A5 publication Critical patent/JP2012519950A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

明確さのために、本明細書において個別の実施形態の文脈で記載されている一定の特性はまた、単一の実施形態の組み合わせで提供されていてもよいことが認識されるべきである。反対に、簡潔さのために、単一の実施形態の文脈で記載されている種々の特性はまた、個別にまたは任意のサブコンビネーションで提供されていてもよい。さらに、範囲で記載されている値に対する言及は、その範囲内の値の各々および全てを含む。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
(1) フィルム形成性材料および少なくとも1種の溶剤を含む液体組成物をワークピース上に堆積させて湿潤層を形成するステップ、
前記ワークピース上の前記湿潤層を、凝縮器を備える減圧チャンバ中に入れるステップ;および
前記湿潤層を、−25°〜80℃の範囲内の制御温度、および、10-6〜1,000Torrの範囲内の適用された減圧下で1〜100分間の間処理するステップ、
を含み、前記凝縮器は、前記溶剤が前記適用された減圧で液体として凝縮されることとなる温度で維持される、減圧乾燥方法。
(2) 前記凝縮器が表面凝縮器である、(1)に記載の方法。
(3) 前記表面凝縮器が、コイルおよびプレートからなる群から選択される、(2)に記載の方法。
(4) 前記凝縮器が20℃未満の温度で維持される、(1)に記載の方法。
(5) 前記凝縮器が、−15〜15℃の範囲内の温度で維持されている、(1)に記載の方法。
(6) 前記減圧チャンバが、凝縮された溶剤を前記チャンバから除去する手段をさらに備える、(1)に記載の方法。
(7) 前記溶剤が10-2Torr未満の蒸気圧を有する、(1)に記載の方法。
(8) 電気活性材料の層を形成する方法であって、
少なくとも1つの活性領域を有するワークピースを提供するステップ、
前記電気活性材料および少なくとも1種の溶剤を含む液体組成物を、前記活性領域において前記ワークピース上に堆積させて湿潤層を形成するステップ、
前記ワークピース上の前記湿潤層を、凝縮器を備える減圧チャンバに入れるステップ、
前記ワークピース上の前記湿潤層を、−25°〜80℃の範囲内の制御温度、および、10-6〜1,000Torrの範囲内の減圧下で、1〜100分間の第1の期間の間処理して部分乾燥層を形成するステップであり、前記凝縮器は、前記適用された減圧で前記溶剤が液体として凝縮されることとなる温度で維持されるステップ、
前記部分乾燥層を、1〜50分間の第2の期間の間100℃を超える温度に加熱して乾燥層を形成するステップ
を含み、
前記乾燥層は、前記活性領域において実質的に平坦なプロファイルを有する、電気活性材料の層を形成する方法。
(9) 前記乾燥層が、前記活性領域の90%にわたって+/−10%未満の厚さ変動を有する、(8)に記載の方法。
(10) 前記液体組成物が、インクジェット印刷および連続ノズルコーティングからなる群から選択される技術により堆積される、(8)に記載の方法。
(11) 前記ワークピースが複数の活性領域を有する、(8)に記載の方法。
(12) 前記電気活性材料が、ホスト材料および第1の色に対応する光活性ゲスト材料を含み、および、前記液体組成物が、前記活性領域の第1の部分に堆積される、(11)に記載の方法。
(13) 第2のホスト材料および第2の色に対応する第2の光活性ゲスト材料を含む第2の液体組成物が、前記活性領域の第2の部分に堆積される、(12)に記載の方法。
(14) 第3のホスト材料および第3の色に対応する第3の光活性ゲスト材料を含む第3の液体組成物が、前記活性領域の第3の部分に堆積される、(13)に記載の方法。
(15) 前記凝縮器が表面凝縮器である、(8)に記載の方法。
(16) 前記凝縮器が、20℃未満の温度で維持される、(8)に記載の方法。
(17) 前記凝縮器が、−15°〜15℃の範囲内の温度で維持されている、(8)に記載の方法。
(18) 前記減圧チャンバが、凝縮された溶剤を前記チャンバから除去する手段をさらに備える、(8)に記載の方法。
(19) 前記ワークピース上の前記湿潤層が、20〜80℃の範囲内の温度、10-2〜10Torrの範囲内の圧力で、5〜25分間の時間処理される、(8)に記載の方法。
(20) 前記ワークピース上の前記湿潤層が、30〜60℃の範囲内の温度、10-2〜1Torrの範囲内の圧力で、5〜15分間の時間の間処理される、(8)に記載の方法。
(21) 前記ワークピース上の前記湿潤層が、−25°〜10℃の範囲内の温度、1〜1000Torrの範囲内の圧力で、5〜25分間の時間の間処理される、(8)に記載の方法。
(22) 前記ワークピース上の前記湿潤層が、−10〜0℃の範囲内の温度、10〜100Torrの範囲内の圧力で、5〜15分間の時間の間処理される、(8)に記載の方法。

Claims (2)

  1. フィルム形成性材料および少なくとも1種の溶剤を含む液体組成物をワークピース上に堆積させて湿潤層を形成するステップ、
    前記ワークピース上の前記湿潤層を、凝縮器を備える減圧チャンバ中に入れるステップ;および
    前記湿潤層を、−25°〜80℃の範囲内の制御温度、および、10-6〜1,000Torrの範囲内の適用された減圧下で1〜100分間の間処理するステップ、
    を含み、前記凝縮器は、前記溶剤が前記適用された減圧で液体として凝縮されることとなる温度で維持される、減圧乾燥方法。
  2. 電気活性材料の層を形成する方法であって、
    少なくとも1つの活性領域を有するワークピースを提供するステップ、
    前記電気活性材料および少なくとも1種の溶剤を含む液体組成物を、前記活性領域において前記ワークピース上に堆積させて湿潤層を形成するステップ、
    前記ワークピース上の前記湿潤層を、凝縮器を備える減圧チャンバに入れるステップ、
    前記ワークピース上の前記湿潤層を、−25°〜80℃の範囲内の制御温度、および、10-6〜1,000Torrの範囲内の減圧下で、1〜100分間の第1の期間の間処理して部分乾燥層を形成するステップであり、前記凝縮器は、前記適用された減圧で前記溶剤が液体として凝縮されることとなる温度で維持されるステップ、
    前記部分乾燥層を、1〜50分間の第2の期間の間100℃を超える温度に加熱して乾燥層を形成するステップ
    を含み、
    前記乾燥層は、前記活性領域において実質的に平坦なプロファイルを有する、電気活性材料の層を形成する方法。
JP2011554120A 2009-03-09 2010-03-09 電気活性層の形成方法 Pending JP2012519950A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15842209P 2009-03-09 2009-03-09
US61/158,422 2009-03-09
PCT/US2010/026658 WO2010104852A2 (en) 2009-03-09 2010-03-09 Process for forming an electroactive layer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012519950A JP2012519950A (ja) 2012-08-30
JP2012519950A5 true JP2012519950A5 (ja) 2013-03-28

Family

ID=42729050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011554120A Pending JP2012519950A (ja) 2009-03-09 2010-03-09 電気活性層の形成方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9209398B2 (ja)
EP (1) EP2406813A4 (ja)
JP (1) JP2012519950A (ja)
KR (1) KR20110139253A (ja)
CN (1) CN102349132B (ja)
TW (1) TW201114082A (ja)
WO (1) WO2010104852A2 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11975546B2 (en) 2008-06-13 2024-05-07 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US12018857B2 (en) 2008-06-13 2024-06-25 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US10434804B2 (en) 2008-06-13 2019-10-08 Kateeva, Inc. Low particle gas enclosure systems and methods
CN102318040B (zh) * 2009-03-06 2014-09-17 E.I.内穆尔杜邦公司 形成电活性层的方法
WO2010104857A2 (en) * 2009-03-09 2010-09-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for forming an electroactive layer
TWI444602B (zh) * 2011-04-15 2014-07-11 Univ Chang Gung A fluorescent powder coating apparatus and a method for detecting white light color temperature in a process immediately
KR101878084B1 (ko) 2013-12-26 2018-07-12 카티바, 인크. 전자 장치의 열 처리를 위한 장치 및 기술
KR102458181B1 (ko) 2014-01-21 2022-10-21 카티바, 인크. 전자 장치 인캡슐레이션을 위한 기기 및 기술
EP3138123B1 (en) 2014-04-30 2021-06-02 Kateeva, Inc. Gas cushion apparatus and techniques for substrate coating
US10115900B2 (en) 2015-11-16 2018-10-30 Kateeva, Inc. Systems and methods for thermal processing of a substrate
CN107940904B (zh) * 2017-11-14 2019-12-03 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种真空干燥腔室及真空干燥装置
KR102645467B1 (ko) * 2018-10-18 2024-03-11 삼성디스플레이 주식회사 표시장치의 제조방법
CN111509144B (zh) * 2020-04-24 2022-09-30 合肥京东方卓印科技有限公司 Oled器件的制备方法及显示面板的制备方法

Family Cites Families (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3630660A (en) * 1968-10-31 1971-12-28 Burlington Industries Inc Process for removal of moisture and/or solvents from textile materials
US4421781A (en) * 1982-03-29 1983-12-20 Tri/Valley Growers Continuous vacuum curing and solvent recovery coating process
US5199187A (en) * 1991-07-31 1993-04-06 Sp Industries Freeze dryer apparatus having an interim condensing system and use thereof
US5744009A (en) * 1995-07-07 1998-04-28 The M. W. Kellogg Company Method and apparatus for recovering condensables in vapor from a urea vacuum evaporator
US5694701A (en) 1996-09-04 1997-12-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated substrate drying system
JP3874799B2 (ja) 1995-09-18 2007-01-31 スリーエム カンパニー 被覆基材乾燥システム
US5813133A (en) 1996-09-04 1998-09-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated substrate drying system with magnetic particle orientation
JP3899566B2 (ja) 1996-11-25 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 有機el表示装置の製造方法
US6303238B1 (en) 1997-12-01 2001-10-16 The Trustees Of Princeton University OLEDs doped with phosphorescent compounds
EP1027723B1 (en) 1997-10-14 2009-06-17 Patterning Technologies Limited Method of forming an electric capacitor
JP3417464B2 (ja) 1998-06-24 2003-06-16 東京応化工業株式会社 平坦化膜形成用塗布液
JP2000056474A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法
JP2000173771A (ja) * 1998-12-10 2000-06-23 Sharp Corp ライン光源及びその製造方法
US6630274B1 (en) 1998-12-21 2003-10-07 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor
EP1729327B2 (en) 1999-05-13 2022-08-10 The Trustees Of Princeton University Use of a phosphorescent iridium compound as emissive molecule in an organic light emitting device
EP3379591A1 (en) 1999-12-01 2018-09-26 The Trustees of Princeton University Complexes of form l2mx
US6670645B2 (en) 2000-06-30 2003-12-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electroluminescent iridium compounds with fluorinated phenylpyridines, phenylpyrimidines, and phenylquinolines and devices made with such compounds
JP3628997B2 (ja) 2000-11-27 2005-03-16 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP4021177B2 (ja) 2000-11-28 2007-12-12 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器
JP4285264B2 (ja) 2000-11-28 2009-06-24 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
TW533446B (en) 2000-12-22 2003-05-21 Koninkl Philips Electronics Nv Electroluminescent device and a method of manufacturing thereof
US6875523B2 (en) 2001-07-05 2005-04-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoactive lanthanide complexes with phosphine oxides, phosphine oxide-sulfides, pyridine N-oxides, and phosphine oxide-pyridine N-oxides, and devices made with such complexes
IL158865A0 (en) 2001-07-18 2004-05-12 Du Pont Luminescent lanthanide complexes with imine ligands and devices made with such complexes
JP2003133691A (ja) 2001-10-22 2003-05-09 Seiko Epson Corp 膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器、並びに非接触型カード媒体
US7166368B2 (en) 2001-11-07 2007-01-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electroluminescent platinum compounds and devices made with such compounds
JP4164256B2 (ja) * 2001-11-27 2008-10-15 東京エレクトロン株式会社 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法
EP2306788A1 (en) 2001-12-26 2011-04-06 E. I. du Pont de Nemours and Company Iridium compounds and devices made therewith
US6858464B2 (en) 2002-06-19 2005-02-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing light emitting device
US6713339B2 (en) 2002-06-21 2004-03-30 Micron Technology, Inc. Methods of forming switchable circuit devices
JP4260744B2 (ja) 2002-07-19 2009-04-30 出光興産株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機発光媒体
JP4239560B2 (ja) 2002-08-02 2009-03-18 セイコーエプソン株式会社 組成物とこれを用いた有機導電性膜の製造方法
US6963005B2 (en) 2002-08-15 2005-11-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Compounds comprising phosphorus-containing metal complexes
CN1681869B (zh) 2002-09-24 2010-05-26 E.I.内穆尔杜邦公司 用于电子器件用聚合物酸胶体制成的可水分散的聚苯胺
EP1546237B2 (en) 2002-09-24 2019-04-24 E. I. du Pont de Nemours and Company Water dispersible polythiophenes made with polymeric acid colloids
JP2004223354A (ja) 2003-01-21 2004-08-12 Seiko Epson Corp 液状組成物の塗布方法、el素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置、電子機器
JP2004351272A (ja) 2003-05-27 2004-12-16 Seiko Epson Corp 薄膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器
US6867081B2 (en) * 2003-07-31 2005-03-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Solution-processed thin film transistor formation method
TW201219350A (en) 2003-11-17 2012-05-16 Sumitomo Chemical Co Crosslinkable arylamine compounds
JP2005158824A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Seiko Epson Corp 成膜方法、膜、電子デバイスおよび電子機器
JP2005172316A (ja) 2003-12-09 2005-06-30 Seiko Epson Corp 減圧乾燥装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
US20050129843A1 (en) 2003-12-11 2005-06-16 Xerox Corporation Nanoparticle deposition process
JP2005235852A (ja) 2004-02-17 2005-09-02 Seiko Epson Corp 多層膜の形成方法及びデバイスの製造方法
US7351358B2 (en) 2004-03-17 2008-04-01 E.I. Du Pont De Nemours And Company Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications
JP4055171B2 (ja) 2004-05-19 2008-03-05 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器
US7023013B2 (en) 2004-06-16 2006-04-04 Eastman Kodak Company Array of light-emitting OLED microcavity pixels
JP4707658B2 (ja) 2004-06-17 2011-06-22 シャープ株式会社 塗液、膜の製造方法、機能素子の製造方法、有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法、カラーフィルター基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び、配線基板の製造方法
US8158517B2 (en) 2004-06-28 2012-04-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing wiring substrate, thin film transistor, display device and television device
GB2416428A (en) * 2004-07-19 2006-01-25 Seiko Epson Corp Method for fabricating a semiconductor element from a dispersion of semiconductor particles
JP4148933B2 (ja) 2004-08-31 2008-09-10 シャープ株式会社 機能膜の製造方法、機能膜形成用塗液、機能素子、電子デバイス及び表示装置
US7217583B2 (en) * 2004-09-21 2007-05-15 Cree, Inc. Methods of coating semiconductor light emitting elements by evaporating solvent from a suspension
TWI247111B (en) 2004-09-22 2006-01-11 Chunghwa Picture Tubes Ltd Method of detecting foreign objects in display manufacture processes
US7268006B2 (en) * 2004-12-30 2007-09-11 E.I. Du Pont De Nemours And Company Electronic device including a guest material within a layer and a process for forming the same
JP5082189B2 (ja) 2005-01-14 2012-11-28 大日本印刷株式会社 コーティング液、金属酸化物膜およびその形成方法
JP4876415B2 (ja) * 2005-03-29 2012-02-15 セイコーエプソン株式会社 有機el装置の製造方法、デバイスの製造方法
KR100663076B1 (ko) * 2005-08-31 2007-01-02 한국과학기술원 반도체 기판 상의 소정 영역에 탄소나노튜브를 형성시키는 방법, 이를 이용한 반도체 도선 형성방법 및 이를 이용하여 인덕터 소자 제조 방법
JP2007123257A (ja) 2005-09-27 2007-05-17 Mitsubishi Chemicals Corp 有機電界発光素子の製造方法
JP4396607B2 (ja) 2005-09-28 2010-01-13 セイコーエプソン株式会社 膜形成方法、有機エレクトロルミネセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネセンス装置及び電子機器
KR101211836B1 (ko) 2005-10-24 2012-12-12 삼성코닝정밀소재 주식회사 다공성 칼코게나이드 박막, 그 제조방법 및 이를 채용한전자소자
KR100643376B1 (ko) 2005-10-24 2006-11-10 삼성전자주식회사 표시장치와 표시장치의 제조방법
US8124172B2 (en) 2006-03-02 2012-02-28 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for making contained layers and devices made with same
US20070278936A1 (en) 2006-06-02 2007-12-06 Norman Herron Red emitter complexes of IR(III) and devices made with such compounds
US20080067473A1 (en) 2006-06-05 2008-03-20 Walker Dennis D Liquid composition for deposition of organic active materials
US7491646B2 (en) 2006-07-20 2009-02-17 Xerox Corporation Electrically conductive feature fabrication process
EP2069419A2 (en) 2006-08-24 2009-06-17 E.I. Du Pont De Nemours And Company Hole transport polymers
JP4940857B2 (ja) * 2006-09-26 2012-05-30 凸版印刷株式会社 有機機能性素子の製造方法
CN101490760B (zh) 2006-10-18 2012-11-14 松下电器产业株式会社 多层信息记录介质的制造方法及多层信息记录介质
DE102006054481A1 (de) * 2006-11-18 2008-05-21 Eppendorf Ag Vakuumkonzentrator und Verfahren zur Vakuumkonzentration
JP5087927B2 (ja) * 2007-01-09 2012-12-05 大日本印刷株式会社 有機発光素子、有機発光トランジスタ及び発光表示装置
US20080289676A1 (en) 2007-05-25 2008-11-27 Guidotti Ronald Armand Electrode for a thermal battery and method of making the same
CN101275282B (zh) * 2007-12-26 2011-06-08 中国核动力研究设计院 超晶格热电材料的制备方法
GB0803950D0 (en) * 2008-03-03 2008-04-09 Cambridge Display Technology O Solvent for printing composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012519950A5 (ja)
JP2012519981A5 (ja)
WO2010104852A3 (en) Process for forming an electroactive layer
FR2963342B1 (fr) Procede d'obtention d'un materiau comprenant un substrat muni d'un revetement
JP2012519941A5 (ja)
EA201071184A1 (ru) Способ осаждения тонкого слоя
JP2013534464A5 (ja)
WO2020089180A9 (de) Beschichtungsvorrichtung, prozesskammer, sowie verfahren zum beschichten eines substrats und substrat beschichtet mit zumindest einer materialschicht
JP2009540062A5 (ja)
PL1952183T3 (pl) Sposób powlekania artykułu optycznego antyzabrudzeniową wierzchnią powłoką przez próżniowe naparowanie
WO2010086863A3 (en) Crystalline drug-containing coatings
JP2015122486A5 (ja) アンダーコートを形成する方法および反応チャンバ
JP2001115250A5 (ja)
WO2004105095A3 (en) Thin-film deposition evaporator
WO2010102272A3 (en) Process for forming an electroactive layer
TW200734486A (en) High density thermal barrier coating
WO2009140570A3 (en) Process for forming an electroactive layer
JP2013233644A5 (ja)
WO2012175334A3 (de) Verfahren und vorrichtung zum abscheiden
JP2011058048A5 (ja)
JP2016065297A5 (ja)
WO2016153966A3 (en) Method of inkjet printing decorations on substrates
WO2010104857A3 (en) Process for forming an electroactive layer
WO2020212398A3 (en) Source arrangement, deposition apparatus and method for depositing source material
MX2020005591A (es) Metodo para producir un panel recubierto, impreso.