JP4285264B2 - 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 Download PDFInfo
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また、均一な発光層を有し、表示作成に優れた有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することを課題とする。さらに、この有機エレクトロルミネッセンス装置を用いた電子機器を提供することを課題とする。
正孔注入/輸送層を、溶媒として極性溶媒を用いて吐出、成膜する第1工程と、
前記正孔注入/輸送層上に、正孔輸送層を、溶媒としてシクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、またはこれらの混合物からなる非極性溶媒を用いて吐出、成膜する第2工程と、
第2工程の後、前記組成物の各々は溶媒としてシクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、またはこれらの混合物からなる非極性溶媒を含み、前記組成物のうち一方の組成物を吐出及び乾燥させた後、他方の組成物を吐出する第3工程を備えてなり、
前記組成物は溶媒と有機エレクトロルミネッセンス材料のみからなり、
前記一方の組成物と前記他方の組成物の溶媒は同一溶媒からなり、また前記一方の前記組成物に含まれる有機エレクトロルミネッセンス材料の数と他方の前記組成物に含まれる有機エレクトロルミネッセンス材料の数が等しく、
前記他方の組成物が前記一方の組成物より成膜後に相分離しやすいこと、また、後の工程で塗布する前記発光層に正孔輸送層の一部が溶け込み、残りは薄膜として前記正孔注入/輸送層と発光層の間に残存していることを特徴とする。
本発明によれば、成膜後において相分離しやすい組成物の吐出成膜を、成膜後において相分離しにくい組成物よりも後から行うこととした。そのため、吐出成膜後の再溶解による相分離を防ぐことができ、表示特性の優れた有機エレクトロルミネッセンス装置を製造することができる。
前記2種類以上の組成物のうち、前記組成物を構成する有機エレクトロルミネッセンス材料の数が同じである組成物の、基板に対する成膜順序を、前記組成物を構成する有機エレクトロルミネッセンス材料が成膜後において相分離しにくい順とし、
連続する2回の組成物の成膜において、先に吐出した組成物を乾燥させた後、次の組成物を成膜することを特徴とする。
加熱は、例えばプラズマ処理室内にて基板10を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基板10を、例えば70〜80℃に加熱することにより行う。
がよい。
。
製造した。具体的な製造条件は下記のとおりであるが、発光層形成工程における順番以外
の条件は、各参考例、比較例とも共通である。
(隔壁形成工程)
ITOからなる透明画素電極上が開口するように、バンク層(隔壁)形成した。透明電
極は70.5μmピッチでマトリクス状に形成されているので、バンク層(隔壁)の開口
部も同様にマトリクス状に70.5μmピッチで形成されている。バンク層(隔壁)は、
SiO2からなる無機物バンク層と、ポリイミドからなる有機物バンク層とを積層して形
成した。それぞれのバンク層は、フォトリソグラフィ工程の後、エッチングすることによ
り形成した。バンク層の開口部の形状は円形とし、有機物バンク層の開口部の径は28μ
m、無機物バンク層の開口部の径は44μmとした。また、無機物バンク層の高さは、1
50nm、有機物バンク層の高さは2μmとした。
(プラズマ処理工程)
親インク化工程としてO2プラズマ処理を行った。O2プラズマ処理の条件は、室温、大
気圧下で、パワー300W、電極−基板間距離1mm、酸素ガス流量100ccm、ヘリ
ウムガス流量10SLM、テーブル搬送速度10mm/sで行った。続けて撥インク化工
程としてCF4プラズマ処理を行った。CF4プラズマ処理の条件は、CF4ガス流量10
0SCCM、ヘリウムガス流量10SLM、テーブル搬送速度3mm/sの往復で行った
。
(正孔注入/輸送層形成工程)
表1に示した正孔注入/輸送層用インク組成物(バイエル社製のバイトロンPと、ポリ
エチレンスルフォン酸の混合物)をインクジェットプリント装置のヘッド(エプソン社製
MJ−930C)から15pl吐出しパターン塗布。真空中(1torr)、室温、20
分という条件で溶媒を除去した。続けて、同じ正孔注入/輸送層用インク組成物を15p
l吐出しパターン塗布した。真空中(1torr)、室温、20分という条件で溶媒を除
去し、大気中、200℃(ホットプレート上)、10分の熱処理により正孔注入/輸送層
を形成した。
1,2,3,4−テトラメチルベンゼンをインクジェットプリント装置(エプソン社製MJ−930C)から吐出して塗布し、その後、ホットプレート上において200℃以下の温度で加熱して乾燥させた。
(発光層形成工程)
表2〜表4に示すインク組成物を調製した。表2は発光層(緑色)組成物、表3は発光層(青色)組成物、表4は発光層(赤色)組成物を各々示すものである。なお、表中の化合物1,2.4.5は、各々[化1]〜[化5]として上述したものである。
まず、表3に示した1%(wt/vol)濃度の発光層(青色)組成物をインクジェッ
トプリント装置(エプソン社製MJ−930C)から、N2ガスをフローしながら20p
l吐出し25℃、1atmの条件で乾燥し、青色発光層を得た。
まず、表3に示した1%(wt/vol)濃度の発光層(青色)組成物をインクジェッ
トプリント装置(エプソン社製MJ−930C)から、N2ガスをフローしながら20p
l吐出してから25℃、1atmの条件で乾燥し、青色発光層を得た。
(比較例)
まず、表2に示した1%(wt/vol)濃度の発光層(緑色)組成物をインクジェットプリント装置(エプソン社製MJ−930C)から、N2ガスをフローしながら20pl吐出してから25℃、1atmの条件で乾燥し、緑色発光層を得た。
フローしながら隣の開口部に20pl吐出してから25℃、1atmの条件で乾燥し、青
色発光層を得た。
(陰極形成工程)
陰極層として、蒸着法により2nmのLiF層を形成した後、さらに、蒸着法により2
0nmのカルシウム層を形成した。その後さらに陰極層としてスパッタリング法により2
00nmのアルミニウム層を形成した。
(封止工程)
陰極上の全面にエポキシ樹脂からなる封止材を塗布し、封止層を形成した。さらに、封
止層上に封止用基板を積層し、各参考例、比較例に係る有機エレクトロルミネッセンス装
置とした。
(評価)
図9に比較例と参考例1に係る有機エレクトロルミネッセンス装置の緑色発光層の発光
スペクトルを示す。図9(A)に示すように、比較例の緑色発光層は、化合物1由来の青
色発光(430nm)が残り、斑のある水色発光を示した。
530nm)の、ほぼ均一なスペクトルを示した。
の均一なスペクトルを示した。
)、赤色発光層(640nm)、緑色発光層(530nm)、のいずれも均一なスペクト
ルを示した。
11.透明電極
12.バンク層
13.開口部
14.インクジェットヘッド
15.インク組成物(正孔注入/輸送用)
16.正孔注入/輸送層
17.インク組成物(発光層用)
18.発光層
19.陰極
20.封止層
Claims (2)
- 有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物2種類以上を、各組成物に対応する基板上の画素領域に順次吐出して発光層を成膜する工程を含む有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
正孔注入/輸送層を、溶媒として極性溶媒を用いて吐出、成膜する第1工程と、
前記正孔注入/輸送層上に、正孔輸送層を、溶媒としてシクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、またはこれらの混合物からなる非極性溶媒を用いて吐出、成膜する第2工程と、
第2工程の後、前記組成物の各々は溶媒としてシクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、またはこれらの混合物からなる非極性溶媒を含み、前記組成物のうち一方の組成物を吐出及び乾燥させた後、他方の組成物を吐出する第3工程を備えてなり、
前記組成物は溶媒と有機エレクトロルミネッセンス材料のみからなり、
前記一方の組成物と前記他方の組成物の溶媒は同一溶媒からなり、また前記一方の前記組成物に含まれる有機エレクトロルミネッセンス材料の数と他方の前記組成物に含まれる有機エレクトロルミネッセンス材料の数が等しく、
前記他方の組成物が前記一方の組成物より成膜後に相分離しやすいこと、また、後の工程で塗布する前記発光層に正孔輸送層の一部が溶け込み、残りは薄膜として前記正孔注入/輸送層と発光層の間に残存していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記有機エレクトロルミネッセンス装置は、隔壁によって隔てられた複数の画素領域を含んでおり、前記組成物が前記画素領域に吐出されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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