JP2012248843A - 大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を具備した電子素子 - Google Patents

大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を具備した電子素子 Download PDF

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Abstract

【課題】大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を具備した電子素子を提供する。
【解決手段】0.1S/cm以上の電気伝導度を有する導電性物質および低表面エネルギー物質を含み、第1面と、前記第1面に対向する第2面と、を有し、前記第2面の低表面エネルギー物質の濃度が、前記第1面の低表面エネルギー物質の濃度より高く、前記第2面の仕事関数が5.0eV以上であり、かつ前記第2面の電気伝導度が1S/cm以上である大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極、を具備した電子素子である。
【選択図】図1

Description

本発明は、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を具備した電子素子に関する。
有機発光素子(organic light emitting device)は、自発光型素子であって、視野角が広く、かつコントラストにすぐれるだけではなく、応答時間が速く、輝度、駆動電圧および応答速度特性にすぐれ、また多色化が可能であるという長所を有している。
一般的な有機発光素子は、アノードおよびカソードと、前記アノードと前記カソードとの間に設けられた有機層とを含む。前記有機層は、電子注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層などを含む。前記アノードと前記カソードとの間に電圧を印加すれば、アノードから注入された正孔は、正孔輸送層を経由して発光層に移動し、カソードから注入された電子は、電子輸送層を経由して発光層に移動する。前記正孔および電子のようなキャリアは、発光層領域で再結合して励起子(exiton)を生成するが、この励起子が励起状態から基底状態に変わりつつ光が生成する。
一方、全世界的に再生エネルギーへの関心が高まっている現状において、未来のエネルギーとしての可能性および多様な長所を有した有機太陽電池が注目されている。前記有機太陽電池は、シリコンを利用した無機太陽電池に比べ、薄膜化および低コスト製造が可能であり、今後各種フレキシブル素子に多様に適用されるであろう。
有機発光ダイオードおよび有機太陽電池に共通して利用される酸化インジウムスズ(ITO)電極は、インジウムの資源枯渇問題が深刻になっており、加えて価格が高騰しているという問題を有しており、またITOは、衝撃を与えたり折り曲げたりすれば、割れやすいために、フレキシブル素子に適用することが事実上不可能である。これに代替する電極の開発がなされているが、現在まで開発された電極の仕事関数は、満足すべきレベルに達していない。これを補うため、円滑な電荷注入および電荷移動のための多層構造の層を、電極上部に形成する技術があるが、これは、電子素子を製造するとき、材料および工程コストがさらにかかるという短所を有している。したがって、仕事関数の大きいフレキシブル電極を使用し、正孔輸送/抽出用補助層を使用せずとも、単純化された構造で、さらに高性能を有する有機電子素子の開発や、既存の平板素子だけではなく、フレキシブル素子にも適用できる有機電子素子の開発が望まれている。
韓国公開特許第2003−71557号公報
本発明は、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を具備し、構造が単純化された電子素子を提供することを課題とする。
本発明は、0.1S/cm以上の電気伝導度を有する導電性物質および低表面エネルギー物質を含み、第1面と、前記第1面に対向する第2面と、を有し、前記第2面の低表面エネルギー物質の濃度が、前記第1面の低表面エネルギー物質の濃度より高く、前記第2面の仕事関数が5.0eV以上であり、前記第2面の電気伝導度が1S/cm以上である大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を具備した電子素子を提供する。
本発明に係る大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極は、各種電子素子、特に、有機発光素子および有機太陽電池のアノードとして用いられる。このとき、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極は、大きい仕事関数を有するため、発光層または光活性層との仕事関数調節のための正孔注入層および/、正孔輸送層、または正孔抽出層を形成する必要がない。よって、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を利用すれば、電子素子を単純化することができ、素子の製造コストも低減される。また、高分子材料を用いた大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極であるため、平板電子素子だけではなく、フレキシブル電子素子にも用いられる。
本発明の一実施形態による電極の断面を概略的に示す断面概略図である。 本発明の一実施形態による有機発光素子の断面を概略的に示す図面である。 有機発光素子の基板、電極(アノード)および正孔輸送層の間の仕事関数の関係を概略的に示す断面概略図である。 有機太陽電池の一実施形態を概略的に示す断面概略図である。 有機薄膜トランジスタの一具現例を概略的に図示した断面概略図である。 実施例1で作製した電極4において、スパッタの時間と分子分布との関係を示すXPS(X−ray photoelectron)スペクトルである。 実施例1および比較例Aで作製した電極1〜4、および電極Aの光透過度を示すグラフである。 実施例1で作製した電極1〜4の正孔移動度を示すグラフである。 実施例1で作製した電極1〜4の正孔注入効率を示すグラフである。 実施例2および比較例1〜3で作製したOLED 1〜4およびOLED A〜Cの輝度と効率との関係を示すグラフである。 実施例2および比較例1〜3で作製したOLED 1〜4およびOLED A〜Cの電圧と輝度との関係を示すグラフである。 実施例2および比較例1〜2で作製したOLED 1〜4およびOLED A〜Bの時間と−輝度との関係を示すグラフである。
以下、添付された図面を参照しつつ、本発明の好ましい実施形態例について詳細に説明すれば、次の通りである。
図1は、本発明の一実施形態による大きい仕事関数および高い導電性を有する電極15の断面を、基板10と共に概略的に示した断面概略図である。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、0.1S/cm以上の電気伝導度を有する導電性物質および低表面エネルギー物質(material having low surface energy)を含む。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、第1面15A、および前記第1面15Aに対向する第2面15Bを有し、前記第2面15Bの低表面エネルギー物質の濃度は、前記第1面15Aの低表面エネルギー物質の濃度より高い。前記第2面15Bの仕事関数は、5.0eV以上である。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の電気伝導度は、厚み100nmの電極15を基準に1S/cm以上である。
本明細書において、「低表面エネルギー物質」とは、低い表面エネルギーを有する膜を形成することができる物質であり、具体的には、前記導電性物質よりも低い表面エネルギーを有する物質を指す。前記低表面エネルギー物質と、前記導電性物質とを混合した組成物では、前記低表面エネルギー物質と、前記導電性物質との表面エネルギー差によって相分離が起き、前記低表面エネルギー物質が、上部相をなし、前記導電性物質が下部相をなす。前記低表面エネルギー物質は、フッ素含有物質であることが好ましく、前記導電性物質よりも高い疎水性を有することができる。また、前記低表面エネルギー物質は、前記導電性物質の仕事関数より大きい仕事関数を有する物質であってもよい。例えば、前記低表面エネルギー物質は、前記低表面エネルギー物質からなる100nm厚の薄膜が、30mN/m以下の表面エネルギーを有し、10−15〜10−1S/cmの電気伝導度を有するような物質であってもよい。また、前記低表面エネルギー物質を含む導電性高分子組成物を用いて製造された100nm厚の薄膜が、30mN/m以下の表面エネルギーを有し、10−7〜10−1S/cmの電気伝導度を有する物質であってもよい。
したがって、前記導電性物質と、前記低表面エネルギー物質とを含む電極形成用組成物を含む膜を、基板10上に形成すれば、前記低表面エネルギー物質の低い表面エネルギーのために、前記導電性物質と前記低表面エネルギー物質とは、均一に混合されない。その代わりに、前記低表面エネルギー物質の濃度は、前記第1面15Aから前記第2面15Bに向かう方向に沿って漸増する濃度勾配を有し、相対的に、前記導電性物質の濃度は、前記第2面15Bから前記第1面15Aに向かって漸増する濃度勾配を有するように、導電性物質と、低表面エネルギー物質とが分布しうる。この後、基板10上に形成された前記導電性物質と、前記低表面エネルギー物質とを含む電極形成用組成物を含む膜をベーキングすることによって、成膜工程を完成すれば、低表面エネルギー物質の濃度が、第1面15Aから第2面15Bに向かって漸増する大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15を形成することができる。
このような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、ただ1回の溶液成膜工程を介して、導電性物質と低表面エネルギー物質との自己配列(self−organization)によって形成されるものであるから、導電性物質層と低表面エネルギー物質層とが区分されない単一層の形態を有する。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の第1面15Aの仕事関数は、前記導電性物質の仕事関数と同一であってもよく、大きくてもよい。また、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の第2面15Bの仕事関数は、前記低表面エネルギー物質の仕事関数と同一であってもよく、小さくてもよいが、これに限定されるものではない。
前記低表面エネルギー物質は、極性溶媒に対して、90%以上の溶解度、例えば、95%以上の溶解度を有する物質であってもよい。前記極性溶媒の例としては、水、アルコール(メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノールなど)、エチレングリコール、グリセロール、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトンなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
前記低表面エネルギー物質は、フッ素含有物質であることが好ましい。例えば、前記低表面エネルギー物質は、フッ化高分子またはフッ化オリゴマーであることが好ましい。
さらに具体的には、前記低表面エネルギー物質は、下記化学式1〜3で表される繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有するフッ化高分子であることが好ましい。
前記化学式1中、
aは、0〜10,000,000の数であり、
bは、1〜10,000,000の数であり、
は、−[O−C(R)(R)−C(R)(R)]−[OCFCF−Rで表される基、−COOH、または−O−R−Rで表される基であり、
前記R、R、RおよびRは、互いに独立して、−F、−CF、−CHF、または−CHFであり、
前記cおよびdは、互いに独立して、0〜20の整数であり、
前記Rは、−(CF−(zは、1〜50の整数である)で表される基または−(CFCFO)−CFCF−(zは、1〜50の整数である)で表される基であり、
前記RおよびRは、互いに独立して、−SOM、−PO、または−COMであり、
前記Mは、Na、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH 、NH 、NHSOCF 、CHO、COH、CHOH、またはCH(CHCHO(wは、0〜50の整数である)である(好ましくはNa、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH である)。
前記化学式2中、
pは、0〜10,000,000の数であり、
qは、1〜10,000,000の数であり、
は、水素原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数5〜60のアリール基(好ましくは炭素数6〜60のアリール基)、または−COOHであり、
は、水素原子、または置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、
は、−O−(CF−SOMで表される基、−O−(CF−POで表される基、−O−(CF−COMで表される基、または−CO−NH−(CH−(CF−CFで表される基であり、
前記r、s、およびtは、互いに独立して、0〜20の整数であり、
前記Mは、Na、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH 、NH 、NHSOCF 、CHO、COH、CHOH、またはCH(CHCHO(wは、0〜50の整数である)である(好ましくはNa、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH である)。
前記化学式3中、
mおよびnは、0≦m<10,000,000、0<n≦10,000,000であり、
xおよびyは、互いに独立して、0〜20の整数であり、
Yは、−SOM、−POまたは−COMであり、
前記Mは、Na、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH 、NH 、NHSOCF 、CHO、COH、CHOH、またはCH(CHCHO(wは、0〜50の整数である)である(好ましくはNa、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH である)。
好ましくは、前記低表面エネルギー物質は、前記化学式1で表される繰り返し単位を含むフッ化高分子である。
より好ましくは、前記低表面エネルギー物質は、前記化学式1で表される繰り返し単位を含むフッ化高分子であって、aは100〜10,000の数であり、bは50〜1,000の数であり、Qは−[O−C(R)(R)−C(R)(R)]−[OCFCF−Rで表される基であるフッ化高分子である。
さらに好ましくは、前記低表面エネルギー物質は、前記化学式1で表される繰り返し単位を含むフッ化高分子であって、aは、100〜10,000の数であり、bは、50〜1,000の数であり、Qは、−[O−C(R)(R)−C(R)(R)]−[OCFCF−Rで表される基であるフッ化高分子であり、前記cは、1〜3の整数であり、R、RおよびRはフッ素原子であり、Rは−CFであり、dは1〜3の整数であり、Rは−SOMであるフッ化高分子である。
一方、前記低表面エネルギー物質は、下記化学式4で表示されるフッ化シラン系物質であってもよい。
前記化学式4中、
Xは、末端基であり、
は、パーフルオロポリエーテルアルコール、ポリイソシアネートおよびイソシアネート反応性非フッ素化モノマーの縮合反応から得られるフッ化モノマー由来の基または炭素数1〜20の直鎖状もしくはフッ化アルキレン基であり、
は、非フッ素化モノマー由来の基であり、
は、−Si(Y)(Y)(Y)または−(Y)(Y)−で表される基であり、
前記Y、Y、およびYは、互いに独立して、ハロゲン原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数6〜30のアリール基、または加水分解性置換基を示し、前記Y、YおよびYのうち少なくとも1つは、前記加水分解性置換基であり、
Gは、連鎖移動剤の残基を含む1価の有機基であり、
nは、1〜100の整数であり、
mは、0〜100の整数であり、
rは、0〜100の整数であり、
n+m+rは、少なくとも2であり、
pは、0〜10の整数であり、
p=0のとき、Mは、−Si(Y)(Y)(Y)で表される基である。
好ましくは、前記Xは、ハロゲン原子であって、前記Mは、炭素数1〜10の直鎖状または分枝状のフッ化アルキレン基であり、Mは、炭素数2〜10の直鎖状または分枝状のアルキレン基であり、前記Y、YおよびYは、互いに独立して、ハロゲン原子(例えばBr、Cl、Fなど)であって、pは、0であるフッ化シラン系物質である。より好ましくは、前記化学式4で表されるフッ化シラン系物質は、CFCHCHSiClであるが、これに限定されるものではない。
前記化学式4で表されるフッ化シラン系物質に係わる詳細な説明は、米国特許第7728098号明細書に記述されており、これは、参照にされて本明細書に統合される。
前記導電性物質は、0.1S/cm以上の電気伝導度を有するが、1S/cm以上の高い電気伝導度を有する導電性高分子であることが好ましい。
例えば、前記導電性物質は、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリスチレン、スルホン化されたポリスチレン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、自己ドープ導電性高分子、これらの誘導体、およびこれら物質の組み合わせを含んでもよい。前記の誘導体とは、各種スルホン酸誘導体などをさらに含んでもよいということを意味する。
例えば、前記導電性物質は、ポリアニリン/ドデシルベンゼンスルホン酸(Pani:DBSA;下記化学式参照)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(4−スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS;下記化学式参照)、ポリアニリン/カンファースルホン酸(Pani:CSA)またはポリアニリン/ポリ(4−スチレンスルホンate(PANI:PSS)などでありうるが、これらに限定されるものではない。
上記化学式中のRは、水素原子または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である。
前記自己ドープ導電性高分子は、10〜10,000,000の重合度を有することが好ましく、下記化学式5で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
前記化学式5中、0<m<10,000,000、0<n<10,000,000、0≦a≦20、0≦b≦20であり、
、R、R、R’、R’、R’、およびR’のうち少なくとも1つは、イオン性基であり、A、B、A’、およびB’は、互いに独立して、C、Si、Ge、SnおよびPbからなる群より選択される原子である。
、R、R、R’、R’、R’およびR’は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、置換されているかもしくは非置換のアミノ基、シアノ基、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜30の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜30の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、置換されているかもしくは非置換の炭素数2〜30の直鎖状もしくは分枝状のヘテロアルコキシ基、置換されているかもしくは非置換の炭素数6〜30のアリール基、置換されているかもしくは非置換の炭素数7〜30のアリールアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数6〜30のアリールオキシ基、置換されているかもしくは非置換の炭素数2〜30のヘテロアリール基、置換されているかもしくは非置換の炭素数3〜31のヘテロアリールアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数2〜30のヘテロアリールオキシ基、置換されているかもしくは非置換の炭素数7〜30のアリールアルキルオキシ基、置換されているかもしくは非置換の炭素数5〜30のシクロアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数5〜30のヘテロシクロアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜30のアルキルエステル基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数7〜31のアリールエステル基であり、前記化学式5で表される高分子の炭素に、選択的に水素原子またはハロゲン元素が結合し、
は、共役系導電性高分子鎖である。
XおよびX’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、硫黄原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜30の直鎖状もしくは分枝状のアルキレン基、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜30の直鎖状もしくは分枝状のヘテロアルキレン基、置換されているかもしくは非置換の炭素数6〜30のアリーレン基、置換されているかもしくは非置換の炭素数7〜31のアリールアルキレン基、置換されているかもしくは非置換の炭素数2〜30のヘテロアリーレン基、置換されているかもしくは非置換の炭素数3〜31のヘテロアリールアルキレン基、置換されているかもしくは非置換の炭素数5〜20のシクロアルキレン基、および置換されているかもしくは非置換の炭素数5〜30のヘテロシクロアルキレン基からなる群から選択され、前記化学式5で表される炭素に、選択的に水素またはハロゲン元素が結合しうる。
例えば、前記イオン性基は、PO 2−、SO 、COO、I、およびCHCOOからなる群より選択される陰イオン;Na、K、Li、Mg+2、Zn+2、およびAl+3からなる群より選択される金属イオン;H、NH 、およびCH(−CH−)(nは、1〜50の自然数)なる群より選択される有機イオンなどから選択される少なくとも1種が好ましく、前記陰イオンと対をなす陽イオンとを共に含んでもよい。
前記化学式5の自己ドープ導電性高分子において、R、R、R、R’、R’、R’およびR’のうち、少なくとも1つは、フッ素原子であるか、フッ素含有置換基であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、非置換のアルキル基の具体的な例としては、直鎖状または分枝状であって、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、iso−アミル基、ヘキシル基などを挙げることができ、前記アルキル基に含まれている1つ以上の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、置換されているかもしくは非置換のアミノ基(−NH、−NH(R)、−N(R’)(R”)、この際、R、R’およびR”は互いに独立して、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)、アミジノ基、ヒドラジン基、ヒドラゾン基、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数2〜20のアルキニル基、炭素数1〜20のヘテロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜21のアリールアルキル基、炭素数2〜30のヘテロアリール基、または炭素数3〜21(好ましくは炭素数6〜20)のヘテロアリールアルキル基で置換されてもよい。
本明細書においてヘテロアルキル基は、前記アルキル基の主鎖における炭素原子のうち1つ以上、好ましくは、1〜5個の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはリン原子のようなヘテロ原子に置換された基を意味する。
本明細書においてアリール基は、1つ以上の芳香族環を含む炭化水素環を意味し、前記炭化水素環は、ペンダント法で共に結合されるか、あるいは縮合されていてもよい。アリール基の具体的な例としては、フェニル基、ナフチル基、またはテトラヒドロナフチル基などを挙げることができ、前記アリール基のうち1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてヘテロアリール基は、窒素原子、酸素原子、リン原子および硫黄原子からなる群より選択される1つ以上のヘテロ原子を含み、残りの環原子がCである、環原子数5〜30の基を意味し、環は、ペンダント法で共に結合されるか、あるいは縮合されていてもよい。そして、前記ヘテロアリール基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてアルコキシ基は、−O−アルキル基であり、このとき、アルキルは、前記で定義された通りである。具体的な例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、iso−アミルオキシ基、ヘキシルオキシ基などを挙げることができ、前記アルコキシ基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてヘテロアルコキシ基は、1個以上のヘテロ原子、例えば、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が、アルキル鎖内に存在するということを除けば、本質的に、前記アルコキシ基と同様であり、例えば、CHCHOCHCHO−、COCHCHOCHCHO−、CHO(CHCHO)−などが挙げられる。
本明細書においてアリールアルキル基は、前記で定義されたようなアリール基において、水素原子のうち一部が、低級アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基のようなアルキル基で置換されたものを意味する。例えば、ベンジル基、フェニルエチル基などがある。前記アリールアルキル基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてヘテロアリールアルキル基は、ヘテロアリール基の水素原子の一部が、低級アルキル基で置換されたものを意味し、ヘテロアリールアルキル基におけるヘテロアリール基についての定義は、前述の通りである。前記ヘテロアリールアルキル基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてアリールオキシ基は、−O−アリール基であり、この際、アリール基は、前記で定義された通りである。具体的な例としては、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセニルオキシ基、フェナントレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、インデニルオキシ基などが挙げられあって、アリールオキシ基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてヘテロアリールオキシ基は、−O−ヘテロアリール基であり、このとき、ヘテロアリール基は、前記で定義された通りである。ヘテロアリールオキシ基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてアリールアルキルオキシ基は、−O−アリールアルキル基であり、このとき、アリールアルキル基は、前記で定義された通りである。アリールアルキルオキシ基の具体的な例としては、例えば、ベンジルオキシ基、フェニルエチルオキシ基などがあって、アリールアルキルオキシ基において1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてシクロアルキル基は、炭素原子数5〜30の一価の単環基を意味する。前記シクロアルキル基のうち1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてヘテロシクロアルキル基は、窒素原子、酸素原子、リン原子または硫黄原子のうちから選択される1〜3個のヘテロ原子を含み、残りの環原子がCである環原子数5〜30の一価の単環系を意味する。前記ヘテロシクロアルキル基のうち1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換可能である。
本明細書においてアルキルエステル基は、アルキル基とエステル基とが結合されている官能基を意味し、このとき、アルキル基は、前記で定義された通りである。
本明細書においてヘテロアルキルエステル基は、ヘテロアルキル基とエステル基とが結合されている官能基を意味し、前記ヘテロアルキル基は、前記で定義された通りである。
本明細書においてアリールエステル基は、アリール基とエステル基とが結合されている官能基を意味し、このときアリール基は、前記で定義された通りである。
本明細書においてヘテロアリールエステル基は、ヘテロアリール基とエステル基とが結合されている官能基を意味し、このとき、ヘテロアリール基は、前記で定義された通りである。
本発明で使われるアミノ基は、−NH、−NH(R)または−N(R’)(R”)を意味し、R、R’、およびR”は、互いに独立して、炭素数1〜10の直鎖状または分枝状のアルキル基である。
本明細書においてハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはアスタチン原子であり、それらのうち、フッ素原子が特に好ましい。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、前述のような導電性物質および低表面エネルギー物質以外に、金属ナノワイヤをさらに含んでもよい。前記金属ナノワイヤは、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の伝導性特性および光学性能をさらに向上させ、機械的強度を向上させる役割を果たすことができる。前記金属ナノワイヤとしては、例えば、Ag、Au、Cu、Pt、NiSi、金属性カーボンナノチューブ、またはこれらのうち2以上の複合体(例えば、合金またはコア・シェル構造体など)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導性を有する電極15は、前記導電性物質および低表面エネルギー物質以外に、グラフェンフレーク、グラフェンドット、還元グラフェン酸化物および黒鉛からなる群より選択される少なくとも1種をさらに含んでもよい。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、前述のような導電性物質および低表面エネルギー物質の他に、半導体ナノワイヤを選択的にさらに含んでもよい。前記半導体ナノワイヤおよび前記金属ナノワイヤは、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の導電性および光学性能をさらに向上させることができる。前記半導体ナノワイヤは、例えば、Si、Ge、BまたはNでドーピングされたSi、BまたはNでドーピングされたGe、およびこれらの2以上の複合体(例えば、合金またはコア・シェル構造体など)などの中から選択されうるが、これらに限定されるものではない。
前記金属ナノワイヤおよび前記半導体ナノワイヤの直径は、5nm〜100nmであることが好ましく、長さは、500nm〜100μmであることが好ましいが、これは、前記金属ナノワイヤおよび前記半導体ナノワイヤの製造方法によって、多様に選択される。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、前述のような導電性物質および低表面エネルギー物質以外に、金属ナノドットをさらに含んでもよい。前記金属ナノドットは、例えば、Ag、Au、Cu、Pt、およびこれらのうちの2以上の複合体(例えば、合金またはコア・シェル構造体など)の中から選択されうるが、これらに限定されるものではない。
前記金属ナノワイヤ、前記半導体ナノワイヤ、および前記金属ナノドットの表面には、−S(Z100)で表される基、および−Si(Z101)(Z102)(Z103)で表される基の少なくとも一方(ここで、前記Z100、Z101、Z102およびZ103は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20のアルコキシ基である)が結合されていることが好ましい。前記−S(Z100)、および−Si(Z101)(Z102)(Z103)で表される基は、自己組織化部分であり、この自己組織化部分を介して、金属ナノワイヤ同士、半導体ナノワイヤ同士、もしくは金属ナノドット同士の結合力、または金属ナノワイヤ、半導体ナノワイヤ、および金属ナノドットと基板10との結合力などを強化することができ、これにより、電気的特性および機械的強度がさらに向上した大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15を製造することができる。
前記金属ナノワイヤ、前記半導体ナノワイヤ、および/または前記金属ナノドットは、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の全体に均一に分布されたり、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の特定領域に不均一に分布されたりしてもよい。
例えば、公知の方法を利用して、金属ナノワイヤをまず基板10上に形成した後、金属ナノワイヤが形成された基板10上に、前述のような導電性物質および低表面エネルギー物質を含む電極形成用組成物を塗布してベーキングすれば、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の第1面15Aにのみ金属ナノワイヤを形成することができる。
前記金属ナノワイヤ、前記半導体ナノワイヤ、および前記金属ナノドットは、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15に含まれる導電性物質および低表面エネルギー物質のうち少なくとも1つと、複合化、すなわち、物理的および/または化学的に結合されて複合体を形成することができる。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15において、低表面エネルギー物質の総濃度は、前記導電性物質100重量部当たり、10重量部〜500重量部が好ましく、20重量部〜400重量部がより好ましいが、これに限定されるものではない。前記低表面エネルギー物質の含有量が、前述のような範囲を満足する場合、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、高い導電性を有しつつ、第2面15Bの大きい仕事関数を同時に有することができる。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15を、透明電極として活用する場合、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の厚みLは、20nm〜500nmが好ましく、50nm〜200nmがより好ましい。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の厚みが前述のような範囲を満足する場合、優秀な仕事関数特性、透過度、およびフレキシブル特性を提供することができる。一方、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15を、反射電極および/または配線などに活用する場合、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の厚みLは、20nm〜100μmが好ましく、500nm〜5μmがより好ましい。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の厚みが前述のような範囲を満足する場合、大きい仕事関数および高い導電性を提供することができる。
前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、基板10上に前記導電性物質、前記低表面エネルギー物質、および溶媒を含む電極形成用組成物を塗布した後、これを熱処理することにより形成することができる。
まず、基板10としては、一般的な半導体工程で用いられる基板が用いられる。例えば、前記基板の材料としては、ガラス、サファイア、シリコン、シリコン酸化物、金属箔(例えば、銅箔、アルミニウム箔など)、スチール基板(例えば、ステンレススチールなど)、金属酸化物、高分子基板、およびこれらのうち2以上の組み合わせが挙げられる。前記金属酸化物の例としては、例えば、アルミニウム酸化物、モリブデン酸化物、インジウム酸化物、スズ酸化物、およびインジウムスズ酸化物などを挙げることができ、前記高分子基板の材料の例としては、カプトン(登録商標)箔、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリアクリレート(PAR)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート(PC)、三リン酸セルロース(TAC)、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
例えば、前記基板10は、前述のような高分子基板でありうるが、これに限定されるものではない。
次に、前記基板10上に、前述のような導電性物質、低表面エネルギー物質、および溶媒を含む電極形成用組成物を塗布する。
前記電極形成用組成物において、導電性物質および低表面エネルギー物質についての説明は、前述の通りであるため、ここでは説明を省略する。
前記電極形成用組成物において溶媒は、前記導電性物質および前記低表面エネルギー物質と混和性がありつつ、加熱などによって除去が容易な溶媒であることが好ましい。前記溶媒は、極性溶媒であることが好ましく、例えば、水、アルコール(メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノールなど)、極性有機溶媒(例えば、エチレングリコール、グリセロール、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)など)、またはこれらのうち2以上の組み合わせが好ましい。
前記溶媒は、互いに異なる2以上の物質の混合物であってもよい。または、前記溶媒は、前記極性有機溶媒を含んでもよい。例えば、前記溶媒は、極性有機溶媒であるか、水とアルコールとの混合物であるか、水と極性有機溶媒との混合物であるか、アルコールと極性有機溶媒との混合物であるか、または水、アルコールおよび極性有機溶媒の混合物であるなど、多様な変形が可能である。
前記極性有機溶媒の例としては、前述のように、エチレングリコール、グリセロール、DMF、DMSO、およびこれらのうち2以上の組み合わせを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
前記極性有機溶媒は、前記電極形成用組成物に含まれる導電性物質の凝集および結晶化をより促進させることができ、前記電極形成用組成物および前記電極形成用組成物から製造される電極の電気伝導度を調節または向上させることができる。
前記溶媒が極性有機溶媒を含む場合、前記極性有機溶媒の含有量は、前記電極形成用組成物の総量を100重量%として、1重量%〜30重量%であることが好ましいが、これに限定されるものではない。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、例えば、導電性物質の層および低表面エネルギー物質の層を個別に形成するものではなく、前述のような導電性物質、低表面エネルギー物質、および溶媒を含む電極形成用組成物を、前記基板10上に塗布した後、これを熱処理する1回の成膜工程によって形成することができ(導電性物質と低表面エネルギー物質との表面エネルギー差によって、各物質が自己組織化されてそれぞれの濃度勾配を形成する)、製作工程が簡単である。したがって、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、大面積の電子素子の製作に有用に応用される。
前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、各種電子素子に含まれる。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、従来のITOとは異なり、フレキシブル特性を有するので、前記電子素子に含まれる基板としてフレキシブル基板を採用するならば、容易にフレキシブル電子素子が具現可能である。前記フレキシブル基板としては、前述のような高分子基板を利用することができるが、これに限定されるものではない。
前記電子素子は、公知の多様な構造を有し、公知の多様な機能を果たすことができる素子であるが、有機発光素子、有機太陽電池、有機メモリ素子または有機トランジスタであることが好ましい。
前記電子素子が、従来の酸化インジウムスズ(ITO)電極の仕事関数(4.7〜4.9eV)より0.3eV以上大きいイオン化ポテンシャル(すなわち、5.0eV以上)を有する発光層を含む有機発光素子である場合、従来のITOからなるアノードの代わりに、本発明の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を使用することができる。このとき、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面が前記発光層に対向しうる。ここで、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面は、前記発光層と互いに接触しうる。または、選択的に、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極と発光層との間には、正孔輸送層がさらに介在するが、この際、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面と、前記正孔輸送層とが互いに接触しうる。一般的に、ITOからなるアノードと発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層の両方が含まれて素子が構成されるが、本発明では、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を使用するため、正孔注入層および/または正孔輸送層を設けなくてもよい。よって、本発明の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を使用することにより、平板有機発光ディスプレイ素子だけではなく、フレキシブル有機発光ディスプレイ素子を製造することができ、素子構造を単純化することができる。
一方、前記電子素子が、従来の酸化インジウムスズ電極の仕事関数より、0.3eV以上大きいイオン化ポテンシャル(すなわち、5.0eV以上)を有する光活性層を含む有機太陽電池である場合、従来のITOからなるアノードの代わりに、本発明の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を使用することができる。この際、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面は、前記光活性層に対向しうる。ここで、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面と前記光活性層とは、互いに接触しうる。一般的に、ITOからなるアノードと光活性層との間に、正孔抽出層を含んで素子が構成されるが、本発明では、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有数る電極を使用するために、正孔抽出層を省略することができる。よって、本発明の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を使用することにより、平板有機太陽電池だけではなく、フレキシブル有機太陽電池を具現することが可能であり、素子構造を単純化することができる。
前述のような電子素子は、ディスプレイ装置、照明ランプ、半導体チップのような多様な電子装置に含まれる。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15を具備した有機発光素子の一実施形態の概略的な構造を、図2に示す。図2の有機発光素子100は、基板110、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120、正孔輸送層130、発光層140、電子輸送層150、電子注入層160、ならびに第2電極170を含む。前記有機発光素子100の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120ならびに第2電極170の間に電圧を印加すれば、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120から注入された正孔は、正孔輸送層130を経由して発光層140に移動し、第2電極170から注入された電子は、電子輸送層150および電子注入層160を経由して発光層140に移動する。前記正孔および前記電子のようなキャリアは、発光層140で再結合し、励起子を生成するが、この励起子が励起状態から基底状態に変わりつつ、光が発生する。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の下部に、基板110が位置する。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120は、アノードの役割を担い、前記第2電極170は、カソードの役割を担うこともできる。
前記基板110は、前述のような基板であってもよい。例えば、前記基板110は、フレキシブル基板であるが、その例としては、前述のような高分子基板を挙げることができる。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120に係わる詳細な説明は、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15についての説明を参照する。
前記有機発光素子100は、正孔注入層を含まない。
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(4−スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS)およびポリアニリン/ポリ(4−スチレンスルホネート)(PANI:PSS)のような導電性高分子から形成された従来の正孔注入層の電気伝導度は、約10−6S/cm〜10−2S/cmである。例えば、CLEVIOUSTM P VP AI4083(Heraeous社、旧H.C.Starck社)のPEDOT:PSSは、10−3S/cmの電気伝導度を有し、CLEVIOUSTM P VP CH8000(Heraeous社、旧H.C.Starck社)のPEDOT:PSSは、10−6S/cmの電気伝導度を有する。しかし、導電性高分子が電極材料として使われるためには、0.1S/cm以上の電気伝導度を有することが必要であるため、従来の正孔注入層に用いられたPEDOT:PSSなどを電極材料として使用することは難しい。また、本発明の0.1S/cm以上の電気伝導度を有する導電性物質は、従来正孔注入層の材料として使われることが難しかったが、これは前記導電性物質を正孔注入層の材料として使用する場合、有機発光素子の画素(ピクセル)間のクロストーク(crosstalk)が発生しうるためである。したがって、従来の正孔注入層形成用の導電性高分子は、電気伝導度が10−2S/cm以下であり、既存のITOより大きい仕事関数を有し、正孔注入を容易にする物質のうちから選択されてきた。
図3は、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120ならびに正孔輸送層130の間の仕事関数の関係を概略的に示す図である。
大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の仕事関数は、図3から確認することができるように、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の第1面120Aから第2面120Bに向かって漸増する勾配を有する変数であってもよい。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120において、第1面120Aの仕事関数をYeVとし、第2面120Bの仕事関数をYeVとすると、Y<Yである。これにより、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120と、正孔輸送層130との間に、正孔注入層がなくとも、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120から正孔輸送層130への正孔移動効率が向上しうる。すなわち、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120は、既存のアノードおよび正孔注入層の役割を兼ねることができると解釈することができる。したがって、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120を含む有機発光素子100は、正孔注入層を形成せずとも、優秀な効率、輝度、および寿命特性を有することができる。したがって、前記有機発光素子100の製造コストが低減される。
正孔輸送層130の仕事関数は、5.4〜5.6eVであることが好ましいが、これに限定されるものではない。
前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の第1面120Aの仕事関数値であるYは、前記導電性物質の仕事関数と同一であってもよく、大きくてもよい。前記Yは、4.6〜5.2eVであることが好ましく、4.7〜4.9eVの範囲であることがより好ましい。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の第2面120Bの仕事関数値であるYは、前記低表面エネルギー物質の仕事関数と同一であってもよく、小さくてもよい。前記Yは、5.0〜6.5eVの範囲であることが好ましく、5.3〜6.2eVの範囲であることがより好ましいが、これに限定されるものではない。
有機発光素子100は、正孔注入層を含まないため、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の第2面120Bは、正孔輸送層130と接触しうる。
前記正孔輸送層130は、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB(Langmuir−Blodgett)法などの公知の多様な方法のうちから任意に選択された方法によって形成される。このとき、真空蒸着法を選択する場合、蒸着条件は、目的化合物、目的とする層の構造および熱的特性などによって異なるが、例えば、100〜500℃の蒸着温度の範囲、1.3×10−8Pa〜1.3×10−1Pa(10−10〜10−3torr)の真空度の範囲、0.01〜100Å/secの蒸着速度の範囲内で選択されうる。一方、スピンコーティング法を選択する場合、コーティング条件は、目的化合物、目的とする層の構造、および熱的特性によって異なるが、2,000rpm〜5,000rpmのコーティング速度の範囲、80℃〜200℃の熱処理温度(コーティング後の溶媒除去のための熱処理温度)の範囲内で選択されうる。
正孔輸送層130の材料は、正孔注入層よりは正孔をさらに輸送することができる材料のうちから選択されることが好ましい。前記正孔輸送層130は、公知の正孔輸送材料を利用して形成することができ、例えば、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(NPB)、N−フェニルカルバゾール、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(TPD)などの芳香族縮合環を有するアミン誘導体;4,4’,4”−トリス(N−カルバゾリル)トリフェニルアミン(TCTA)のようなトリフェニルアミン系物質などの公知の正孔輸送物質を使用することができる。このうち、例えば、TCTAの場合、正孔輸送の役割以外にも、発光層140からの励起子拡散防止の役割も担うことができる。
前記正孔輸送層130の厚みは、5nm〜100nmが好ましく、10nm〜60nmがより好ましい。前記正孔輸送層130の厚みが前述のような範囲を満足する場合、駆動電圧の上昇なしに、優秀な正孔輸送特性を得ることができる。
前記発光層140は、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB法のような公知の多様な方法のうちから任意に選択された方法によって形成される。このとき、蒸着条件およびコーティング条件は、目的化合物、目的とする層の構造および熱的特性などによって異なるが、前述のような正孔輸送層130の形成のための条件と類似した範囲内で選択される。
前記発光層140は、通常の(例えば、追加される表面処理などが行われない)酸化インジウムスズの仕事関数より0.3eV以上大きいイオン化ポテンシャルを有することが好ましい。ここで、前記酸化インジウムスズの仕事関数および前記発光層140のイオン化ポテンシャルは、同じ機器を利用して、同じ条件下で測定されたものである。
前記発光層140は、単一の発光材料からも形成されてもよいし、ホスト物質およびドーパントを含んでもよい。
前記ホスト物質の例としては、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)、4,4’−N,N’−ジカルバゾール−ビフェニル(CBP)、9,10−ジ(ナフタレン−2−イル)アントラセン(ADN)、4,4’,4”−トリス(N−カルバゾリル)トリフェニルアミン(TCTA)、1,3,5−トリス(N−フェニルベンズイミダゾール−2−イル)ベンゼン(TPBi)、3−tert−ブチル−9,10−ジ(ナフト−2−イル)アントラセン(TBADN)、E3(下記化学式参照)、BeBq(下記化学式参照)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。必要に応じて、前記正孔輸送層130の材料の一例であるN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(NPB)もホストとして用いられる。
一方、公知の赤色ドーパントとして、ルブレン(5,6,11,12−テトラフェニルナフタセン)、PtOEP、Ir(piq)、BtpIr(acac)(下記化学式参照)などを利用することができるが、これらに限定されるものではない。
また、公知の緑色ドーパントとして、Ir(ppy)(ppy=フェニルピリジン)、Ir(ppy)(acac)、Ir(mpyp)、10−(2−ベンゾチアゾリル)−1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H,11H−[1]ベンゾピラの[6,7,8−ij]キノリジン−11−オン(C545T)(下記化学式参照)などを利用することができるが、これらに限定されるものではない。
一方、公知の青色ドーパントとして、FIrpic(下記化学式参照)、(Fppy)Ir(tmd)(下記化学式参照)、Ir(dfppz)(下記化学式参照)、ter−フルオレン、4,4’−ビス[4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]ビフェニル(DPAVBi)、2,5,8,11−テトラ−tert−ブチルペリレン(TBP)などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。
前記発光層の厚みは10nm〜100nmが好ましく、例えば、10nm〜60nmがより好ましい。前記発光層の厚みが前記範囲を満足する場合、駆動電圧の上昇なしに、優秀な発光特性を得ることができる。
正孔阻止層(図2には図示せず)は、発光層140(例えば、発光層140がリン光化合物を含む場合)の三重項励起子または正孔が、カソードなどに拡散する現象を防止する役割を担うものであり、発光層140の上部に追加して形成され、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB法のような公知の多様な方法のうちから任意に選択された方法によって形成される。このとき、蒸着条件およびコーティング条件は、目的化合物、目的とする層の構造および熱的特性などによって異なるが、前述のような正孔輸送層130形成のための条件と類似した範囲内で選択される。
前記正孔阻止層に用いられる正孔阻止材料は、公知の正孔阻止材料のうちから任意に選択されればよい。例えば、オキサジアゾール誘導体やトリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体などを使用することができる。
前記正孔阻止層の厚みは、5nm〜100nmが好ましく、例えば、10nm〜30nmがより好ましい。前記正孔阻止層の厚みが前記範囲を満足する場合、駆動電圧の上昇なしに、優秀な正孔阻止特性を得ることができる。
前記電子輸送層150は、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB法のような公知の多様な方法のうちから任意に選択された方法によって、発光層140または正孔阻止層の上部に形成される。このとき、蒸着条件およびコーティング条件は、目的化合物、目的とする層の構造および熱的特性などによって異なるが、前述のような正孔輸送層形成のための条件と類似した範囲内で選択される。
前記電子輸送層150の物質としては、公知の電子輸送材料を使用することができ、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)、1,2,4−トリアゾール誘導体(TAZ、下記化学式参照)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(Bphen)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP、下記化学式参照)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)−ベリリウム(BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−(p−フェニルフェノラート)−アルミニウム(BAlq、下記化学式参照)などの公知の材料を使用することができる。
前記電子輸送層150の厚みは、10nm〜100nmが好ましく、20nm〜50nmがより好ましい。前記電子輸送層150の厚みが前述のような範囲を満足する場合、駆動電圧の上昇なしに、優秀な電子輸送特性を得ることができる。
前記電子輸送層150の上部には、電子注入層160が形成される。前記電子注入層の形成材料としては、公知の電子注入材料であるLiF、NaCl、CsF、LiO、BaO、BaF、Liq(リチウムキノレート)などが使われ、前記電子注入層160の蒸着条件は、使用する化合物によって異なるが、一般的に、正孔輸送層130の形成とほぼ同じ条件の範囲内から選択される。
前記電子注入層160の厚みは、0.1nm〜10nmが好ましく、例えば、0.5nm〜5nmがより好ましい。前記電子注入層160の厚みが前述のような範囲を満足する場合、実質的な駆動電圧の上昇なしに、満足すべき電子注入特性を得ることができる。
前記第2電極170は、カソード(電子注入電極)であって、その材料としては、金属、合金、導電性化合物、およびこれらの組み合わせを用いることができる。具体的な例としては、例えば、リチウム(Li)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などを挙げることができる。また、前面発光素子を得るために、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)などを使用することもできる。
前記有機発光素子100は、前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120をアノードとして含むが、正孔注入層を形成せずとも、非常に高い正孔注入効率を有し、さらに、正孔輸送層130を経由して、電子が大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120に流入することを遮断できるが、前記有機発光素子100は、優秀な電気的特性を有し、基板110としてフレキシブル基板を採用するならば、前記有機発光素子100は、フレキシブル特性も有することができる。
図2の有機発光素子100は、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120と発光層140との間に、正孔輸送層130が介在された構造を有するが、正孔輸送層130の形成なしに、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極120の第2面120Bと発光層140とが互いに接触しうるなど、多様な変形例が可能である。
図4は、前述のような大仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を含む有機太陽電池の一実施形態を概略的に示す断面概略図である。
図4の有機太陽電池200は、基板210、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極220、光活性層230、電子受容層240、および第2電極250を含む。有機太陽電池200に照射された光は、光活性層230で正孔と電子とに分離され、電子は、電子受容層240を経て第2電極250に移動し、正孔は、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極220に移動することができる。
前記基板210は、前記基板110についての説明を参照する。一方、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極220に係わる詳細な説明は、前述の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15についての説明を参照する。
前記光活性層230は、照射された光から正孔と電子とを分離させることができる物質を含んでもよい。例えば、前記光活性層230は、p型有機半導体材料とn型有機半導体材料とを含んでもよい。前記光活性層230は、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)およびフェニル−C61−酪酸メチルエステル(PCMB)を含むことが好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記光活性層230は、通常の(例えば、追加的な表面処理などが行われない)酸化インジウムスズの仕事関数より0.3eV以上大きいイオン化ポテンシャルを有することが好ましい。ここで、前記酸化インジウムスズの仕事関数および前記光活性層230のイオン化ポテンシャルは、同じ機器を利用して、同じ条件下で測定されたものである。
前記電子受容層240は、電子を受容することができる材料から形成されるが、例えば、前述のような有機発光素子100の電子注入層160の材料を利用することができる。
前記第2電極250は、カソード(電子注入電極)であって、相対的に小さい仕事関数を有する金属、合金、導電性化合物、およびそれらの組み合わせを使用することができる。具体的な例としては、リチウム(Li)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などを挙げることができる。
前記有機太陽電池200は、前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極220を採用するので、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極220と、光活性層230との間に既存の正孔抽出層を形成せずとも、光活性層230で生成された正孔が、容易に大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極220に移動することができる。したがって、優秀な電気的特性を提供することができる。前記正孔抽出層は、一般的に、有機発光素子の正孔注入層で使われるポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(4−スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS)およびPANI:PSS(ポリ(スチレンスルホン酸))のような導電性高分子を含むことができ、正孔抽出層として使われるPEDOT:PSS薄膜およびPANI:PSS薄膜の電気伝導度は、10−2S/cm〜10−6S/cmであることが好ましい。
有機発光素子および有機太陽電池を、図2および図4を参照して説明したが、これらの形態に限定されるものではない。例えば、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15(図1)は、有機発光素子および/または有機太陽電池のカソードにも利用される。前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15が、有機発光素子100および/または有機太陽電池200のカソードである場合、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の第2面15Bが、有機発光素子100の発光層140および/または有機太陽電池200の光活性層230に向かい合うように、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15が配置されてもよい。例えば、図2の有機発光素子100においてカソード170が、本発明による大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15である場合、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の第2面15B(すなわち、低表面エネルギー物質の濃度が相対的に高い面)が、前記カソード170下部の電子注入層160に向かい合うように配置されるなど、多様な変形例が可能である。このとき、カソード170として使われる大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、ベースフィルム上にまず形成された後、例えば、レーザー熱転写法(laser induced thermal imaging、LITI)工程、または転写プリント法(transfer printing工程)などを利用し、電子注入層160の上部に転写される。
また、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15がカソードとして使われる場合、第2面15Bが光活性層の反対方向に向かう形態も可能である。
また、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15は、逆構造OLED(organic light emitting diode)あるいは有機薄膜太陽電池(OPV、organic photovoltaics)でも用いられる。前記逆構造OLEDまたは前記OPVにおいて、大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15の下部には、正孔注入層(OLEDの場合)または正孔抽出層(OPVの場合)が配置され、基板上のアノード上部には、電子注入層または電子抽出層が配置されてもよい。
図5は、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を含む有機薄膜トランジスタの一実施形態を概略的に示す断面概略図である。
図5の有機薄膜トランジスタ300は、基板311、ゲート電極312、絶縁層313、有機半導体層315、ならびにソース電極314aおよびドレイン電極314bを含む。前記ゲート電極312、ならびに前記ソース電極314aおよび前記ドレイン電極314bのうち1つ以上は、前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15(図1参照)であってもよい。
前記基板311についての説明は、前記基板110についての説明を参照する。
前記基板311上には、所定パターンのゲート電極312が形成されている。前記ゲート電極312は、前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15であってもよい。または、例えば、Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd、Al、MoまたはAl:Nd、Mo:W合金のような金属または金属の合金から形成されるが、これらに限定されるものではない。
前記ゲート電極312の上部には、前記ゲート電極312を覆うように絶縁層313が備わっている。前記絶縁層313は、金属酸化物または金属窒化物のような無機物から形成されるか、フレキシブル有機高分子のような有機物から形成されることが可能であるなど、多様な物質によって形成可能である。
絶縁層313の上部には、有機半導体層315が形成されている。前記有機半導体層315は、例えば、ペンタセン、テトラセン、アントラセン、ナフタレン、α−6−チオフェン、α−4−チオフェン、ペリレンおよびその誘導体、ルブレンおよびその誘導体、コロネンおよびその誘導体、ペリレンテトラカルボン酸ジイミドおよびその誘導体、ペリレンテトラカルボン酸二無水物およびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリチオフェンビニレンおよびその誘導体、ポリチオフェン−ヘテロ環芳香族共重合体およびその誘導体、ナフタレンのオリゴアセンおよびそれらの誘導体、α−5−チオフェンのオリゴチオフェンおよびそれらの誘導体、金属含有または非含有のフタロシアニンおよびそれらの誘導体、ピロメリット酸二無水物およびその誘導体、ピロメリット酸ジイミドおよびそれらの誘導体などを含んでもよいが、これらに限定されるものではない。
前記有機半導体層315上には、ソース電極314aおよびドレイン電極314bがそれぞれ形成されている。前記ソース電極314aおよび前記ドレイン電極314bは、図5から分かるように、一部がゲート電極312と重畳するように備わるが、必ずしもこの形態に限定されるものではない。前記ソース電極314aおよびドレイン電極314bは、前述のような大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極15であってもよい。または、前記ソース電極314aおよび前記ドレイン電極314bは、有機半導体層を形成する物質との仕事関数を考慮し、仕事関数が5.0eV以上の貴金属、例えば、Au、Pd、Pt、Ni、Rh、Ru、Ir、Os、およびこれらの2以上の組み合わせを使用することができる。
以上、電子素子について、図2〜図5を参照して説明したが、これらに限定されるものではない。
本発明は、図面に図示された実施例を参考にして説明したが、それらは例示的なものに過ぎず、当技術分野で当業者であるならば、それらから多様な変形および均等な他の実施例が可能であるという点を理解することが可能であろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるものである。
(実施例1:大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の作製(I))
高導電性ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン):ポリ(スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS)溶液(H.C.Starck社のPH500/PEDOT、1重量部当たりPSSの含有量は2.5重量部である、0.3S/cmの電気伝導度を有する)、下記化学式[高分子100]で表される高分子(以下、単に高分子100とも称する)の溶液(溶媒は水とアルコールとの混合物(水:アルコール=4.5:5.5(v/v))に、高分子100が5重量%の濃度で分散されている、Aldrich Co.社製)、および5重量%のジメチルスルホキシド(DMSO)を含む電極形成用組成物(総量100重量%)を準備した。ここで、前記PEDOT:PSS溶液と、前記高分子100の溶液との混合比は、PEDOT 1重量部当たり、高分子100の含有量(固形分基準)が1重量部になるように調節した。前記電極形成用組成物を使用し、100nm厚の薄膜を形成したとき、前記薄膜の電気伝導度は、125S/cmであった。
上記化学式中、x=1300、y=200、z=1である。
前記電極形成用組成物を、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板上に、スピンコート法で塗布した後、30分間150℃で熱処理し、100nm厚の電極1を形成した。
次に、前記PEDOT:PSS溶液と、高分子100の溶液との混合比を、PEDOT 1重量部当たりの、前記高分子100の含有量が2.3重量部、4.9重量部および11.2重量部になるように調整した後、前記電極1の製造方法と同様の方法を利用して、PET基板上に電極2、3および4(前記電極1〜4において、前記PET基板と接触する表面が第1面であり、前記第1面に対向する表面が第2面である)をそれぞれ作製した。
前記電極1、2、3および4の電気伝導度は、4探針プローブで測定した結果、それぞれ125S/cm、75S/cm、61S/cmおよび50S/cmの電気伝導度であるということを確認した。
(比較例A)
前記高分子100の溶液なしに、前記PEDOT:PSS溶液および5重量%のDMSOを含む組成物で電極を形成したということを除いては、前記電極1の製造方法と同様の方法を利用して電極Aを製造した。
(評価例1:電極評価(I))
<電極の深さ別分子分布の評価>
前記電極1〜4、および電極Aの表面(すなわち、第2面)の分子分布を知るために、電極1〜4および電極Aに対して、X線光電子スペクトル(XPS、メーカーはVG Scientific社であり、モデル名は、ESCALAB 220iXLである)を用いて評価を行い、その結果を表1に示した。特に、電極4のスパッタ時間別(すなわち、電極4の深さ別)XPSスペクトルは、図6に示した。各電極に係わるXPSスペクトルにおいて、PEDOT(164.5eV)のピーク、PSSおよびPSSH(168.4eVおよび168.9eV)のピーク(S2p)、ならびに高分子100に係わるピーク(CF、F1s)を分析し、各部分構造の濃度を評価した。
図6によれば、電極4の第2面(スパッタタイム=0秒)で、電極4の第1面に向かって、高分子100の濃度を示すCF部分の濃度は、実質的に低減し、PEDOTの濃度は実質的に増加するということが分かる。したがって、電極4において、PEDOT:PSSおよび高分子100の濃度は、電極4の深さによって変化する濃度勾配を有するということを確認することができる。
表1には、電極1〜4の第2面において、PSSのピーク(S2p)およびフッ素のピーク(F1s)の面積から計算された第2面のフッ素/PSS比が整理されているが、下記表1によれば、高分子100の使用量が増加するほど、電極表面(すなわち、第2面)の高分子100の比率が増加するということを確認することができる。
<仕事関数および電気伝導度の評価>
前記電極1〜4および電極Aに対し、大気雰囲気型紫外線光電子分光装置(ultraviolet photoelectron spectroscopy in air、メーカーは理研計器株式会社であり、モデル名はAC2)を用いて、仕事関数を評価し、その結果を表2に示した。
仕事関数は、PET基板上に形成された電極1〜4および電極Aに対して評価されたものであるので、表2の仕事関数は、電極1〜4および電極Aの第2面の仕事関数であると解釈される。
<光透過度の評価>
電極1〜4および電極Aの光透過度を紫外線分光計(SCINCO社製(S−3100))を用いて評価し、その結果を図7に示した。比較のために、100nm厚のITOの光透過度も共に示した。図7によれば、電極1〜4は、優秀な光透過度、例えば、優秀な可視光線透過度、特に、青色可視光に対して、優秀な透過度を有するということを確認することができる。
<表面特性評価>
電極1〜4および電極Aの表面(すなわち、第2面)に係わる表面粗さを、原子間力顕微鏡を用いて評価し、その結果を表3に示した。
表3によれば、電極1〜4は電極Aの表面粗さより低い表面粗さを有することがわかった。これにより、高分子100を添加することによって、電極の表面が平坦化されるということが確認することができた。
<正孔移動度および正孔注入効率の評価>
電極1〜4の正孔移動度および正孔注入効率を評価し、その結果をそれぞれ図8および図9に示した。正孔移動度および正孔注入効率の評価時、暗注入空間電荷制限電流法(DI SCLC、dark injection space−charge−limited−current)を用いた。電極(電極1、2、3および4)/NPB層(厚さ約2.6μm)/Alの構造を有する正孔オンリー素子を作製した後、暗注入空間電荷制限電流の評価を行った。前記暗注入空間電荷制限電流の評価時、パルス生成器(HP 214B)およびデジタルオシロスコープ(Agilent Infiniium 54832B)を用いた。図8および図9から、前記電極1〜4は、優秀な正孔移動度および正孔注入効率を有するということを確認することができる。
(実施例2:OLEDの作製)
前記実施例1と同様の方法で、PET基板上にアノードとして電極1を形成した後、電極1の第2面上に、20nm厚のNPBからなる正孔輸送層、30nm厚のBebq:C545T(C545Tは、1.5重量%である)からなる発光層、20nm厚のBebqからなる電子輸送層、1nm厚のLiqからなる電子注入層、および130nm厚のAlカソードを順に形成し(以上、真空蒸着法を利用)、OLED 1を作製した。また、これと同様の方法を利用し、電極1の代わりに、電極2〜4をそれぞれ採用したOLED 2〜4を作製した。
(比較例1)
電極1の代わりに、前記比較例Aで得られた電極Aを用いたことを除いては、実施例2と同様の方法でOLED Aを作製した。
(比較例2)
電極1が形成されたPET基板の代わりに、コーニング社製の15Ω/cm(厚さ120nm(1,200Å))のITOガラス基板を用意(すなわち、実施例2と比較すれば、PET基板の代わりにガラス基板を利用し、電極1の代わりにITO電極を利用)した。前記ITO電極の上部に、PEDOT:PSS水溶液(CLEVIOSTM P VP AI4083、PEDOT1重量部当たりPSSは6重量部である)をスピンコーとティングした後、150℃で30分間ベーキングし、50nm厚のPEDOT:PSS正孔注入層を形成した。前記正孔注入層の上部に、20nm厚のNPBからなる正孔輸送層、30nm厚のBebq:C545T(C545Tは、1.5重量%である)からなる発光層、20nm厚のBebqからなる電子輸送層、1nm厚のLiqからなる電子輸送層、および130nm厚のAlカソードを順に形成し(以上、真空蒸着法を利用)、OLED Bを製作した。
(比較例3)
PEDOT:PSSからなる正孔注入層の代わりに、ITO上に4,4’,4”−トリス(N−2−ナフチル−N−フェニル−アミノ)トリフェニルアミン(2TNATA)を蒸着し、50nm厚の2TNATAからなる正孔注入層を形成したということを除いては、比較例2と同様の方法で、OLED Cを製作した。
OLED 1〜4およびOLED A〜Cの構成および柔軟性の結果をまとめると、下記表4の通りである。なお、柔軟性は、曲率半径0.75cmであり、歪みが1.25%である条件下で、曲げ100回を実施後、OLEDの状態を観察した。
(柔軟性の評価基準)
○:非常に高い
×:低い(ストレス印加時に壊れる)
(評価例2:OLED評価)
OLED 1〜4およびOLED A〜Cに対し、Keithley 236 source測定機およびMinolta CS 2000スペクトロラジオメーターを用い、効率、輝度、および寿命を評価し、その結果をそれぞれ図10〜図12に示した。
図10〜図12より、OLED 1〜4は、OLED A〜Cに比べて、優秀な効率、輝度および寿命特性を有するということを確認することができた。
(実施例3:大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の作製(II))
高導電性ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン):ポリ(スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS)溶液(Heraeus GmbH. & Co(Formerly,H.C.Starck GmbHのCLEVIOSTM PH500、PEDOT 1重量部当たりPSSの含有量は2.5重量部である、0.3S/cmの電気伝導度を有する)、2重量%のフッ化化合物((3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシラン(CFCHCHSiCl)(Aldrich Co.社製))、および5重量%のジメチルスルホキシド(DMSO)を含む電極形成用組成物(総量100重量%)を準備した。前記電極形成用組成物をポリエチレンフタレート(PET)基板上にスピンコートした後、30分間150℃で熱処理し、100nm厚の電極5を形成した。前記電極5の電気伝導度は350S/cmであり、仕事関数は5.25eVであることを確認した。
(実施例4:大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の製作(III))
実施例1において、電極4の製造のための組成物(すなわち、PEDOT:PSS溶液と高分子100の溶液との混合比を、PEDOT 1重量部当たり、前記高分子100の含有量が11.2重量部になるように調整した混合物)を準備した後、前記混合物(総量100重量%)に、ナノワイヤ(モデルST164、長さ:7.2μm、直径:52nm、Seashell Technology、LLC)5重量%を添加した混合物を準備した。
前記ナノワイヤを含む組成物をポリエチレンフタレート(PET)基板上にスピンコーティングした後、30分間150℃で熱処理し、100nm厚の電極6を形成した。前記電極6の仕事関数は5.8eVであり、電気伝導度は85S/cmであった。
本発明の大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極を採用した単純化された有機電子素子は、例えば、フレキシブル電子素子関連の技術分野に効果的に適用可能である。
10、110、210、311 基板、
15、120、220 大きい仕事関数および高い導電性を有する電極、
15A、120A 大きい仕事関数および高い導電性を有する電極の第1面、
15B、120B 大きい仕事関数および高い導電性を有する電極の第2面、
100 有機発光素子、
130 正孔輸送層、
140 発光層、
150、240 電子輸送層、
160 電子注入層、
170、250 第2電極、
200 有機太陽電池、
230 光活性層、
300 有機薄膜トランジスタ、
312 ゲート電極、
313 絶縁膜、
314a ソース電極、
314b ドレイン電極、
315 有機半導体層。

Claims (16)

  1. 0.1S/cm以上の電気伝導度を有する導電性物質および低表面エネルギー物質を含み、第1面と、前記第1面に対向する第2面と、を有し、前記第2面の低表面エネルギー物質の濃度が、前記第1面の低表面エネルギー物質の濃度より高く、前記第2面の仕事関数が5.0eV以上であり、前記第2面の電気伝導度が1S/cm以上である大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極、
    を具備した電子素子。
  2. 前記低表面エネルギー物質の濃度が、前記第1面から前記第2面に向かって、漸増することを特徴とする、請求項1に記載の電子素子。
  3. 前記低表面エネルギー物質は、フッ素含有物質であることを特徴とする、請求項1または2に記載の電子素子。
  4. 前記低表面エネルギー物質は、下記化学式1〜3で表される繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有するフッ化高分子であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子素子:
    前記化学式1中で、
    aは、0〜10,000,000の数であり、
    bは、1〜10,000,000の数であり、
    は、−[O−C(R)(R)−C(R)(R)]−[OCFCF−Rで表される基、−COOH、または−O−R−Rで表される基であり、
    前記R、R、R、およびRは、互いに独立して、−F、−CF、−CHF、または−CHFであり、
    前記cおよびdは、互いに独立して、0〜20の整数であり、
    前記Rは、−(CF−(zは、1〜50の整数である)で表される基、または−(CFCFO)−CFCF−(zは、1〜50の整数である)で表される基であり、
    前記RおよびRは、互いに独立して、−SOM、−PO、または−COMであり、
    前記Mは、Na、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH 、NH 、NHSOCF 、CHO、COH、CHOH、またはCH(CHCHO(wは、0〜50の整数である)である;
    前記化学式2中、
    pは、0〜10,000,000の数であり、
    qは、1〜10,000,000の数であり、
    は、水素原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数5〜60のアリール基、または−COOHであり、
    は、水素原子、または置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基であり、
    は、−O−(CF−SOMで表される基、−O−(CF−POで表される基、−O−(CF−COMで表される基、または−CO−NH−(CH−(CF−CFで表される基であり、
    前記r、s、およびtは、互いに独立して、0〜20の整数であり、
    前記Mは、Na、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH 、NH 、NHSOCF 、CHO、COH、CHOH、またはCH(CHCHO(wは、0〜50の整数である)である;
    前記化学式3中、
    mおよびnは、0≦m<10,000,000、0<n≦10,000,000であり、
    xおよびyは、それぞれ独立して、0〜20の整数であり、
    Yは、−SOM、−PO、または−COMであり、
    前記Mは、Na、K、Li、H、CH(CHNH (wは、0〜50の整数である)、NH 、NH 、NHSOCF 、CHO、COH、CHOH、またはCH(CHCHO(wは、0〜50の整数である)である。
  5. 前記低表面エネルギー物質は、下記化学式4で表されるフッ化シラン系物質であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子素子:
    前記化学式4中、
    Xは、末端基であり、
    は、パーフルオロポリエーテルアルコール、ポリイソシアネートおよびイソシアネート反応性非フッ素化モノマーの縮合反応から得られるフッ化モノマー由来の基、または炭素数1〜20の直鎖状もしくは分枝状のフッ化アルキレン基であり、
    は、非フッ素化モノマー由来の基であり、
    は、−Si(Y)(Y)(Y)または−Si(Y)(Y)−で表される基であり、
    前記Y,Y、およびYは、互いに独立して、ハロゲン原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数6〜30のアリール基、または加水分解性置換基であり、この際、前記Y、YおよびYのうち少なくとも1つは、加水分解性置換基であり、
    Gは、連鎖移動剤の残基を含む1価の有機基であり、
    nは、1〜100の整数であり、
    mは、0〜100の整数であり、
    rは、0〜100の整数であり、
    n+m+rは、少なくとも2であり、
    pは、0〜10の整数であり、
    p=0のとき、Mは、−Si(Y)(Y)(Y)で表される基である。
  6. 前記導電性物質は、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリスチレン、スルホン化されたポリスチレン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、自己ドープ導電性高分子、これらの誘導体、またはこれらの組み合わせを含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電子素子。
  7. 前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極が、金属ナノワイヤ、半導体ナノワイヤ、金属ナノドット、カーボンナノチューブ、グラフェン、還元グラフェン酸化物、および黒鉛からなる群より選択される少なくとも1種をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子素子。
  8. 前記金属ナノワイヤ、前記半導体ナノワイヤ、および前記金属ナノドットの表面に、−S(Z100)で表される基および−Si(Z101)(Z102)(Z103)で表される基の少なくとも一方(ここで、前記Z100,Z101,Z102およびZ103は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基である)が結合されていることを特徴とする、請求項7に記載の電子素子。
  9. 前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極が、前記導電性物質、前記低表面エネルギー物質、および溶媒を含む電極形成用組成物から製造され、前記溶媒は、エチレングリコール、グリセロール、ジメチルホルムアミド、およびジメチルスルホキシドからなる群より選択される少なくとも1種の極性有機溶媒を含むことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の電子素子。
  10. 前記第2面の仕事関数が、5.0eV〜6.5eVの範囲であることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子素子。
  11. 有機発光素子、有機太陽電池、有機メモリ素子、または有機薄膜トランジスタであることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の電子素子。
  12. 前記電子素子が、アノードと、カソードと、前記アノードと前記カソードとの間に備わり、酸化インジウムスズの仕事関数より0.3eV以上大きいイオン化ポテンシャルを有する発光層と、を含む有機発光素子であって、
    前記アノードが前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極であり、
    前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面が、前記発光層に対向することを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の電子素子。
  13. 前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面と前記発光層とが、互いに接触していることを特徴とする、請求項12に記載の電子素子。
  14. 前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極と前記発光層との間に正孔輸送層が備えられ、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面と、前記正孔輸送層とが互いに接触していることを特徴とする、請求項12または13に記載の電子素子。
  15. 前記電子素子が、アノードと、カソードと、前記アノードとカソードとの間に備わり、酸化インジウムスズの仕事関数より0.3eV以上大きいイオン化ポテンシャルを有する光活性層と、を含む有機太陽電池であって、
    前記アノードが、前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極であり、
    前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面が、前記光活性層に対向することを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の電子素子。
  16. 前記大きい仕事関数および高い電気伝導度を有する電極の第2面と、前記光活性層とが互いに接触していることを特徴とする、請求項15に記載の電子素子。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013077417A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Mitsubishi Materials Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2013077416A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Mitsubishi Materials Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2016204643A (ja) * 2015-04-15 2016-12-08 国立大学法人山梨大学 導電性高分子複合体、導電性高分子複合体の製造方法、導電性高分子複合体組成物及び薄膜
JP2019096603A (ja) * 2017-11-21 2019-06-20 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. 量子ドット素子及び電子装置
JP2020191781A (ja) * 2014-07-23 2020-11-26 デイヴィッド ハイランド 宇宙ベースの太陽エネルギを収集及び分配するためのシステム及び方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101237351B1 (ko) * 2011-05-27 2013-03-04 포항공과대학교 산학협력단 전극 및 이를 포함한 전자 소자
JP5836866B2 (ja) * 2012-03-30 2015-12-24 株式会社東芝 炭素電極とその製造方法およびそれを用いた光電変換素子
CN103928632A (zh) * 2013-01-16 2014-07-16 海洋王照明科技股份有限公司 一种阳极及其制备方法和有机电致发光器件及其制备方法
US20160020420A1 (en) * 2013-02-28 2016-01-21 Postech Academy - Industry Foundation Electronic element employing hybrid electrode having high work function and conductivity
KR101449249B1 (ko) * 2013-02-28 2014-10-10 포항공과대학교 산학협력단 고-일함수 및 고-전도도 하이브리드 전극을 채용한 전자 소자
KR101458691B1 (ko) * 2013-02-28 2014-11-05 포항공과대학교 산학협력단 고-일함수 및 고-전도도 하이브리드 전도성 박막을 포함한 유기 태양 전지
KR101523135B1 (ko) * 2013-02-28 2015-05-27 포항공과대학교 산학협력단 고-일함수 및 고-전도도 하이브리드 전도성 박막 및 이를 포함한 유기 발광 소자
KR101563048B1 (ko) * 2013-05-10 2015-10-30 주식회사 엘지화학 광활성층, 이를 포함하는 유기 태양 전지 및 이의 제조 방법
US9865380B2 (en) 2013-06-24 2018-01-09 Abb Schweiz Ag Material comprising reduced graphene oxide, a device comprising the material and a method of producing the material
KR101582264B1 (ko) * 2013-06-27 2016-01-04 삼성전자 주식회사 유기 박막용 조성물, 유기 박막 및 상기 유기 박막을 포함하는 전자 소자
CA2953679A1 (en) * 2013-06-28 2014-12-31 Solarwindow Technologies, Inc. Coatings for aircraft fuselage surfaces to produce electricity
JP6264090B2 (ja) * 2013-07-31 2018-01-24 株式会社リコー 電界効果型トランジスタ、及び電界効果型トランジスタの製造方法
CN103594481B (zh) * 2013-11-08 2016-10-12 武汉工程大学 基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件及其制备方法
JP6140626B2 (ja) * 2014-03-03 2017-05-31 富士フイルム株式会社 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法
WO2016072810A1 (ko) 2014-11-06 2016-05-12 포항공과대학교 산학협력단 엑시톤 버퍼층을 포함하는 페로브스카이트 발광 소자 및 이의 제조방법
KR101703451B1 (ko) * 2014-11-06 2017-02-09 포항공과대학교 산학협력단 엑시톤 버퍼층을 포함하는 페로브스카이트 발광 소자 및 이의 제조방법
CN104393194A (zh) 2014-12-10 2015-03-04 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性电极、其制作方法、电子皮肤及柔性显示装置
JP6600286B2 (ja) * 2015-11-09 2019-10-30 信越化学工業株式会社 導電性材料及び基板
JP6538630B2 (ja) * 2015-11-09 2019-07-03 信越化学工業株式会社 導電性材料及び基板
CN105826484B (zh) * 2016-05-18 2019-03-08 Tcl集团股份有限公司 一种oled及其制备方法
CN106229393A (zh) * 2016-09-14 2016-12-14 Tcl集团股份有限公司 一种发光二极管及其制备方法
CN109935727B (zh) 2017-12-15 2020-06-09 京东方科技集团股份有限公司 一种基板、显示装置及导电薄膜的制备方法
CN110112310A (zh) * 2019-05-06 2019-08-09 杭州师范大学 一种高功函数复合材料的制备方法
CN111293085A (zh) * 2020-02-07 2020-06-16 复旦大学 基于二维过渡金属硫族化合物和碲的三维cmos及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007221132A (ja) * 2006-02-13 2007-08-30 Samsung Sdi Co Ltd 有機発光素子
JP2009526351A (ja) * 2006-02-03 2009-07-16 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 高い仕事関数を有する透明な複合導体
JP2010100854A (ja) * 2002-09-24 2010-05-06 E I Du Pont De Nemours & Co 導電性有機ポリマー/ナノ粒子複合材料およびその使用方法
JP2010514904A (ja) * 2006-12-29 2010-05-06 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 導電性ポリマーの高仕事関数および高導電率組成物
JP2011086482A (ja) * 2009-10-15 2011-04-28 Konica Minolta Holdings Inc 透明電極、透明電極の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6916553B2 (en) 2001-03-29 2005-07-12 Agfa-Gevaert Stable electroluminescent devices
KR100426344B1 (ko) * 2001-03-21 2004-04-06 이석현 용해성 자발배열 물질 및 그 물질을 포함하는 전도성고분자 조성물
US7569158B2 (en) 2004-10-13 2009-08-04 Air Products And Chemicals, Inc. Aqueous dispersions of polythienothiophenes with fluorinated ion exchange polymers as dopants
WO2007002737A2 (en) * 2005-06-28 2007-01-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company High work function transparent conductors
US7728098B2 (en) 2006-07-27 2010-06-01 3M Innovative Properties Company Fluorochemical composition comprising fluorinated oligomeric silane
JP2009065011A (ja) * 2007-09-07 2009-03-26 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタの製造方法
US8637853B2 (en) * 2007-10-24 2014-01-28 Merck Patent Gmbh Optoelectronic device
EP2415833A4 (en) * 2009-03-30 2014-06-18 Udc Ireland Ltd CONDUCTIVE POLYMER COMPOSITION, CONDUCTIVE CURED FILM, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
KR101140352B1 (ko) 2009-11-09 2012-05-03 한국기계연구원 다공성 반응소결질화규소용 가소결 실리콘 과립 분말 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010100854A (ja) * 2002-09-24 2010-05-06 E I Du Pont De Nemours & Co 導電性有機ポリマー/ナノ粒子複合材料およびその使用方法
JP2009526351A (ja) * 2006-02-03 2009-07-16 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 高い仕事関数を有する透明な複合導体
JP2007221132A (ja) * 2006-02-13 2007-08-30 Samsung Sdi Co Ltd 有機発光素子
JP2010514904A (ja) * 2006-12-29 2010-05-06 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 導電性ポリマーの高仕事関数および高導電率組成物
JP2011086482A (ja) * 2009-10-15 2011-04-28 Konica Minolta Holdings Inc 透明電極、透明電極の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013077417A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Mitsubishi Materials Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2013077416A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Mitsubishi Materials Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2020191781A (ja) * 2014-07-23 2020-11-26 デイヴィッド ハイランド 宇宙ベースの太陽エネルギを収集及び分配するためのシステム及び方法
JP2016204643A (ja) * 2015-04-15 2016-12-08 国立大学法人山梨大学 導電性高分子複合体、導電性高分子複合体の製造方法、導電性高分子複合体組成物及び薄膜
JP2019096603A (ja) * 2017-11-21 2019-06-20 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. 量子ドット素子及び電子装置
JP7199922B2 (ja) 2017-11-21 2023-01-06 三星電子株式会社 量子ドット素子及び電子装置

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