JP2008098430A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 基板に付着した有機物を良好に除去できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 除去ユニット１０は、主として、マイクロバブル水１１ａを基板Ｗに向けて吐出する複数の吐出ノズル１１と、マイクロバブル発生部２１と、を備えており、基板Ｗに付着した有機物を除去する。洗浄ユニット６０は、主として、複数の上側ノズル６１と、複数の下側ノズル６２と、貯留槽８０と、を備えており、除去ユニット１０での有機物除去処理が施された基板Ｗに対して純水によるリンス処理を施す。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）に対して処理を施す基板処理装置および基板処理方法に関するもので、特に、基板に付着した有機物の除去に関する。

従来より、プラズマガス（例えば、プラズマ化されたプロセスガス）や紫外線によって、基板に付着した有機物（例えば、フォトリソ工程で生じたレジストの残渣）を除去可能な基板処理装置が知られている（例えば、特許文献１）。

特開２００４−１５８６２８号公報

しかし、特許文献１において、紫外線を利用して有機物を除去する場合、ランプ寿命の短い紫外線ランプ等が紫外線照射部として使用されており、紫外線ランプを頻繁に交換することが必要となる。その結果、装置のランニングコストが増大するという問題が生じていた。

また、プラズマガスを利用して有機物を除去する場合、基板処理装置にプラズマガス発生部を設けることが必要となる。その結果、装置の製造コストが増大するという問題が生じていた。

そこで、本発明では、基板に付着した有機物を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、マイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生部と、前記マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第１処理液を、基板に供給する第１供給部と、前記第１供給部によって前記第１処理液が供給された前記基板に、第２処理液を供給する第２供給部とを備えることを特徴とする。

また、請求項２の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記第１供給部は、カーテン状とされた前記第１処理液を前記基板に向けて吐出し、搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第１方向に沿って、前記第１処理液を前記基板に着液させることを特徴とする。

また、請求項３の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記第１供給部は、搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第１方向に沿って配置された複数のノズルを有し、各ノズルは、前記第１方向に伸びる吐出口、を有することを特徴とする。

また、請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１供給部は、貯留槽内で発生したマイクロバブルを前記基板に供給することを特徴とする。

また、請求項５の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１供給部と連通接続されており、前記第１供給部側に第１処理液を供給する第１供給管、をさらに備え、前記マイクロバブル発生部は、前記第１供給管に設けられていることを特徴とする。

また、請求項６の発明は、請求項５に記載の基板処理装置において、前記マイクロバブル発生部は、マイクロバブル径が良好な有機物の除去処理において要求される範囲となるように、前記第１供給管の所定位置に取り付けられていることを特徴とする。

また、請求項７の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１供給部から供給される第１処理液は、前記第１処理液と酸素を含むガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする。

また、請求項８の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１供給部から供給される第１処理液は、前記第１処理液とオゾンガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする。

また、請求項９の発明は、請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１処理液は、前記基板上における前記マイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物を含むことを特徴とする。

また、請求項１０の発明は、請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の基板処理装置において、前記基板に供給されて基板処理に使用された使用済みの前記第２処理液を前記マイクロバブル発生部に供給する第２供給管、をさらに備え、前記第１処理液と前記第２処理液とは、同種の処理液であることを特徴とする。

また、請求項１１の発明は、(a)マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第１処理液を基板に供給する工程と、(b)前記工程(a)により前記第１処理液が供給された前記基板に、第２処理液を供給する工程とを備えることを特徴とする。

請求項１ないし請求項１１に記載の発明によれば、第２処理液による基板処理が行われる前に、マイクロバブルを含む第１処理液を基板に供給して、基板に付着した有機物を除去することができる。そのため、第２処理液による基板処理を清浄な基板に対して実行でき、良好な基板処理を実行することができる。

特に、請求項２および請求項３に記載の発明によれば、搬送方向に搬送される基板全体に良好に、マイクロバブルを含む第１処理液を供給することができる。そのため、基板から良好に有機物を除去することができる。

特に、請求項４に記載の発明によれば、貯留槽内に十分な量のマイクロバブルを発生させ、その後、マイクロバブルを含む第１処理液を第１供給部に供給することができる。これにより、有機物除去に十分な量のマイクロバブルを基板に供給することができる。そのため、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。

特に、請求項５に記載の発明によれば、第１供給管に設けられたマイクロバブル発生部以外に特別な装置を用いることなく、基板にマイクロバブルを含む第１処理液を供給することができる。そのため、装置の製造コストおよび装置のフットプリントを低減させることができる。

特に、請求項６に記載の発明によれば、マイクロバブル発生部の取付位置を調整することにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含む第１処理液を基板に供給することができる。そのため、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。

特に、請求項７に記載の発明によれば、酸素を含むガスにより形成されたマイクロバブルの酸化力によって、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。

特に、請求項８に記載の発明によれば、オゾンガスにより形成されたマイクロバブルの酸化力によって、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。

特に、請求項９に記載の発明において、第１処理液には、基板上におけるマイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物が含まれている。これにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含む第１処理液を基板に供給することができる。そのため、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。

特に、請求項１０に記載の発明によれば、第１処理液と第２処理液とは同種の処理液であり、第２供給管によって供給される使用済みの第２処理液は、マイクロバブル発生部に供給可能とされている。これにより、マイクロバブルを含む使用済みの第２処理液を、第１供給部から基板に供給することができる。そのため、第１処理液の使用量を低減させることができる。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。

＜１．基板処理装置の構成＞
図１は、本発明の実施の形態における基板処理装置１の全体構成の一例を示す図である。図２および図３は、吐出ノズル１１から吐出されるマイクロバブルを含む純水の吐出状況を説明するための図である。ここで、基板処理装置１は、基板Ｗに付着した有機物（例えば、露光後の現像工程や、エッチング後の剥離工程等によって生じたレジスト残渣）を除去する工程と、有機物除去後の基板Ｗに対して純水による洗浄する工程と、を実行可能な装置である。図１に示すように、基板処理装置１は、主として、複数の搬送ローラ５と、除去ユニット１０と、洗浄ユニット６０と、を備えている。

なお、図１および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系が付されている。また、本実施の形態において、処理液には、フッ酸等の薬液だけでなく純水も含まれる。

複数の搬送ローラ５は、処理対象となる基板Ｗを、除去ユニット１０側から洗浄ユニット６０側に搬送する搬送部であり、これら搬送ローラ５によって搬送路６が形成される。各搬送ローラ５は、不図示の駆動モータに接続されており、Ｙ軸と略平行な回転軸を中心として回転させられる。そのため、搬送ローラ５上の基板Ｗは、搬送方向ＡＲ１（Ｘ軸と略平行）に搬送される。

除去ユニット１０は、例えば、露光後の現像工程やエッチング後の剥離工程を経た基板Ｗに対して、マイクロバブルを含む純水（第１処理液）（以下、「マイクロバブル水」とも呼ぶ）を供給し、該基板Ｗに付着したレジスト残渣等の有機物を除去するユニットである。なお、除去ユニット１０の構成については、後述する。

洗浄ユニット６０は、除去ユニット１０での有機物除去処理が施された基板Ｗに、純水によるリンス処理を施すユニットである。図１に示すよに、洗浄ユニット６０は、主として、複数の上側ノズル６１と、複数の下側ノズル６２と、貯留槽８０と、を備えている。

複数の上側ノズル６１は、処理室６０ａ内であって搬送路６の上方に設けられており、基板Ｗの上面（Ｚ軸プラス側の面）に純水６１ａを供給する。また、下側ノズル６２は、処理室６０ａであって、搬送路６の下方に設けられており、基板Ｗの下面（Ｚ軸マイナス側の面）に純水６２ａを供給する。

また、図１に示すように、各上側ノズル６１は、共通供給管７１と、バルブ７５が設けられた純水供給管７２とを介して、純水供給源３１と連通接続されている。一方、各下側ノズル６２は、共通供給管７１と、バルブ７６が設けられた純水供給管７３とを介して、純水供給源３１と連通接続されている。

したがって、バルブ７５が開放されるとともに、バルブ３５、７６が閉鎖されることにより、各上側ノズル６１は、搬送路６の基板Ｗに上面に向けて純水６１ａを吐出する。また、バルブ７６が開放されるとともに、バルブ３５、７６が閉鎖されることにより、各下側ノズル６２は、基板Ｗの下面に向けて純水６２ａを吐出する。さらに、バルブ７５、７６が開放されるとともに、バルブ３５が閉鎖されることにより、各上側ノズル６１および下側ノズル６２は、基板Ｗの両面に向けて純水６１ａ、６２ａを吐出する。

このように、複数の上側ノズル６１、および／または、複数の下側ノズル６２は、マイクロバブル水が供給された基板Ｗに、純水（第２処理液）を供給する供給部（第２供給部）として使用される。そして、基板Ｗに向けて吐出された純水６１ａ、６２ａは、処理室６０ａの下部付近に設けられた排出口６３と、排出管６４とを介して、処理室６０ａ内から貯留槽８０側に排出される。

貯留槽８０は、基板Ｗに供給されてリンス処理に使用された使用済みの純水を回収する。図１に示すように、処理室６０ａ内から排出された使用済みの純水は、排出管６４を介して、貯留槽８０に供給される。

また、図１に示すように、貯留槽８０の下部付近は、バルブ８５およびポンプ８７が設けられた排液供給管８１（第２供給管）と、共通供給管２２とを介して、マイクロバブル発生部２１と連通接続されている。したがって、バルブ８５が開放されるとともに、ポンプ８７が駆動させられると、貯留槽８０に貯留された使用済みの純水８０ａは、マイクロバブル発生部２１側に供給される。

＜２．除去ユニットの構成＞
ここでは、除去ユニット１０の構成について説明する。図１に示すように、除去ユニット１０は、主として、マイクロバブル水１１ａを吐出する複数の吐出ノズル１１と、貯留槽２０と、マイクロバブル発生部２１と、を備えている。

複数の吐出ノズル１１は、図１に示すように、処理室１０ａ内であって、搬送路６の上方に設けられている。各吐出ノズル１１は、図１に示すように、その先端に、略Ｙ軸方向（第１方向）に伸びる吐出口を有している。

これにより、各吐出ノズル１１から搬送路６の基板Ｗに向けて吐出されたマイクロバブル水１１ａにつき、第１方向から見た該マイクロバブル水１１ａの断面は、図２に示すように略扇形状となる。そして、マイクロバブル水１１ａは、基板Ｗの搬送方向ＡＲ１と略垂直な方向（第１方向）（略Ｙ軸方向）に沿って伸びる着液部１１ｃに着液する。

また、複数の吐出ノズル１１は、図３に示すように、第１方向に沿って配置されている。したがって、複数の吐出ノズル１１を一組とする吐出ノズル列（第１供給部）は、カーテン状とされたマイクロバブル水１１ａを基板Ｗに向けて吐出することができ、マイクロバブル水１１ａを第１方向に沿って着液させることができる。そのため、搬送される基板Ｗ全体に対して、良好にマイクロバブル水１１ａを供給することができる。

なお、本実施の形態では、図１に示すように、この複数の吐出ノズル１１を一組とする吐出ノズル列が、搬送路６の上方に３つ設けられているが、吐出ノズル列の列数はこれに限定されない。例えば、１列または２列であってもよいし、４列以上であってもよい。

また、各吐出ノズル列は、４つの吐出ノズル１１を有するものとして説明したが、吐出ノズル１１の本数はこれに限定されない。カーテン状にマイクロバブル水１１ａを吐出可能であれば、吐出ノズル１１の本数は、１本でもよいし、複数（２本以上）であってもよい。

また、吐出ノズル１１は、図１に示すように、バルブ５５およびポンプ５７が設けられたマイクロバブル水供給管５１（第１供給管）を介して、貯留槽２０の下部付近と連通接続されている。したがって、バルブ５５が開放されるとともに、ポンプ５７が駆動させられると、貯留槽２０に貯留されたマイクロバブル水２０ａは、マイクロバブル水供給管５１に導入されて、吐出ノズル１１から吐出される。そして、基板Ｗに向けて吐出されたマイクロバブル水１１ａは、排出口１３と、バルブ１５が設けられた排出管１４を介して、除去ユニット１０の処理室１０ａ内から貯留槽２０側に排出される。

貯留槽２０は、図１に示すように、その槽内にマイクロバブル発生部２１が設けられている。したがって、マイクロバブル発生部２１で発生したマイクロバブル水２０ａは、貯留槽２０に貯留される。

マイクロバブル発生部２１は、（１）純水供給源３１側、除去ユニット１０の排出口１３側、および洗浄ユニット６０の貯留槽８０側のうちのいずれか１つ以上から供給される純水（液相）と、（２）エア供給源４１からの酸素（Ｏ２）を含むガスであるエア（空気）（気相）と、を混合させることによって、マイクロバブルを発生させる。例えば、マイクロバブルの発生は、気液二相の流体を高速旋回させることで生ずる遠向心分離作用を利用して行われている。

ここで、マイクロバブル水１１ａが、各吐出ノズル１１から吐出され、基板Ｗに衝突すると、基板Ｗの上面には、物理的な衝撃が付与される。そして、基板Ｗに付着したパーティクルやレジスト残渣等の有機物は、この物理的な衝撃によって、基板Ｗから遊離されて除去される。

また、マイクロバブル水１１ａに含まれるマイクロバブルは、マイクロバブル水１１ａ中において徐々に収縮し、その一部が消滅（いわゆる「圧壊」）する。このようにマイクロバブルが圧壊する場合、マイクロバブルは、その内部が断熱圧縮される。これにより、消滅直前にマイクロバブルが位置する微小領域（いわゆる「ホットスポット」）は、高温（例えば数千℃）、高圧（例えば数千気圧）となる。そのため、基板Ｗに付着したパーティクルや有機物は、ホットスポットから発散されるエネルギーの作用によって、基板Ｗから遊離されて除去される。

なお、マイクロバブル水１１ａの衝突による物理的衝撃は、主として、サイズの大きなパーティクルや有機物に作用する。一方、マイクロバブルの圧壊により発散されるエネルギーは、主として、サイズの小さなパーティクルや有機物に作用する。

また、マイクロバブルは、電気的吸着性を有している。さらに、マイクロバブルのサイズは、７０μｍ以下と微小であり、マイクロバブル水１１ａの単位体積当たりの表面積（気液界面の面積）は、大きくなる。そのため、マイクロバブル水１１ａ中を浮遊するパーティクルや有機物は、マイクロバブルによって効率よく吸着される。

さらに、本実施の形態において、マイクロバブルには、酸化力を有する酸素が含まれてに形成されている。これにより、基板Ｗに付着した有機物（炭素Ｃ、水素Ｈ等によって構成されている）やマイクロバブル水１１ａ中の有機物は、このマイクロバブルの酸化力によって、例えばＣＯ２とＨ２０とに分解されて除去される。

このように、本実施の形態の除去ユニット１０では、（１）マイクロバブル水１１ａ（第１処理液）による物理的衝撃、（２）ホットスポットから発散されるエネルギー、（３）マイクロバブルが有する電気的吸着性、および、（４）マイクロバブルの酸化力によって、基板Ｗに付着した有機物が除去される。そのため、洗浄ユニット６０は、純水（第２処理液）によるリンス処理を清浄な基板Ｗに対して実行できる。

また、マイクロバブル水によって基板Ｗに付着した有機物が除去されると、基板Ｗ表面の接触角が下がり、基板Ｗ表面に対する純水の濡れ性が向上する。これにより、上側ノズル６１および下側ノズル６２からの純水６１ａ、６２ａを基板Ｗ表面に均一に供給することができる。そのため、後工程であるリンス処理の均一性を向上させることができる。

また、マイクロバブル発生部２１は、図１に示すように、共通供給管２２と、バルブ３５の設けられた純水供給管３２と、を介して純水供給源３１と連通接続されている。また、マイクロバブル発生部２１は、共通供給管２２と排出管１４とを介して処理室１０ａ内と、共通供給管２２と排液供給管８１とを介して貯留槽８０と、それぞれ連通接続されている。

したがって、バルブ３５が開放されるとともに、バルブ１５、７５、７６、８５が閉鎖されることにより、マイクロバブル発生部２１には、純水供給源３１からの純水が供給される。また、バルブ１５が開放されるとともに、バルブ３５、７５、７６、８５が閉鎖されることにより、マイクロバブル発生部２１には、処理室１０ａ内から排出されたマイクロバブル水が供給される。さらに、バルブ８５が開放されるとともに、バルブ３５、７５、７６が閉鎖されることにより、マイクロバブル発生部２１には、貯留槽８０に貯留された純水８０ａが供給される。

また、マイクロバブル発生部２１は、バルブ４５が設けられたガス供給管４２を介してエア供給源４１と連通接続されている。したがって、バルブ４５が開放されることにより、マイクロバブル発生部２１にはエア供給源４１からの酸素を含むガスが供給される。

このように、マイクロバブル発生部２１には、純水と酸素を含むガスとが供給される。そして、マイクロバブル発生部２１で純水と酸素を含むガスとを混合させることによって発生したマイクロバブル水２０ａは、貯留槽２０に貯留される。したがって、貯留槽２０内に十分な量のマイクロバブルを発生させ、その後に、マイクロバブル水２０ａを吐出ノズル１１に供給することができる。そのため、基板Ｗには有機物除去に十分な量のマイクロバブルが供給され、基板Ｗに付着した有機物は良好に除去される。

また、上述のように、除去ユニット１０の吐出ノズル１１と、洗浄ユニット６０の上側ノズル６１および下側ノズル６２とは、同一の純水供給源３１から供給された純水を吐出する。すなわち、マイクロバブルの有無等の相違があるものの、吐出ノズル１１から吐出される処理液（第１処理液）と、上側ノズル６１および下側ノズル６２から吐出される処理液（第２処理液）とは、同種の処理液である。また、貯留槽８０に貯留された使用済みの純水８０ａは、排液供給管８１によって、マイクロバブル発生部２１に供給可能とされている。

これにより、本実施の形態では、純水供給源３１からの純水を使用せず、洗浄ユニット６０にて使用済みの純水と酸素を含むガスとによって生成されたマイクロバブル水２０ａを、各吐出ノズル１１から基板Ｗに供給することができる。そのため、純水供給源３１からの純水（第１処理液）の使用量を低減させることができる。

＜３．本実施の形態の基板処理装置の利点＞
以上のように、本実施の形態の基板処理装置１は、各吐出ノズル１１から吐出されたマイクロバブル水１１ａを基板Ｗに供給して、該基板Ｗに付着した有機物を除去することができる。これにより、基板処理装置１は、有機物汚染が除去された清浄な基板Ｗに対して、後工程であるリンス処理を実行できる。そのため、基板処理装置１では、後工程の基板処理を良好に実行することができる。

＜４．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。

（１）本実施の形態において、除去ユニット１０による有機物の除去工程後には、純水によるリンス工程が実行されるものとして説明したが、有機物除去工程の後工程はこれに限定されない。該後工程は、例えば、レジストによって形成されたパターンマスクに基づいて、基板Ｗ上の金属膜をエッチングする工程であってもよい。すなわち、マイクロバブル水が供給された基板Ｗに、エッチング液（第２処理液）が供給されてもよい。

この場合も、マイクロバブル水によって、基板Ｗに付着した有機物が除去されて、基板Ｗ表面に対するエッチング液の濡れ性が向上する。そのため、高粘度のエッチング液であっても、基板Ｗ表面に均一に供給することができる。その結果、後工程であるエッチング処理の均一性を向上させることができる。

（２）また、本実施の形態において、マイクロバブル発生部２１は、純水と酸素を含むガス（エア）とを混合させることによりマイクロバブルを発生させているが、これに限定されるものでない。例えば、基板Ｗ上におけるマイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物（例えば、界面活性剤）を純水に添加することによって得られる処理液と、酸素とによってマイクロバブルを発生させてもよい。すなわち、マイクロバブル水は、さらに該添加物を含む。これにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含むマイクロバブル水が基板Ｗに供給される。そのため、基板Ｗに付着した有機物をさらに良好に除去することが可能となる。

（３）また、本実施の形態において、マイクロバブル発生部２１には、酸化力を有する気体として酸素を含むガスが供給されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、マイクロバブル発生部２１には、酸素を含むガスに代えて、酸素ガスやオゾンガスが供給されてもよい。この場合も、酸素ガスおよびオゾンガスの有する酸化力によって、基板Ｗに付着した有機物を良好に除去することができる。

（４）また、本実施の形態において、マイクロバブル発生部２１は、貯留槽２０の槽内に設けられているものとして説明したが、マイクロバブル発生部２１の取付位置はこれに限定されない。

図４は、本発明の実施の形態の他の例である基板処理装置１００の全体構成を示す図である。基板処理装置１００は、マイクロバブル発生部の取付位置を除き、基板処理装置１と同様なハードウェア構成を有している。

マイクロバブル発生部１２１は、図４に示すように、各吐出ノズル１１と連通接続されており、各吐出ノズル１１側にマイクロバブル水を供給するマイクロバブル水供給管５１に設けられている。また、マイクロバブル発生部１２１は、バルブ４５が設けられたガス供給管４２を介して、エア供給源４１と連通接続されている。

したがって、マイクロバブル発生部１２１は、マイクロバブル水供給管５１を流れる純水と、エア供給源４１からの酸素を含むガスと、を混合させることによって、マイクロバブルを発生させることができる。ここで、マイクロバブル水供給管５１には、貯留槽１２０に貯留された純水１２０ａが導入されているが、マイクロバブルの発生自体には、貯留槽１２０は必要とされない。

このように、基板処理装置１００は、マイクロバブル発生部１２１以外に特別な装置を用いることなく、マイクロバブル水１１ａ（第１処理液）を基板Ｗに供給することができる。そのため、基板処理装置１００の製造コストおよび装置のフットプリントを低減させることができる。

また、基板Ｗ上でのマイクロバブル径は、マイクロバブル水供給管５１上におけるマイクロバブル発生部１２１の取付位置（すなわち、各吐出ノズル１１からマイクロバブル発生部１２１までの距離）に応じて変化する。すなわち、マイクロバブル発生部１２１の取付位置が制御されると、基板Ｗ上でのマイクロバブル径を制御することが可能となる。

したがって、マイクロバブル径は、マイクロバブル発生部１２１がマイクロバブル水供給管５１の所定位置に取り付けられることによって、良好な有機物の除去処理において要求される範囲内となるように制御される。これにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含むマイクロバブル水を基板Ｗに供給することができる。そのため、基板Ｗに付着した有機物をさらに良好に除去することが可能となる。なお、マイクロバブル発生部１２１がマイクロバブル水供給管５１に取り付けられる所定位置は、例えば、実験によって求められる。

本発明の実施の形態における基板処理装置の全体構成の一例を示す図である。 吐出ノズルから吐出されるマイクロバブル水（第１処理液）の吐出状況を説明するための図である。 吐出ノズルから吐出されるマイクロバブル水（第１処理液）の吐出状況を説明するための図である。 本発明の実施の形態における基板処理装置の全体構成の他の例を示す図である。

符号の説明

１、１００ 基板処理装置
５ 搬送ローラ（搬送部）
１０ 除去ユニット
１１ 吐出ノズル
１１ａ マイクロバブル水（第１処理液）
１１ｂ 吐出口
１３、６３ 排出口
１４、６４ 排出管
２０、８０、１２０ 貯留槽
２１、１２１ マイクロバブル発生部
４１ エア供給源
５１ マイクロバブル水供給管（第１供給管）
６０ 洗浄ユニット
６１ａ、６１ｂ 純水（第２処理液）
８１ 排液供給管（第２供給管）
ＡＲ１ 搬送方向
Ｗ 基板

Claims (11)

1. マイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生部と、
   前記マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第１処理液を、基板に供給する第１供給部と、
   前記第１供給部によって前記第１処理液が供給された前記基板に、第２処理液を供給する第２供給部と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記第１供給部は、カーテン状とされた前記第１処理液を前記基板に向けて吐出し、搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第１方向に沿って、前記第１処理液を前記基板に着液させることを特徴とする基板処理装置。
3. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記第１供給部は、
   搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第１方向に沿って配置された複数のノズルを有し、
   各ノズルは、
   前記第１方向に伸びる吐出口、
   を有することを特徴とする基板処理装置。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第１供給部は、貯留槽内で発生したマイクロバブルを前記基板に供給することを特徴とする基板処理装置。
5. 請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第１供給部と連通接続されており、前記第１供給部側に第１処理液を供給する第１供給管、
   をさらに備え、
   前記マイクロバブル発生部は、前記第１供給管に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
6. 請求項５に記載の基板処理装置において、
   前記マイクロバブル発生部は、マイクロバブル径が良好な有機物の除去処理において要求される範囲となるように、前記第１供給管の所定位置に取り付けられていることを特徴とする基板処理装置。
7. 請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第１供給部から供給される第１処理液は、前記第１処理液と酸素を含むガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする基板処理装置。
8. 請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第１供給部から供給される第１処理液は、前記第１処理液とオゾンガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする基板処理装置。
9. 請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第１処理液は、前記基板上における前記マイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物を含むことを特徴とする基板処理装置。
10. 請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記基板に供給されて基板処理に使用された使用済みの前記第２処理液を前記マイクロバブル発生部に供給する第２供給管、
    をさらに備え、
    前記第１処理液と前記第２処理液とは、同種の処理液であることを特徴とする基板処理装置。
11. (a) マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第１処理液を基板に供給する工程と、
    (b) 前記工程(a)により前記第１処理液が供給された前記基板に、第２処理液を供給する工程と、
    を備えることを特徴とする基板処理方法。

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