JP2010188114A5 - 光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置 - Google Patents

Description

本発明は、光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置に関し、特に眼科診療等における光干渉断層計を用いた光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置に関するものである。

本発明は、上記課題に鑑み、画像のつなぎ合わせの処理が簡便で、感度、分解能などにばらつきが少ないＯＣＴ像を、高速に取得することが可能となる光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置の提供を目的とするものである。

本発明は、つぎのように構成した光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置を提供するものである。
本発明の撮像方法は、複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像方法であって、
前記複数の測定光を前記被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
前記異なるスポット位置における照射スポットの主走査方向に交差する方向の長さを各スポットの径を合計した長さ以下にして該複数の測定光を走査する工程と、
を含むことを特徴とする。
また、本発明の撮像方法は、複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像方法であって、
前記複数の測定光を前記被検査物の所定の略同一層における異なるスポット位置に照射する工程と、
前記略同一方向の主走査線のうち近接する該主走査線同士を互いに重複させるように、前記複数の測定光を略同一方向に主走査する工程と、
を含むことを特徴とする。
また、本発明の撮像装置は、走査手段を介して複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像装置であって、
前記複数の測定光を前記被検査物の異なるスポット位置に照射する照射手段と、
前記異なるスポット位置における照射スポットの主走査方向に交差する方向の長さを各スポットの径を合計した長さ以下にして該複数の測定光を走査するように、前記走査手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の撮像装置は、複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像装置であって、
前記複数の測定光を前記被検査物の所定の略同一層における異なるスポット位置に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を略同一方向に主走査する走査手段と、
前記略同一方向の主走査線のうち近接する該主走査線同士を互いに重複させるように、前記走査手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする。

本発明によれば、画像のつなぎ合わせの処理が簡便で、感度、分解能などにばらつきが少ないＯＣＴ像を、高速に取得することが可能となる光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置を実現することができる。

つぎに、本発明の実施形態における被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置について説明する。
図１に、本実施形態における光断層画像撮像装置の構成例について説明する図を示す。
図１において、１０１は低コヒーレンス光源、１０２はファイバビームスプリッタ、１０３はファイバカプラ、１０４はファイバコリメータ、１０５は走査光学系、１０６は対物レンズである。
１０７はファイバコリメータ、１０８は分散補償用ガラス、１０９は参照ミラー、１１０は干渉信号の検出手段、１１１は記録処理手段、１２０は被測定物である。

Claims (15)

1. 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像方法であって、
   前記複数の測定光を前記被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
   前記異なるスポット位置における照射スポットの主走査方向に交差する方向の長さを各スポットの径を合計した長さ以下にして該複数の測定光を走査する工程と、
   を含むことを特徴とする撮像方法。
2. 前記合成光による干渉信号を検出する工程と、
   検出された各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも２つのスポットによる干渉信号を用い、前記異なるスポット位置の位置ずれ量に基づく演算処理を行って、信号雑音比を向上させる信号処理工程と、
   を含むことを特徴とする請求項１に記載の撮像方法。
3. 前記演算処理をする工程が、前記複数の測定光を走査する際の走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある各スポットからの干渉信号を用いて加算処理あるいは平均化処理をする工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の撮像方法。
4. 前記平均化処理をする工程が、前記複数の測定光を走査する際の走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある各スポットからの干渉信号を用いて重み付けをして平均化処理をする工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の撮像方法。
5. 前記重み付けをして平均化処理をする工程が、前記各スポットの光量、信号強度レベル、雑音レベルのうち、いずれか一つに対応した値で重み付けを行うことを特徴とする請求項４に記載の撮像方法。
6. 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像方法であって、
   前記複数の測定光を前記被検査物の所定の略同一層における異なるスポット位置に照射する工程と、
   前記略同一方向の主走査線のうち近接する該主走査線同士を互いに重複させるように、前記複数の測定光を略同一方向に主走査する工程と、
   を含むことを特徴とする撮像方法。
7. 請求項１から６のいずれか１項に記載の撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
8. 走査手段を介して複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像装置であって、
   前記複数の測定光を前記被検査物の異なるスポット位置に照射する照射手段と、
   前記異なるスポット位置における照射スポットの主走査方向に交差する方向の長さを各スポットの径を合計した長さ以下にして該複数の測定光を走査するように、前記走査手段を制御する制御手段と、
   を有することを特徴とする撮像装置。
9. 前記合成光による干渉信号を検出する手段と、
   検出された各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも２つのスポットによる干渉信号を用い、前記異なるスポット位置の位置ずれ量に基づく演算処理を行って、信号雑音比を向上させる信号処理手段と、
   を更に有することを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
10. 前記信号処理手段が、前記演算処理をするに当たり、前記走査手段により走査される走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある各スポットからの干渉信号を用いて加算処理あるいは平均化処理をする手段を含むことを特徴とする請求項９に記載の撮像装置。
11. 前記平均化処理をする手段が、前記走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある各スポットからの干渉信号を用いて重み付けをして平均化処理をする手段を含むことを特徴とする請求項１０に記載の撮像装置。
12. 前記重み付けをして平均化処理をする手段が、前記各スポットの光量、信号強度レベル、雑音レベルのうち、いずれか一つに対応した値で重み付けを行うことを特徴とする請求項１１に記載の撮像装置。
13. 前記走査手段が、走査速度を可変にできる機構を備えていることを特徴とする請求項８から１２のいずれか１項に記載の撮像装置。
14. 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とをそれぞれ合成した合成光を用いて該被検査物の光干渉断層画像を撮る撮像装置であって、
    前記複数の測定光を前記被検査物の所定の略同一層における異なるスポット位置に照射する照射手段と、
    前記複数の測定光を略同一方向に主走査する走査手段と、
    前記略同一方向の主走査線のうち近接する該主走査線同士を互いに重複させるように、前記走査手段を制御する制御手段と、
    を有することを特徴とする撮像装置。
15. 前記合成光による干渉信号に対し、前記異なるスポット位置の位置ずれ量に基づく演算処理を行って、信号雑音比を向上させる信号処理手段を更に有することを特徴とする請求項１４に記載の撮像装置。