JP2012176353A5 - - Google Patents
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Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011040170A JP5690168B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法 |
KR1020120010603A KR101373784B1 (ko) | 2011-02-25 | 2012-02-02 | 기판 세정 장치, 기판 세정 방법, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
TW101104712A TWI469198B (zh) | 2011-02-25 | 2012-02-14 | Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, manufacturing apparatus of display device, and manufacturing method of display device |
CN201210044963.2A CN102651327B (zh) | 2011-02-25 | 2012-02-24 | 基板清洗装置及方法、显示装置的制造装置及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011040170A JP5690168B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012176353A JP2012176353A (ja) | 2012-09-13 |
JP2012176353A5 true JP2012176353A5 (de) | 2014-02-06 |
JP5690168B2 JP5690168B2 (ja) | 2015-03-25 |
Family
ID=46693302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011040170A Expired - Fee Related JP5690168B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5690168B2 (de) |
KR (1) | KR101373784B1 (de) |
CN (1) | CN102651327B (de) |
TW (1) | TWI469198B (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014065026A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-04-17 | Panasonic Corp | 表面処理装置及び表面処理方法 |
JP6329342B2 (ja) * | 2013-06-07 | 2018-05-23 | 株式会社ダルトン | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JP6268410B2 (ja) * | 2013-09-27 | 2018-01-31 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR101607521B1 (ko) | 2014-07-08 | 2016-03-31 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
CN110544647A (zh) * | 2018-11-06 | 2019-12-06 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 金属互连清洗装置及清洗方法 |
CN109616551B (zh) * | 2018-11-19 | 2021-02-09 | 横店集团东磁股份有限公司 | 一种多晶表面有机物不良电池片返工工艺 |
CN110473773B (zh) * | 2019-08-22 | 2022-03-22 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶圆清洗方法及晶圆清洗设备 |
KR102404528B1 (ko) * | 2019-09-02 | 2022-06-02 | 세메스 주식회사 | 노즐, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
CN110676153A (zh) * | 2019-09-20 | 2020-01-10 | 常州捷佳创精密机械有限公司 | 太阳能电池、臭氧溶液施加装置及太阳能电池的制备方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226658A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 微細気泡発生ノズル |
JP2820275B2 (ja) * | 1989-07-17 | 1998-11-05 | 富士通株式会社 | 洗浄装置 |
JP3660391B2 (ja) * | 1994-05-27 | 2005-06-15 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
JP2760418B2 (ja) * | 1994-07-29 | 1998-05-28 | 住友シチックス株式会社 | 半導体ウエーハの洗浄液及びこれを用いた半導体ウエーハの洗浄方法 |
JP4208056B2 (ja) * | 1997-06-13 | 2009-01-14 | 忠弘 大見 | 洗浄方法 |
JP2000040682A (ja) * | 1998-07-23 | 2000-02-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 半導体基板の洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2000091291A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Memc Kk | シリコンウエハの洗浄方法 |
JP4675448B2 (ja) * | 1999-06-01 | 2011-04-20 | Sumco Techxiv株式会社 | 半導体基板の洗浄方法 |
JP2001284316A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP3998005B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2007-10-24 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の製造装置 |
JP2006289240A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置及び処理方法 |
JP2008098430A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2009000595A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ウエット洗浄装置および基板洗浄システム |
CN101939826B (zh) * | 2008-02-07 | 2012-08-22 | 独立行政法人产业技术综合研究所 | 半导体晶片的清洗方法以及清洗装置 |
JP5522028B2 (ja) * | 2010-03-09 | 2014-06-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP5361790B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2013-12-04 | 株式会社東芝 | 半導体基板の表面処理方法 |
JP5751895B2 (ja) * | 2010-06-08 | 2015-07-22 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、クリーニング方法および基板処理装置 |
-
2011
- 2011-02-25 JP JP2011040170A patent/JP5690168B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-02 KR KR1020120010603A patent/KR101373784B1/ko active IP Right Grant
- 2012-02-14 TW TW101104712A patent/TWI469198B/zh not_active IP Right Cessation
- 2012-02-24 CN CN201210044963.2A patent/CN102651327B/zh not_active Expired - Fee Related
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