JP2012169573A - ダイシングダイボンドシートおよびled用サファイヤ基板の加工方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】長期的にピックアップ性が良好でかつスクライビング加工によるシリコーン系接着剤層の分断が可能なダイシングダイボンドシートを提供する。
【解決手段】ダイシングダイボンドシート10は、基材フィルム12a上に、粘着剤層12bと接着剤層13とがこの順に形成されている。ダイシングダイボンドシート10では、粘着剤層12bが過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤から構成され、接着剤層13が付加反応型のシリコーン系接着剤から構成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、基材フィルム上に粘着剤層や接着剤層が形成されたダイシングダイボンドシートおよびこれを用いるLED用サファイヤ基板の加工方法に関し、特に、LEDパッケージやLEDモジュール、半導体装置等の製造に使用されるダイシングダイボンドシートおよびLED用サファイヤ基板の加工方法に関する。
近年、携帯端末、携帯電話、液晶パネルのバックライト、照明機器の光源として、従来の蛍光灯などと比較して省電力、長寿命である発光ダイオード(以下「LED」という。)の需要が急増している。
LED形成の基板としては主にサファイアが用いられており、LEDの製造プロセスでは、サファイア基板上に窒化ガリウムなどの発光層を形成した後、基板の裏面から薄化加工し、その後にLEDチップに個片化して実装するプロセス等が採用されている。このLED製造時のサファイヤ基板の実装に関しては、耐熱性、耐UV性等の面から、従来は液状の白金付加反応型のシリコーン系接着剤が採用されている。シリコーン系材料では、エポキシ系材料と比較して、加熱後等の黄変が抑えられるためにLEDの照度低下が起きにくくなっている。
ところで、半導体装置製造工程では、このような液状接着剤(ダイボンド剤)使用の工程簡略化、液状接着剤による流動成分による半導体部品の汚染の改善等のためにダイシングダイボンドシートが使用されている。
LED製造工程においても、半導体装置製造工程と同様に、シリコーン系接着剤をシート化し、ダイシングテープと一体化したダイシングダイボンドシート(たとえば特許文献1)が望まれている。
また、サファイア基板は一般的な半導体デバイスに用いられる半導体ウエハ(シリコンウエハ)に比べて非常に硬いこと、また、LEDデバイスは発光素子であるため一般的な半導体ウエハよりもクラックの許容巾が狭いことなどから、LED製造工程では、一般的なダイシング工程である回転刃による個片化ではなく、レーザー光線の照射やダイヤモンド針によりスクライビングラインを形成して、このラインに沿って分断するスクライビング加工方法が適用されている(たとえば特許文献2)。
特開2005−303275号公報 特開平10−305420号公報
しかしながら、ダイシングダイボンドシートのシリコーン系接着剤に関しては、特許文献1にあるような従来のアクリル粘着剤を使用したダイシングテープを使用してダイシングダイボンドシートを形成した場合、シリコーン系接着剤層とテープ界面との間での粘着力が経時的に増大するため、長期的に良好なピックアップ性が得られにくいという問題があった。
さらに、特許文献2にあるようなスクライビング加工方式をダイシングダイボンドシートに適用しようとした場合に、サファイヤ基板の分断と同時に、シリコーン系接着剤層が分断できないという可能性もある。
したがって、本発明の主な目的は、長期的にピックアップ性が良好なダイシングダイボンドシートを提供することであり、好ましくはスクライビング加工によるシリコーン系接着剤層の分断も可能なダイシングダイボンドシートを提供することである。
本発明の他の目的は、当該ダイシングダイボンドシートを用いるLED用サファイヤ基板の加工方法を提供することである。
上記課題を解決するため本発明の一態様によれば、
基材フィルム上に、粘着剤層と接着剤層とがこの順に形成されたダイシングダイボンドシートであって、
前記粘着剤層が過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤から構成され、
前記接着剤層が付加反応型のシリコーン系接着剤から構成されていることを特徴とするダイシングダイボンドシートが提供される。
本発明の他の態様によれば、
LED用サファイヤ基板を加工する際に使用される上記ダイシングダイボンドシートであって、
前記接着剤層がサファイヤ基板に貼合され、
当該ダイシングダイボンドシートが引き伸ばされ、
前記サファイヤ基板と前記接着剤層とが同時に分断されることを特徴とするダイシングダイボンドシートが提供される。
本発明の他の態様によれば、
上記ダイシングダイボンドシートを用いるLED用サファイヤ基板の加工方法であって、
前記ダイシングダイボンドシートの接着剤層をサファイヤ基板に貼合する工程と、
前記サファイヤ基板をスクライビングする工程と、
前記ダイシングダイボンドシートを引き伸ばす工程と、
前記サファイヤ基板と前記ダイシングダイボンドシートの接着剤層とをスクライビングラインに沿って同時に分断する工程と、
を備えることを特徴とするLED用サファイヤ基板の加工方法が提供される。
本発明によれば、粘着剤層および接着剤層がそれぞれ過酸化物硬化型,付加反応型のシリコーン材料から構成されているため、長期的なピックアップ性を向上させることができる。
本実施形態にかかるダイシングダイボンドシートの概略構成を示す断面図である。 ダイシングダイボンドシート上に半導体ウエハを貼り合せた状態を概略的に説明するための図である。
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
図1に示すとおり、ダイシングダイボンドシート10は、フィルム状の基材フィルム12aとその上に形成された粘着剤層12bからなる粘着テープ12(ダイシングテープ)と、この粘着テープ12上に積層された接着剤層13とを、を有している。
このように、ダイシングダイボンドシート10では、基材フィルム12aと粘着剤層12bと接着剤層13とがこの順に形成(積層)され、これらが剥離シート11で被覆されている。
下記では各部の構成や材質などを詳細に説明する。
<基材フィルム(12a)>
基材フィルムとしては、特に制限されず、公知のものを使用することができる。
具体的に、基材フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、またこれらの共重合体フィルム等のポリオレフィンフィルム、メタアクリル酸共重合体フィルム、ポリエーテルケトン、ポリエーテル・エーテルケトン、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が挙げられるが、ダイシング工程後、チップの取り出しを容易にするため、基材を引き伸ばすことにより(エキスパンド)切断されたチップを隔離することができる延伸性のあるフィルムが望ましく、具体的にはポリオレフィンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムから選択されることが好ましい。
基材フィルムの厚さは、強度およびチップのピックアップ性確保の観点から、50〜300μmであることが好ましい。
基材フィルムは、単層であっても、複数層で構成されていてもよい。
<粘着剤層(12b)>
上記基材フィルム上に形成されるシリコーン系粘着剤層は、シリコーン系接着剤層と相溶しないシリコーン系粘着剤からなるものが好ましい。
このようなシリコーン系粘着剤層としては、一般的に使用されている加熱硬化型である鎖上のオルガノポリシロキサンと固体状のシリコーンレジンからなる粘着剤を用いることができるが、白金付加反応型のシリコーン系接着剤層との剥離性を向上させるために、反応系の異なる過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を使用する。
過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤としては、オルガノポリシロキサンと(R1SiO1/2)単位および(SiO)単位(R1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基)からなるオルガノポリシロキサン共重合体レジン((SiO)単位に対する(R1SiO1/2)単位のモル比が0.5〜1.5)とのオルガノポリシロキサン混合物に対し、架橋硬化剤として過酸化ベンゾイル、ビス(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物を含有するものである。
<接着剤層(13)>
シリコーン系接着剤層としては、付加反応型のシリコーン系材料を主成分として含むものであれば特に制限されるものではなく、公知のものを使用できる。
特にLED用途に適用する場合には、高透明性が必要とされる場合があるため、透明性の高いものがより好ましい。
この白金付加反応型のシリコーン系接着剤に関しては、少なくとも(A)1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、(B)1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンおよび(C)白金系触媒を有する。
(A)成分は上記組成物の主剤であり、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサンである。
(A)成分の分子構造としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、網状が例示される。
(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が例示され、特に、ビニル基であることが好ましい。
このアルケニル基の結合位置としては、分子鎖末端および/または分子鎖側鎖が例示される。
(A)成分中のアルケニル基以外のケイ素原子に結合した基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の置換もしくは非置換の一価炭化水素基が例示され、特に、メチル基、フェニル基であることが好ましい。シリコーン系粘着剤がメチル基である場合にはフェニル基を、シリコーン系粘着剤がフェニル基含有である場合にはメチル基を使用する。
(A)成分の粘度は限定されないが、25℃における粘度が100〜1,000,000mPa・sの範囲内であることが好ましい。
(B)成分は上記組成物の架橋剤であり、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンである。
(B)成分の分子構造としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、環状、網状が例示される。
(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子の結合位置としては、分子鎖末端および/または分子鎖側鎖が例示される。
(B)成分中の水素原子以外のケイ素原子に結合した基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の置換もしくは非置換の一価炭化水素基が例示され、特に、メチル基、フェニル基であることが好ましい。(A)成分同様に、シリコーン系粘着剤がメチル基である場合にはフェニル基を、シリコーン系粘着剤がフェニル基含有である場合にはメチル基を使用することが好ましい。
(C)成分の粘度は限定されないが、25℃における粘度が1〜100,000mPa・sの範囲内であることが好ましい。
(C)成分は上記組成物の付加反応(ヒドロシリル化)よる硬化を促進するための触媒であり、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒等の周知のヒドロシリル化反応用触媒が例示され、特に、白金微粉末、白金黒、白金担持シリカ微粉末、白金担持活性炭、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体等の白金系触媒が反応速度が良好であることから好ましい。
(C)成分の配合量は上記組成物の硬化を促進するに十分な量であり、これは、白金系触媒を用いる場合には、上記組成物において、この触媒中の白金金属が重量単位で0.01〜1,000ppmの範囲内となる量であることが好ましく、特に、これが0.1〜500ppmの範囲内となる量であることが好ましい。これは、(C)成分の配合量が、この範囲未満の量であると、得られる組成物の硬化速度が著しく遅くなる傾向があり、一方、この範囲を超える量であっても、さほど硬化速度には影響がなく、むしろ、着色等の問題を生じるからである。
上記組成物は、(A)成分〜(C)成分を均一に混合することにより得られるこの組成物を、室温または室温〜200℃の温度範囲(好ましくは70〜150℃の温度範囲)で加熱することにより、ヒドロシリル化反応させて半硬化状物または完全硬化状物として形成されることができる。
<ダイシングダイボンドシートの製造方法>
次に、ダイシングダイボンドシート10の製造方法の一例について説明する。
まず、剥離シートの剥離面上に、シリコーン系粘着剤層を構成する各成分を含む組成物を、ロールナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、リバースコーターなどの一般に公知の方法に準じて直接または転写によって塗布して乾燥させ、熱あるいは紫外線、電子線等の放射線により硬化させて粘着剤層12bを形成する。
その後、得られた粘着剤層12bを基材フィルム12aに転写し、粘着テープ12を作製する。
その他、基材フィルム12aに直接粘着剤層12bを塗布して粘着テープ12を作製してもよい。
ここで、基材フィルム12aは前記で例示したものを用いることができる。
なお、これら基材フィルム12aは、コロナ処理等の表面処理を施したものを使用することができる。
この粘着剤層12bの厚さは好ましくは3〜50μmとし、より好ましくは5〜20μmとする。
その後、剥離シート11の剥離面上に、シリコーン系接着剤層を構成する各成分を含む組成物を、ロールナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、リバースコーターなどの一般に公知の方法に準じて直接または転写によって塗布、乾燥させ、接着剤層13を形成した接着フィルムを得る。
接着剤層13の厚さは好ましくは3〜50μmとし、より好ましくは5〜20μmとする。
その後、先に得られた粘着テープ12の粘着剤層12bと接着フィルムを貼り合わせることにより、ダイシングダイボンドシート10を得ることができる。
なお、ダイシングダイボンドシート10は、図1および図2に示すような形状に粘着テープ12や接着剤層13をプリカットすることもできる。
<LED用サファイヤ基板の加工方法(使用方法)>
はじめに、ダイシングダイボンドシート10から剥離シート11を剥離し、図2に示すとおり、ダイシングダイボンドシート10の接着剤層13をサファイヤ基板1に加熱貼合し、ダイシングダイボンドシート10の側縁部をダイシング用リングフレーム20で固定する。
その後、サファイヤ基板1を所定のスクライブ加工装置に固定し、サファイヤ基板1にスクライブ加工を施す(スクライビングする)。
その後、所定のエキスパンド装置を用いて、ダイシングダイボンドシート10を引き伸ばす(エキスパンドする)。
その後、サファイヤ基板とダイシングダイボンドシート10の接着剤層13とを、スクライビングラインに沿って同時に分断する。
そして分断後のサファイヤ基板(チップ)をピックアップする場合には、チップの表面を吸着してチップを接着剤層13とともに粘着テープ12から引き剥がす。
次に、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(1)比較例サンプルの作製
(1.1)比較例1
[基材フィルム]
アイオノマー樹脂共重合体により作製された厚さ80μmの基材フィルムを使用した。
[粘着剤層組成物A1]
アクリル樹脂(質量平均分子量:73万、ガラス転移温度−24℃)100質量部、硬化剤としてポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン(株)製、商品名:コロネートL)2質量部を混合して粘着剤組成物を得た。
[接着剤組成物B1]
(A)成分として、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度40,000mPa・s、ビニル基含有量0.08重量%)72重量部、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体(粘度6,000mPa・s、ビニル基の含有量=0.84重量%)15重量部、(B)成分として、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(粘度5mPa・s、ケイ素原子結合水素原子含有量0.7重量%)3重量部、(C)成分として、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、この錯体中の白金金属が重量単位で5ppmとなる量)、接着性向上のために、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとの分子鎖両末端ジメチルヒドロキシ基封鎖メチルビニルシロキサンオリゴマー(粘度40mPa・s、ビニル基含有量31重量%)との重量比1:1の混合物1.0重量部、および付加反応抑制剤として、3−フェニル−1−ブチン−3−オール0.01重量部を均一に混合して、白金付加硬化型(付加反応型)のシリコーン系接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
[ダイシングダイボンドシート作製方法]
粘着剤組成物A1を調製した後、シリコーン系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように粘着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥させた後、コロナ処理した基材フィルムに転写し、粘着テープを得た。
得られたシリコーン系接着フィルムを図1、2のような形状に裁断した後、粘着テープの粘着剤層側に接着剤層を貼り合せて、ダイシングダイボンドテープを作製した。
接着フィルムおよび粘着テープはともに円形状を呈し、接着フィルムの直径は160mmと、粘着テープの直径は207mmとした。
(1.2)比較例2
粘着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A2]
アクリル樹脂(質量平均分子量:80万、ガラス転移温度−17℃)100質量部、6官能アクリレートモノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30部、硬化剤としてポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン(株)製:コロネートL)2重量部、光重合開始剤(日本チバガイギー社製:イルガキュアー184)0.5質量部を混合して放射線硬化性の粘着剤組成物を得た。
(1.3)比較例3
粘着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A3]
溶媒のトルエン400g中に、n−ブチルアクリレート128g、2−エチルヘキシルアクリレート307g、メチルメタアクリレート67g、メタクリル酸1.5g、重合開始剤としてベンゾイルペルオキシドの混合液を、適宜、滴下量を調整し、反応温度および反応時間を調整し、官能基をもつ化合物(1)の溶液を得た。
次に、このポリマー溶液に、放射線硬化性炭素−炭素二重結合および官能基を有する化合物(2)として、別にメタクリル酸とエチレングリコールから合成した2−ヒドロキシエチルメタクリレート2.5g、重合禁止剤としてハイドロキノンを適宜滴下量を調整して加え反応温度および反応時間を調整して、放射線硬化性炭素−炭素二重結合を有する化合物(A)の溶液を得た。
続いて、化合物(A)溶液中の化合物(A)100質量部に対して、ポリイソシアネート(B)として日本ポリウレタン社製:コロネートLを1質量部加え、光重合開始剤として日本チバガイギー社製:イルガキュアー184を0.5質量部、溶媒として酢酸エチル150質量部を化合物(A)溶液に加えて混合して、放射線硬化性の粘着剤組成物を調製した。
(1.4)比較例4
粘着剤組成物や接着剤組成物、ダイシングダイボンドシート作製条件を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A4]
付加反応型シリコーン系粘着剤(モメンティブ社製:TSR1512)100重量部に対し硬化剤(モメンティブ社製:CR50)を2重量部、溶剤としてトルエンを70重量部加えて混合して、付加反応型のシリコーン系粘着剤組成物を調製した。
[接着剤組成物B2]
接着剤組成物B1の乾燥、硬化条件を110℃で5分間にしてシリコーン系接着フィルムを得た。
[ダイシングダイボンドシート作製方法]
粘着剤組成物A4を調製した後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように粘着剤組成物を塗布して、120℃で5分間乾燥させた後、コロナ処理した基材フィルムに転写し、粘着テープを得た。
(1.5)比較例5
粘着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A5]
付加反応型シリコーン系粘着剤(信越シリコーン社製:X−40−3240)100重量部に対し硬化剤(信越シリコーン社製:CAT−PL−50T)1重量部、溶剤としてトルエン70重量加えて混合して、付加反応型のシリコーン系粘着剤を調製した。
(1.6)比較例6
接着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[接着剤組成物B3]
付加反応型ダイアタッチペースト(信越シリコーン社製:KER-3000−M2)100部にトルエン20部を加え、付加反応型のシリコーン接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
(1.7)比較例7
粘着剤組成物をA5に変更するとともに接着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[接着剤組成物B3]
付加反応型ダイアタッチペースト(信越シリコーン社製:KER-3000−M2)100部にトルエン20部を加え、付加反応型のシリコーン接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
(1.8)比較例8
接着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[接着剤組成物B4]
(A)成分として、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度40,000mPa・s、ビニル基含有量0.08重量%)100重量部、ジメチルビニルシロキサン単位、トリメチルシロキサン単位及びSiO単位からなるシリコーンレジン40部、(B)成分として、ジメチルハイドロジェンシロキサン単位及びSiO単位からなる低粘度流体30部、(C)成分として、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、この錯体中の白金金属が重量単位で5ppmとなる量)、反応抑制剤として、3−フェニル−1−ブチン−3−オール0.01重量部を均一に混合して、白金付加硬化型(付加反応型)のシリコーン系接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
(1.9)比較例9
粘着剤組成物をA5に変更するとともに接着剤組成物を変更した。
それ以外は比較例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[接着剤組成物B4]
(A)成分として、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度40,000mPa・s、ビニル基含有量0.08重量%)100重量部、ジメチルビニルシロキサン単位、トリメチルシロキサン単位及びSiO単位からなるシリコーンレジン40部、(B)成分として、ジメチルハイドロジェンシロキサン単位及びSiO単位からなる低粘度流体30部、(C)成分として、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、この錯体中の白金金属が重量単位で5ppmとなる量)、反応抑制剤として、3−フェニル−1−ブチン−3−オール0.01重量部を均一に混合して、白金付加硬化型(付加反応型)のシリコーン系接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
(1.10)実施例1
[基材フィルム]
アイオノマー樹脂共重合体により作製された厚さ80μmの基材フィルムを使用した。
[粘着剤組成物A6]
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(モメンティブ社製:YR3286)100重量部に過酸化ベンゾイル1重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B1]
(A)成分として、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度40,000mPa・s、ビニル基含有量0.08重量%)72重量部、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体(粘度6,000mPa・s、ビニル基の含有量=0.84重量%)15重量部、(B)成分として、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(粘度5mPa・s、ケイ素原子結合水素原子含有量0.7重量%)3重量部、(C)成分として、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、この錯体中の白金金属が重量単位で5ppmとなる量)、接着性向上のために、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとの分子鎖両末端ジメチルヒドロキシ基封鎖メチルビニルシロキサンオリゴマー(粘度40mPa・s、ビニル基含有量31重量%)との重量比1:1の混合物1.0重量部、および付加反応抑制剤として、3−フェニル−1−ブチン−3−オール0.01重量部を均一に混合して、白金付加硬化型(付加反応型)のシリコーン系接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
[ダイシングダイボンドシート作製方法]
粘着剤組成物A6を調製した後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように粘着剤組成物を塗布して、90℃で3分間予備乾燥させた後、150℃で5分間加熱硬化させ、その後、コロナ処理した基材フィルムに転写し、粘着テープを得た。
得られたシリコーン系接着フィルムを図1、2のような形状に裁断した後、粘着テープの粘着剤層側に接着剤層を貼り合せて、ダイシングダイボンドテープを作製した。
接着フィルムおよび粘着テープはともに円形状を呈し、接着フィルムの直径は160mmと、粘着テープの直径は207mmとした。
(1.11)実施例2
粘着剤組成物および接着剤組成物を変更した。
それ以外は実施例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A7]
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤(モメンティブ社製:YR3340)100重量部に過酸化ベンゾイル1重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B2]
接着剤組成物B1の乾燥、硬化条件を110℃で5分間にしてシリコーン系接着フィルムを得た。
(1.12)実施例3
粘着剤組成物および接着剤組成物を変更した。
それ以外は実施例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A8]
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤(モメンティブ社製:YR3340)100重量部に過酸化ベンゾイル2重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B2]
接着剤組成物B1の乾燥、硬化条件を110℃で5分間にしてシリコーン系接着フィルムを得た。
(1.13)実施例4
粘着剤組成物および接着剤組成物を変更した。
それ以外は実施例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A9]
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤(モメンティブ社製:YR3340)100重量部に過酸化ベンゾイル5重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B2]
接着剤組成物B1の乾燥、硬化条件を110℃で5分間にしてシリコーン系接着フィルムを得た。
(1.14)実施例5
粘着剤組成物および接着剤組成物を変更した。
それ以外は実施例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A10]
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤(モメンティブ社製:YR3340)100重量部に過酸化ベンゾイル6重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B2]
接着剤組成物B1の乾燥、硬化条件を110℃で5分間にしてシリコーン系接着フィルムを得た。
(1.15)実施例6
粘着剤組成物および接着剤組成物を変更した。
それ以外は実施例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A8]
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤(モメンティブ社製:YR3340)100重量部に過酸化ベンゾイル2重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B3]
付加反応型ダイアタッチペースト(信越シリコーン社製:KER-3000−M2)100部にトルエン20部を加え、付加反応型のシリコーン接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
(1.16)実施例7
粘着剤組成物および接着剤組成物を変更した。
それ以外は実施例1と同様にしてダイシングダイボンドシートを作製した。
[粘着剤組成物A8]
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤(モメンティブ社製:YR3340)100重量部に過酸化ベンゾイル2重量部、溶剤としてトルエン70重量部を加えて混合して、過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤を調製した。
[接着剤組成物B4]
(A)成分として、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度40,000mPa・s、ビニル基含有量0.08重量%)100重量部、ジメチルビニルシロキサン単位、トリメチルシロキサン単位及びSiO単位からなるシリコーンレジン40部、(B)成分として、ジメチルハイドロジェンシロキサン単位及びSiO単位からなる低粘度流体30部、(C)成分として、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、この錯体中の白金金属が重量単位で5ppmとなる量)、反応抑制剤として、3−フェニル−1−ブチン−3−オール0.01重量部を均一に混合して、白金付加硬化型(付加反応型)のシリコーン系接着剤組成物を調製した。
その後、フッ素系剥離シート上に乾燥後の厚さが10μmとなるように接着剤組成物を塗布して、110℃で2分間乾燥、硬化させた後、シリコーン系接着フィルムを得た。
(2)サンプルの評価
(2.1)破断伸び率の測定
各サンプルの接着剤層を、1号ダンベル形状(JIS K6301に準拠)で打ち抜いて試験片を作製し、標線間距離40mm、引張速度300mm/minでの破断伸び率を測定した。測定結果を表1および表2に示す。
(2.2)ピックアップ特性の評価
各サンプルを、厚さ75μm、直径150mmのシリコンウエハ(半導体ウエハ)に70℃で加熱貼合し、これをダイシング装置(Disco製 DFD6340)上に載置した。
次いで、半導体ウエハをダイシング装置上に固定して、100mm/秒の速度で2×2mmにダイシングした後、粘着剤層に紫外線を空冷式高圧水銀灯により500mJ/cm照射し、ピックアップダイボンダー装置(NECマシナリー製)によるピックアップを行った。
このピックアップ試験を100回実施してそのうち何回失敗したかを測定し、
、初期のピックアップ不良率(%)を評価した。評価結果を表1および表2に示す。
このときのピックアップのピン突き上げ条件は、ピン突き上げ高さを0.5mm、突上げスピードを5000μm/秒とした。
また、経時でのピックアップ評価として、紫外線照射前に50℃で72時間加熱処理を行った場合のピックアップ不良率(%;100回のピックアップ試験のうち何回失敗したか)も同様に評価した。
(2.3)分断性の評価
各サンプルを、厚さ75μm、直径75mmのサファイヤウエハに80℃で加熱貼合し、ダイシング用リングフレームに固定した。
次いで、サファイヤウエハをスクライブ加工装置上に固定して、1×1mmにスクライブ加工した。
その後、エキスパンド装置を用いて、エキスパンド速度200mm/秒、エキスパンド量20mmの条件でエキパンドを行い、チップと接着剤層との分断時の分断性を判定した。判定結果を表1および表2に示す。
判定結果において、全てのスクライブラインでフィルムが分断できたものを「可」と、分断できない部分があるものを「不可」とした。
Figure 2012169573
Figure 2012169573
表1に示すとおり、比較例1〜9では、初期のピックアップは良好であったものの、熱処理後のピックアップ不良率が20%以上となった。
他方、表2に示すとおり、実施例1〜7では、ピックアップ不良率が5%以下であった。特に、実施例2は、過酸化ベンゾイルが少ないので、粘着性が増加し、ピックアップ不良率が2%となった。
このような結果から、粘着剤層を過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤から構成し、接着剤層を付加反応型のシリコーン系接着剤から構成することは、ピックアップ特性を向上させる上で有用であることがわかる。
分断性については、比較例1〜3,5,実施例1では、接着剤層の破断伸び率が130%以上であるために分断不可であった。
実施例2〜4,6,7では、接着剤層の破断伸び率が100%以下であり、粘着剤層の過酸化ベンゾイルの添加量がシリコーン粘着剤100重量部に対し2〜5部であるため、分断可能であった。
実施例5では、接着剤層の破断伸び率が100%以下であるため、一部分断可能であったが、過酸化ベンゾイルが多い(6重量部)ので粘着剤と接着剤の密着力が低いために粘着剤層と接着剤層との界面で剥離が発生し分断できない部分があった。
このような結果から、接着剤層の破断伸び率を100%以下とし、粘着剤層の過酸化ベンゾイルの添加量を2〜5重量部にすることは、分断性を向上させる上で有用であることがわかる。
1:サファイヤ基板
10:ダイシングダイボンドシート
11:剥離シート
12a:基材フィルム
12b:粘着剤層
12:粘着フィルム
13:接着剤層
20:ダイシング用リングフレーム

Claims (5)

  1. 基材フィルム上に、粘着剤層と接着剤層とがこの順に形成されたダイシングダイボンドシートであって、
    前記粘着剤層が過酸化物硬化型のシリコーン系粘着剤から構成され、
    前記接着剤層が付加反応型のシリコーン系接着剤から構成されていることを特徴とするダイシングダイボンドシート。
  2. 請求項1に記載のダイシングダイボンドシートにおいて、
    前記シリコーン系粘着剤の触媒が過酸化ベンゾイルであり、
    前記過酸化ベンゾイルの添加量がシリコーン系粘着剤100部に対し2〜5部であることを特徴とするダイシングダイボンドシート。
  3. 請求項1または2に記載のダイシングダイボンドシートにおいて、
    前記接着剤層の破断伸び率が100%以下であることを特徴とするダイシングダイボンドシート。
  4. LED用サファイヤ基板を加工する際に使用される請求項1〜3のいずれか一項に記載のダイシングダイボンドシートであって、
    前記接着剤層がサファイヤ基板に貼合され、
    当該ダイシングダイボンドシートが引き伸ばされ、
    前記サファイヤ基板と前記接着剤層とが同時に分断されることを特徴とするダイシングダイボンドシート。
  5. 請求項1〜3のいずれか一項に記載のダイシングダイボンドシートを用いるLED用サファイヤ基板の加工方法であって、
    前記ダイシングダイボンドシートの接着剤層をサファイヤ基板に貼合する工程と、
    前記サファイヤ基板をスクライビングする工程と、
    前記ダイシングダイボンドシートを引き伸ばす工程と、
    前記サファイヤ基板と前記ダイシングダイボンドシートの接着剤層とをスクライビングラインに沿って同時に分断する工程と、
    を備えることを特徴とするLED用サファイヤ基板の加工方法。
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