CN103594481B - 基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于磺化石墨烯/聚(3,4‑亚乙二氧基噻吩)‑聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件及其制备方法。本发明的存储器件是由下电极、旋涂在下电极上的磺化石墨烯/聚(3,4‑亚乙二氧基噻吩)‑聚(苯乙烯磺酸)复合材料作为存储器件的中间电活性存储层、沉积在电活性存储层上的上电极组成。通过调控复合材料中磺化石墨烯的含量,可调控基于磺化石墨烯/聚(3,4‑亚乙二氧基噻吩)‑聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件的开启电压和开关电流比。本发明制造工艺简单,实验条件温和。
Description
技术领域
本发明涉及一种基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的记忆存储器件及其制备方法,属于新材料、有机存储器与微电子领域。
背景技术
随着移动终端的发展需要,存储器件的市场与存储器件的存储容量越来越大。常见的存储器件一般是利用无机氧化物半导体材料构造,通过减少晶体管的尺寸从而减低生成成本与提高存储容量。但是由于量子隧穿效应,无机氧化物半导体材料的制造工艺越来越负责,成本也逐渐提高。因为有机高分子材料具有分子结构可控、可弯曲、易加工、成本低廉等是优点,它们成为了制造新一代存储器件的候选材料之一。
聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)作为一种电活性材料,已经被广泛被作为有机电极,用于构造晶体管、发光二极管与太阳能电池。最近,聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)也被用来构造存储器件。利用聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)在不同的外加电场下,呈现出高电阻与低电阻不同的两种电阻状态,实现了信息的存储。但是由于在有机高分子材料中载流子传递较差,稳定性较差,导致基于有机高分子材料的存储器件重复性有待进一步改进。
石墨烯作为一种由碳原子以sp2杂化形式组成的二维平面晶格结构材料,有着优异的电学特性、极高的热传导率、良好的热稳定性和化学稳定性。但是由于石墨烯材料纳米片层之间的相互吸引作用,它极易发生聚集。如果不对其进行改性,石墨烯较难与其他材料实现均匀复合。通过在石墨烯的二维平面上引入磺酸基团,将会提高石墨烯的水溶性,有利于实现石墨烯与水溶性有机高分子材料的复合,改善石墨烯的溶液加工性能,使其能大规模的应用在光电器件、生物传感等领域。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件及其制备方法,通过调控复合材料中磺化石墨烯的含量,可调控基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件的开启电压和开关电流比。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是:基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件,其由下电极、旋涂在下电极上的磺化石墨烯/聚 (3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料作为存储器件的中间电活性存储层、沉积在电活性存储层上的上电极组成,所述的磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的制备方法包括有以下步骤:1)利用石墨,依次通过化学还原、磺化和还原步骤制备磺化石墨烯;2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散30-60分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液。
按上述方案,所述的磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料作为中间电活性存储层的厚度为60-100nm。
按上述方案,所述的磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.08%-0.32%。
基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
1)利用石墨,依次通过化学还原、磺化和还原步骤制备磺化石墨烯;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散30-60分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液;
3)在下电极上以转速3000-5000转/分钟旋涂步骤2)所得复合材料的水溶液,旋涂时间为30-60秒;然后将表面旋涂有复合材料的下电极置于100度下干燥10-20分钟;
4)在旋涂完成的下电极上,通过热蒸发得到厚度为100-300nm的金属铝或铜作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件。
按上述方案,所述的下电极为ITO导电玻璃、单晶硅、金属铝、或表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜;
本发明具有以下优点:1)利用水溶性的磺化石墨烯与聚合物复合,不需要使用有机溶剂,减轻了对环境的污染;2)磺化石墨烯与聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)在水相中实现均匀复合,保证器件的重复性和稳定性;3)复合材料的原料易得,制备条件简单,成本低,有利于大规模生产。
附图说明
图1是本发明实施例1的基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的记忆存储器件的I-V曲线。
具体实施方式
为了更好的理解本发明,下面结合实施例进一步阐明本发明的内容,但本发明的内容不仅仅局限于下面的实施例。
实施例1:
1)按照文献报道,依次通过化学还原、磺化、还原等步骤制备磺化石墨烯(NanoLetters,2008,8,1679-1682);
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散50分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液,磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.15%;
3)在下电极为ITO导电玻璃上以转速5000转/分钟旋涂复合材料的水溶液,旋涂时间为40秒,然后将表面旋涂有复合材料的ITO导电玻璃置于100度下干燥15分钟,得到厚度为70nm的复合材料;
4)在旋涂完成的ITO导电玻璃上,通过热蒸发得到厚度为150nm的金属铝作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件。
5)在室温环境下,通过探测仪器测试器件的I-V曲线,本器件具有较好的存储效应。
如图1所示,基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的记忆存储器件的I-V曲线。在第一次扫描时,存储器的写入电压为2.1V,器件从高阻态跳变到低阻态,即由“0”变为“1”,并保持“1”状态;再进行第二次扫描时,器件仍能保持低阻态;再进行第三次扫描时,在反向电压下,器件仍能保持在低阻态,保留最初写入的数据。
实施例2:
1)与实施例1的步骤1相同;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散30分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液,磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.18%;
3)在下电极为表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜上以转速3000转/分钟旋涂复合材料的水溶液,旋涂时间为30秒,然后将表面旋涂有复合材料的表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜置于100度下干燥15分钟,得到厚度为82nm的复合材料;
4)在旋涂完成的表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜上,通过热蒸发得到厚度为120nm的金属铝作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙 烯磺酸)复合材料的存储器件。
5)在室温环境下,通过探测仪器测试器件的I-V曲线,本器件具有较好的存储效应。
实施例3:
1)与实施例1的步骤1相同;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散45分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液,磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.25%;
3)在下电极为金属铝上以转速4500转/分钟旋涂复合材料的水溶液,旋涂时间为60秒,然后将表面旋涂有复合材料的金属铝置于100度下干燥10分钟,得到厚度为90nm的复合材料;
4)在旋涂完成的金属铝上,通过热蒸发得到厚度为200nm的金属铝作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件。
5)在室温环境下,通过探测仪器测试器件的I-V曲线,本器件具有较好的存储效应。
实施例4:
1)与实施例1的步骤1相同;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散60分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液,磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.3%;
3)在下电极为单晶硅上以转速5000转/分钟旋涂复合材料的水溶液,旋涂时间为40秒,然后将表面旋涂有复合材料的单晶硅置于100度下干燥20分钟,得到厚度为75nm的复合材料;
4)在旋涂完成的单晶硅上,通过热蒸发得到厚度为240nm的金属铝作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件。
5)在室温环境下,通过探测仪器测试器件的I-V曲线,本器件具有较好的存储效应。
实施例5:
1)与实施例1的步骤1相同;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散45分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液,磺化石 墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.27%;
3)在下电极为ITO导电玻璃上以转速4000转/分钟旋涂复合材料的水溶液,旋涂时间为40秒,然后将表面旋涂有复合材料的ITO导电玻璃置于100度下干燥15分钟,得到厚度为92nm的复合材料;
4)在旋涂完成的ITO导电玻璃上,通过热蒸发得到厚度为150nm的金属铜作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件。
5)在室温环境下,通过探测仪器测试器件的I-V曲线,本器件具有较好的存储效应。
实施例6:
1)与实施例1的步骤1相同;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散50分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液,磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.23%;
3)在下电极为表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜上以转速5000转/分钟旋涂复合材料的水溶液,旋涂时间为50秒,然后将表面旋涂有复合材料的表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜置于100度下干燥20分钟,得到厚度为85nm的复合材料;
4)在旋涂完成的表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜上,通过热蒸发得到厚度为300nm的金属铝作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件。
5)在室温环境下,通过探测仪器测试器件的I-V曲线,本器件具有较好的存储效应。
本发明所列举的各原料都能实现本发明,以及各原料的上下限取值、区间值都能实现本发明;在此不一一列举实施例。本发明的工艺参数的上下限取值、区间值都能实现本发明,在此不一一列举实施例。
Claims (3)
1.基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件,其由下电极、旋涂在下电极上的磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料作为存储器件的中间电活性存储层、沉积在电活性存储层上的上电极组成,所述的磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的制备方法包括有以下步骤:1)利用石墨,依次通过化学还原、磺化和还原步骤制备磺化石墨烯;2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散30-60分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液;所述的磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料作为中间电活性存储层的厚度为60-100nm;所述的磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.08%-0.32%。
2.权利要求1所述的基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
1)利用石墨,依次通过化学还原、磺化和还原步骤制备磺化石墨烯;
2)将磺化石墨烯加入聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)水溶液中,超声分散30-60分钟,得磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的水溶液;
3)在下电极上以转速3000-5000转/分钟旋涂步骤2)所得复合材料的水溶液,旋涂时间为30-60秒;然后将表面旋涂有复合材料的下电极置于100度下干燥10-20分钟;
4)在旋涂完成的下电极上,通过热蒸发得到厚度为100-300nm的金属铝或铜作为上电极材料,即形成基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件;所述的磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料作为中间电活性存储层的厚度为60-100nm;所述的磺化石墨烯在磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料中的重量比例为0.08%-0.32%。
3.根据权利要求2所述的基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件的制备方法,其特征在于:所述的下电极为ITO导电玻璃、单晶硅、金属铝、或表面蒸镀有氧化铟掺锡的柔性PET聚酯薄膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103594481A CN103594481A (zh) | 2014-02-19 |
CN103594481B true CN103594481B (zh) | 2016-10-12 |
Family
ID=50084554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310553001.4A Expired - Fee Related CN103594481B (zh) | 2013-11-08 | 2013-11-08 | 基于磺化石墨烯/聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)复合材料的存储器件及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103594481B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104371279B (zh) * | 2014-11-13 | 2017-10-20 | 上海工程技术大学 | 含石墨烯的复合材料及其制备方法和应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102800809A (zh) * | 2011-05-27 | 2012-11-28 | 浦项工科大学校产学协力团 | 使用具有高功函数的聚合物阳极的简化的有机电子器件 |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102800809A (zh) * | 2011-05-27 | 2012-11-28 | 浦项工科大学校产学协力团 | 使用具有高功函数的聚合物阳极的简化的有机电子器件 |
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Title |
---|
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN103594481A (zh) | 2014-02-19 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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