JP2015231617A5 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

本発明の目的は、処理液を用いた基板に対する処理を良好に行うことが可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。

実施形態に係る基板処理装置は、
搬送される基板の表面に対して処理液を供給する第１のノズルと、
前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜して流体を吐出する一対の第２のノズルと、
を備え、
前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
他方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする。

実施形態に係る基板処理方法は、
搬送される基板の表面に対して第１のノズルから処理液を供給する工程と、
前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜する一対の第２のノズルから流体を吐出する工程と、
を有し、
前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
他方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする。

Claims (10)

1. 搬送される基板の表面に対して処理液を供給する第１のノズルと、
   前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜して流体を吐出する一対の第２のノズルと、
   を備え、
   前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
   他方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする基板処理装置。
2. 前記第１のノズルは複数設けられており、
   前記一対の第２のノズルは前記複数の第１のノズルそれぞれの前記基板の搬送方向上流側と下流側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記一方の第２のノズルから吐出される流体の量は、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の量よりも多いことを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
4. 前記一方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度は、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度よりも前記基板と平行に近づく角度であることを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
5. 前記一対の第２のノズルは、前記基板の表面上に形成された液膜の厚さを制御するように前記流体を吐出することを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
6. 搬送される基板の表面に対して第１のノズルから処理液を供給する工程と、
   前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜する一対の第２のノズルから流体を吐出する工程と、
   を有し、
   前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
   他方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする基板処理方法。
7. 前記第１のノズルから処理液を供給する工程では、複数の前記第１のノズルから前記処理液を供給し、
   前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記複数の第１のノズルそれぞれの前記基板の搬送方向上流側と下流側に配置された前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出することを特徴とする請求項６に記載の基板処理方法。
8. 前記一方の第２のノズルから吐出される流体の量が、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の量よりも多いことを特徴とする請求項６または７に記載の基板処理方法。
9. 前記一方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度は、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度よりも前記基板と平行に近づく角度であることを特徴とする請求項６または７に記載の基板処理方法。
10. 前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記基板の表面上に形成された液膜の厚さを制御するように前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出することを特徴とする請求項６または７に記載の基板処理方法。