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  1. 入力電位が入力される第1の入力端子および基準電位が入力される第2の入力端子と電気的に接続された差動増幅器と、
    少なくとも第1のトランジスタ乃至第4のトランジスタを含み、且つ出力電位が出力される第1の出力端子と電気的に接続された利得段を有し、
    前記差動増幅器は、高電位側電源電位線および低電位側電源電位線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタの第1端子は、前記差動増幅器の第2の出力端子と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタの第2端子は、前記第3のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの第1端子は、前記第2の入力端子と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの第2端子は、前記第4のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタの第1端子は、前記高電位側電源電位線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタの第2端子および前記第4のトランジスタの第1端子は、前記出力端子と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタの第2端子は、前記低電位側電源電位線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタおよび前記第2のトランジスタは、ソース−ドレイン間電圧が10Vであり、チャネル長が3μmである場合におけるチャネル幅1μmあたりのオフ状態のリーク電流が、1×10 −17 A以下であることを特徴とする半導体装置。
  2. 入力電位が入力される第1の入力端子および基準電位が入力される第2の入力端子と電気的に接続された差動増幅器と、
    少なくとも第1のトランジスタ乃至第4のトランジスタを含み、且つ出力電位が出力される第1の出力端子と電気的に接続された出力段と、
    前記差動増幅器および前記出力段の間に設けられ、且つ前記差動増幅器および前記出力段と電気的に接続された利得段を有し、
    前記差動増幅器および前記利得段は、高電位側電源電位線および低電位側電源電位線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタの第1端子は、前記利得段の第2の出力端子と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタの第2端子は、前記第3のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの第1端子は、前記利得段の第3の出力端子と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの第2端子は、前記第4のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタの第1端子は、前記高電位側電源電位線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタの第2端子および前記第4のトランジスタの第1端子は、前記出力端子と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタの第2端子は、前記低電位側電源電位線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタおよび前記第2のトランジスタは、ソース−ドレイン間電圧が10Vであり、チャネル長が3μmである場合におけるチャネル幅1μmあたりのオフ状態のリーク電流が、1×10 −17 A以下であることを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記第1のトランジスタおよび前記第2のトランジスタは、酸化物半導体層を有し、且つ前記酸化物半導体層にチャネル形成領域を有することを特徴とする半導体装置。
  4. 第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタを有し、
    前記第1のトランジスタの第1端子および前記第2のトランジスタの第1端子は、高電位側電源電位線に電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタの第2端子は、前記第1のトランジスタのゲート、前記第2のトランジスタのゲートおよび第3のトランジスタの第1端子に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの第2端子は、第4のトランジスタの第1端子に電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタの第2端子および前記第4のトランジスタの第1端子は、第5のトランジスタの第1端子と電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタの第2端子は、低電位側電源電位線に電気的に接続され、
    第6のトランジスタの第1端子は、前記高電位側電源電位線に電気的に接続され、
    第7のトランジスタの第1端子は、前記第2のトランジスタの前記第2端子および前記第4のトランジスタの第2端子と電気的に接続され、
    前記第7トランジスタの第2端子は前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    第8のトランジスタの第1端子は、前記第5のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第8のトランジスタの第2端子は、第9のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第9のトランジスタの第1端子は、前記第5のトランジスタの前記第2端子および前記低電源側電源電位と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、入力電位が入力される第1の入力端子と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのゲート、前記第6のトランジスタの第2端子および前記第9のトランジスタの第2端子は、出力端子と電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタの前記ゲートは、基準電位が入力される第2の入力端子と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタおよび前記第6のトランジスタは、pチャネル型トランジスタであり、
    前記第3のトランジスタ乃至前記第5のトランジスタおよび前記第9のトランジスタは、nチャネル型トランジスタであり、
    前記第7のトランジスタおよび前記第8のトランジスタは、ソース−ドレイン間電圧が10Vであり、チャネル長が3μmである場合におけるチャネル幅1μmあたりのオフ状態のリーク電流が、1×10 −17 A以下であることを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項4において、
    前記第7のトランジスタおよび前記第8のトランジスタは、酸化物半導体層を有し、且つ前記酸化物半導体層にチャネル形成領域を有することを特徴とする半導体装置。
  6. 第1のトランジスタ乃至第13のトランジスタおよび1の容量素子を有し、
    前記第1のトランジスタの第1端子および前記第2のトランジスタの第1端子は、高電位側電源電位線に電気的に接続されており、
    前記第1のトランジスタの第2端子は、前記第1のトランジスタのゲート、第2のトランジスタのゲートおよび第3のトランジスタの第1端子と電気的に接続されており、
    前記第2のトランジスタの第2端子は、第4のトランジスタの第1端子に電気的に接続されており、
    前記第3のトランジスタの第2端子および前記第4のトランジスタの第2端子は、第5のトランジスタの第1端子と電気的に接続されており、
    前記第5のトランジスタの第2端子は、低電位側電源電位線に電気的に接続されており、
    第6のトランジスタの第1端子は、前記高電位側電源電位線に電気的に接続されており、
    前記第2のトランジスタの前記第2端子および前記第4のトランジスタの前記第1端子は、前記第6のトランジスタのゲートおよび容量素子の一方の電極と電気的に接続されており、
    前記第6のトランジスタの第2端子および前記容量素子の他方の電極は、第7のトランジスタの第1端子および第7のトランジスタのゲートと電気的に接続されており、
    前記第7のトランジスタの第2端子は、第8のトランジスタの第1端子と電気的に接続されており、
    前記第8のトランジスタの第2端子は、前記第8のトランジスタのゲートおよび第9のトランジスタの第1端子と電気的に接続されており、
    前記第9のトランジスタの第2端子は、前記低電位側電源電位線と電気的に接続されており、
    第10のトランジスタの第1端子は、前記高電位側電源電位線と電気的に接続されており、
    第11のトランジスタの第1端子は、前記第7のトランジスタの前記ゲートと電気的に接続されており、
    前記第10のトランジスタのゲートは、前記第11のトランジスタの第2端子と電気的に接続されており、
    第12のトランジスタの第1端子は、前記第8のトランジスタの前記ゲートと電気的に接続されており、
    前記第12のトランジスタの第2端子は、第13のトランジスタのゲートと電気的に接続されており、
    前記第10のトランジスタの第2端子は、前記第13のトランジスタの第1端子と電気的に接続されており、
    前記第13のトランジスタの第2端子は、前記低電位側電源電位線と電気的に接続されており、
    前記第4のトランジスタのゲートは、入力電位が入力される第1の入力端子と電気的に接続されており、
    前記第3のトランジスタのゲート、前記第10のトランジスタの前記第2端子および前記第13のトランジスタの前記第1端子は、出力電位が出力される出力端子と電気的に接続されており、
    前記第5のトランジスタのゲートおよび前記第9のトランジスタのゲートは、基準電位が入力される第2の入力端子と電気的に接続されており、
    前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第6のトランジスタ、前記第8のトランジスタおよび前記第13のトランジスタは、pチャネル型トランジスタであり、
    前記第3のトランジスタ乃至前記第5のトランジスタ、前記第7のトランジスタ、前記第9のトランジスタおよび前記第10のトランジスタは、nチャネル型トランジスタであり、
    前記第11のトランジスタおよび前記第12のトランジスタは、ソース−ドレイン間電圧が10Vであり、チャネル長が3μmである場合におけるチャネル幅1μmあたりのオフ状態のリーク電流が、1×10 −17 A以下であることを特徴とする半導体装置。
  7. 請求項6において、
    前記第11のトランジスタおよび前記第12のトランジスタは、酸化物半導体層を有し、且つ前記酸化物半導体層にチャネル形成領域を有することを特徴とする半導体装置。
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