JP2012148003A5 - 断層画像撮像装置、撮像方法、制御装置、及び制御方法 - Google Patents

Description

本発明は、断層画像撮像装置及びその制御方法に関し、特に、眼底などの観察に用いられる光干渉断層法を用いる断層画像撮像装置及びその制御方法に関する。

上記課題を解決するために、本発明に係る断層画像撮像装置は、
測定光を被検眼に照射することにより得られる戻り光と前記測定光に対応する参照光との合波光を検出する検出手段、
前記測定光を前記被検眼上で走査する走査手段、及び
前記走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置との間の距離と、前記走査手段の走査角度と、前記検出手段により検出された合波光と、に基づいて前記被検眼の断層画像を生成する断層画像生成手段、を有することを特徴としている。

Claims (20)

1. 測定光を被検眼に照射することにより得られる戻り光と前記測定光に対応する参照光との合波光を検出する検出手段、
   前記測定光を前記被検眼上で走査する走査手段、及び
   前記走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置との間の距離と、前記走査手段の走査角度と、前記検出手段により検出された合波光と、に基づいて前記被検眼の断層画像を生成する断層画像生成手段、を有することを特徴とする断層画像撮像装置。
2. 前記断層画像生成手段は前記距離、前記走査角、前記合波光、及び前記被検眼の光学的な情報に基づいて前記断層画像を生成し、
   前記光学的な情報は、前記被検眼の内部の屈折要素の屈折率、前記被検眼の内部に入射する前記測定光と前記被検眼の光軸とが成す第一の角と前記被検眼の内部での前記測定光と前記被検眼の前記光軸とが成す走査角である第二の角との関係の少なくともいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の断層画像撮像装置。
3. 前記断層画像生成手段により生成された断層画像を表示手段に表示させる表示制御手段を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の断層画像撮像装置。
4. 前記被検眼の光学的な情報は、前記被検眼の屈折要素の屈折率であり、
   前記屈折要素の屈折率の値を入力する手段を更に有し、
   前記断層画像生成手段が、前記入力手段で入力された値にもとづいて、前記被検眼の断層画像を生成することを特徴とする請求項２に記載の断層画像撮像装置。
5. 前記参照光の光軸に沿って移動することにより前記参照光の光路長を調整する調整手段、及び
   前記調整手段の移動距離に基づいて前記光路長を検出する検出手段、を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の断層画像撮像装置。
6. 前記合波光に基づいて前記被検眼の第一の断層画像を取得する取得手段を有し、
   前記断層画像生成手段は前記距離と前記走査角度とに基づいて前記第一の断層画像を補正することによって前記被検眼の断層画像を生成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の断層画像撮像装置。
7. 生成された前記断層画像において前記被検眼の形状を演算する演算手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の断層画像撮像装置。
8. 前記走査手段に光学的に共役な位置は回転中止であり、前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置はコヒーレンスゲートであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の断層画像撮像装置。
9. 前記断層画像生成手段は、前記走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光に対応した前記測定光の光路上の位置との間の距離、前記走査手段の走査角度、前記合波光、及び前記被検眼の屈折率、に基づいて前記被検眼の断層画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の断層画像撮像装置。
10. 前記屈折率は前記被検眼における硝子体の屈折率であることを特徴とする請求項９に記載の断層画像撮像装置。
11. 前記断層画像生成手段は、前記走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光に対応した前記測定光の光路上の位置との間の距離、前記走査手段の走査角度、前記合波光、前記被検眼の屈折率、及び前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置と前記被検眼の網膜層との距離、に基づいて前記目の断層画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の断層画像撮像装置。
12. 前記断層画像生成手段は、前記走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光に対応した前記測定光の光路上の位置との間の距離と、前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置と前記被検眼の網膜層との距離と、の相違に基づいて前記断層画像を生成することを特徴とする請求項１１に記載の断層画像撮像装置。
13. コンピュータを、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の断層画像撮像装置の各手段として実行させることを特徴とするプログラム。
14. 測定光を照射した被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを合波した合波光に基づいて第一の断層画像を取得する断層画像取得手段、及び
    前記測定光を前記被検眼上で走査する走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置との間の距離と、前記走査手段の走査角度と、に基づいて前記第一の断層画像を補正して第二の断層画像を生成する手段と、を有することを特徴とする制御装置。
15. 測定光を照射した被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを合波した合波光を検出する工程、
    前記測定光を走査手段により前記被検眼上で走査する工程と、
    前記走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置との間の距離と、前記走査手段の走査角度と、前記検出手段により検出された合波光と、に基づいて前記被検眼の前記断層画像を生成する工程と、を有することを特徴とする断層画像撮像方法。
16. 前記合波光に基づいて前記被検眼の第一の断層画像を取得する工程を有し、
    前記断層画像を生成する工程において、前記距離と前記走査角度とに基づいて前記第一の断層画像を補正することによって前記被検眼の断層画像を生成することを特徴する請求項１２に記載の断層画像撮像方法。
17. 生成された前記断層画像において前記被検眼の形状を演算する工程を更に有することを特徴とする請求項１５又は１６に記載の断層画像撮像方法。
18. 請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の断層画像撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
19. 測定光を照射した被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを合波した合波光に基づいて第一の断層画像を取得する工程、及び
    前記測定光を前記被検眼上で走査する走査手段と光学的に共役な位置と前記参照光の光路長と対応する前記測定光の光路上の位置との間の距離と、前記走査手段の走査角度と、に基づいて前記第一の断層画像を補正して第二の断層画像を生成する工程と、を有することを特徴とする制御方法。
20. 請求項１９に記載の制御方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。