JP2010188114A - 光断層画像の撮像方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像方法であって、
走査光学系により同一方向に走査される前記複数の光からなる測定光の各スポットによる走査領域の走査方向に垂直な方向の大きさが、
各スポットのそれぞれを合計した大きさよりも小さくなるようにして、複数の光からなる測定光の各スポットを同一方向に走査し、被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
前記複数の光からなる測定光による戻り光と、参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する工程と、
該検出された少なくとも2つのスポットによる干渉信号を用い、各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理工程と、を有する。
【選択図】 図1
Description
中でも、多波長光波干渉を利用したオプティカルコヒーレンストモグラフィー(Optical Coherence Tomography:OCT)による光断層画像撮像装置(光干渉計測装置)では、試料の断層像を高分解能に得ることができる。
そのため、眼科領域において、眼底・網膜の断層像を得る上で、必要不可欠な装置になりつつある。
また、眼科以外でも、皮膚の断層観察や、内視鏡やカテーテルとして構成して消化器、循環器の壁面断層撮影等が試みられている。以下、これをOCT装置と記す。
しかし、細かく測定できる反面、広い領域を測定する際には測定時間を要することになる。
また、人眼、消化器の壁面など生体を測定する場合には特に被測定物がランダムに微動しているため、その微動速度より速く測定を終えなければ測定像が歪むことになる。
フーリエドメイン方式では光軸方向の1ラインデータを数十kHzの周期で測定でき、従来のタイムドメイン方式に比べて数百倍の速さで測定できる。
例えば、1000×1000画素からなる断層像を得るとき、500Hz周期で測定光を走査させて測定するタイムドメイン方式の場合では約1秒、ライン測定レート20kHzのフーリエドメイン方式では約0.05秒である。
より高度な検査を行うためには、一つの断層像だけでなく、被測定物の3次元データを取得し、任意の断面で切り出した像を後から合成し、観察することが求められる。
しかしそのためにはより高速に測定する必要がある。
例えば、特許文献1には、複数の光源および光センサを用い、共通の結像光学系によって個々の光源と光センサを対応させる光断層画像撮像装置が開示されている。
また、このような特許文献1による複数の光源および光センサを用いた光断層画像撮像装置の構成では、個々のビームの光量、ビーム径など光学特性にばらつきが生じる。そのため、感度、分解能などにばらつきが生じる。
さらに、1つのビームが1つの領域を走査することになるため、従来の1つのビームで走査する場合に比べて、感度の面での向上は見込めない。
本発明の光断層画像の撮像方法は、光源から出射され複数に分割された光を、該分割された複数の光からなる測定光と参照光とに更に分割し、該測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に該参照光を参照ミラーに導き、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光とを用い、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像方法であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導くに際し、
前記複数の光からなる測定光を走査する走査光学系を用い、
該走査光学系により同一方向に走査される前記複数の光からなる測定光の各スポットによる走査領域の走査方向に垂直な方向の大きさが、
該各スポットのそれぞれを合計した大きさよりも小さくなるようにして、前記複数の光からなる測定光の各スポットを同一方向に走査し、
該複数の光からなる測定光を、照射光学系を介して前記被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する工程と、
前記検出された各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも2つのスポットによる干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理工程と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の光断層画像の撮像方法は、複数の光からなる測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、複数の光からなる参照光を合成する合成手段によって合成された干渉光を検出し、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像方法であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導くに際し、
前記複数の光からなる測定光を走査する走査光学系を用い、
該走査光学系により同一方向に走査される前記複数の光からなる測定光の各スポットによる走査領域の走査方向に垂直な方向の大きさが、
該各スポットのそれぞれを合計した大きさよりも小さくなるようにして、前記複数の光からなる測定光の各スポットを同一方向に走査し、
該複数の光からなる測定光を、照射光学系を介して前記被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する工程と、
前記検出された各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも2つのスポットによる干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理工程と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の光断層画像撮像装置は、光源から出射され複数に分割された光を、該分割された複数の光からなる測定光と参照光とに更に分割し、該測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に該参照光を参照ミラーに導き、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光とを用い、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導く走査光学系と、
前記走査手段によって走査された前記複数の光からなる測定光を、前記被検査物の異なるスポット位置に照射する照明光学系と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照明された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する干渉信号の検出手段と、
前記検出された干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理手段と、を有することを特徴とする。
また、本発明の光断層画像撮像装置は、複数の光からなる測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、複数の光からなる参照光を合成する合成手段によって合成された干渉光を検出し、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像装置であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導く走査光学系と、
前記走査手段によって走査された前記複数の光からなる測定光を、前記被検査物の異なるスポット位置に照射する照明光学系と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する干渉信号の検出手段と、
前記検出された干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理手段と、を有することを特徴とする。
図1に、本実施形態における光断層画像撮像装置の構成例について説明する図を示す。
図1において、101は低コヒーレンス光源、102はファイバビームスプリッタ、103はファイバカプラ、104はファイバコリメータ、105は走査光学系、106は対物レンズである。
107はファイバコリメータ、108は分散補償用ガラス、109は参照ミラー、110は干渉信号の検出手段、111は記録処理手段、120は被測定物である。
これらの複数に分割された光はファイバカプラ103により、それぞれ複数の光からなる測定光と参照光とに更に分割され、つぎのように測定光は被測定対象である被検査物に導かれると共に該参照光が参照ミラーに導かれる。
複数の光からなる測定光を前記被検査物に導くに際し、測定光は、特定の間隔で並べられたファイバコリメータ104より出射される。ビーム走査を行う走査手段(走査光学系)105によって走査された該複数の光からなる測定光が、照射光学系を構成する対物レンズ106を介して、被測定物(被測定対象である被検査物)120に照射される。
被測定物120によって反射あるいは散乱された戻り光は、再び同じ光学系を通って、ファイバカプラ103に戻される。
参照光は、ファイバコリメータ107より出射され、参照ミラー109にて反射され、ファイバカプラ103に戻される。
このとき、参照光との波長分散量をあわせるために、分散補償ガラス108を通している。
被測定物120より散乱されファイバカプラ103に戻された測定光と、参照ミラー109にて反射されファイバカプラ103に戻され参照光とによって、ファイバカプラ103で干渉信号が生成される。
このように、ファイバカプラ103によって生成された干渉信号は、干渉信号を検出する工程において、干渉信号の検出手段110によって、各測定光に対応した干渉信号として検出される。
そして、このように検出された干渉信号を用い、信号処理工程において記録処理手段(信号処理手段)111に記録され、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして、信号雑音比を向上させるように演算処理される。
この図では分かりやすくするため、走査線を少しずらして記載しているが、実際は走査線と垂直な方向に、ほぼ重なっている。
例えば、走査光学系により同一方向に走査される前記複数の光からなる測定光の各スポットによる走査領域の走査方向に垂直な方向の大きさが、
該各スポットのそれぞれを合計した大きさよりも小さくなるようにして、前記複数の光からなる測定光の各スポットを同一方向に走査される。
図3に各スポットによって測定される領域と被測定物の関係を示す。
スポットの位置ずれに対応して、測定領域がずれている。その位置ずれ量を考慮して、走査方向と垂直な方向にほぼ同じ位置の測定データ(図3の太線で囲われている部分)を平均化することにより、単一のスポットで測定される信号に比べて、信号対雑音比を向上させることができる。
以上のような光断層画像撮像装置は、眼底観察や皮膚、内視鏡などの生体観察ならびに、産業上の品質管理などを含み、各種の診断装置、検査装置に利用することが可能である。
ここで、別の実施形態として、上述の実施形態に係る光断層画像の撮像方法を、コンピュータに実行させるためのプログラムとして、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体(例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、CD−R、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ROM、EEPROM、ブルーレイディスクなど)に格納しても良い。
また、別の実施形態として、上述の光断層画像の撮像方法をコンピュータに実行させるためのプログラムでも良い。
[実施例1]
実施例1として、本発明を適用した光断層画像撮像装置の構成例について説明する。
本実施例では、光断層画像撮像装置として、図1に示す光断層画像撮像装置が用いられる。
また、本実施例では、眼の網膜が被測定物120とされる。
低コヒーレンス光源101として、出力20mW、中心波長840nm、波長幅45nmのSLD光源を用いる。
光源101より発せられた光は1対3のファイバビームスプリッタ102により、3本に等分される。
それぞれの光は3個の50:50ファイバカプラ103によって、測定光と参照光に分岐される。
測定光側はファイバコリメータ104によって平行ビームにされ、ガルバノスキャナとレンズで構成される走査光学系105によって走査される。
そして、このように走査光学系105によって走査された上記測定光は、照明光学系を構成する対物レンズ106により、ビーム径約1mmの平行ビームとなって、眼の網膜120上の異なる点に照射される。
眼底像250上における各スポットおよび走査線は、201a、201b、201cの3つである。
入射ビーム径が約1mmとなるよう上記照明光学系を調整しているため、眼底上のスポット径は約20μmになる。
また、ファイバコリメータ104でのファイバ間隔が80μm、コア径が5μm、ファイバ数が3本のものを使用しており、各スポット間の間隔は約260μmになる。
被測定物120より散乱されファイバカプラ103に戻された測定光と、参照ミラー109にて反射されファイバカプラ103に戻され参照光とによる、3つのファイバカプラ103で生成された干渉信号は、それぞれ3つの分光検出部110に入射する。
分光検出部110は、1200本/mmの透過型回折格子と画素ピッチ14μm、画素数2048、ライン取得レート20kHzのラインセンサを用いた分光光学系によって構成され、干渉信号を含んだ波長スペクトルデータが得られる。
これらのデータを記録処理部111に記録し、フーリエ変換処理することにより、OCT信号が得られる。
さらに走査光学系105内のガルバノスキャナの周波数に同期させ、OCT信号を取得することにより、網膜120の断層画像を得ることができる。
スポット間隔が260μmであるため、測定領域は約260μmずれる。
これはスポット径20μmの13倍にあたる。各スポットによる測定データ列を
[A1,A2,A3,…,Ak,…](Akはスポット201aによって測定された、走査方向にk番目の測定データ列を表す)、
[B1,B2,B3,…,Bl,…](Blはスポット201bによって測定された、走査方向にl番目の測定データ列を表す)、
[C1,C2,C3,…,Cm,…](Cmはスポット201cによって測定された、走査方向にm番目の測定データ列を表す)、
として、Xn=An+24+Bn+12+Cnという演算により、新たに[X1,X2,X3,…,Xn,…]というデータ列を作る。
こうすることで、スポット位置ずれを考慮して同じ測定箇所のデータ列を加算処理することになるため、ランダムノイズを相対的に小さくでき、OCT像の信号対雑音比を向上させることができる。
さらに、走査線を眼底面内にずらしながら同様の測定を行えば、網膜の3次元像を測定することができる。
なお、ここでは、ラインセンサを用いたスペクトラルドメイン方式のOCTについての例を示したが、タイムドメイン方式、波長走査光源を用いたスエプトソース方式のOCTについても同様の効果が得られる。
また、走査線が走査方向と垂直な方向にほぼ重なった例を示したが、スポット径以内のずれであれば同様の効果が得られる。
測定データの信号対雑音比を向上させる工程として、加算処理を行う例を示したが、Xn=(An+24+Bn+12+Cn)÷3のように、平均化処理をする場合でも同様の効果を得られる。
本実施例によれば、このように走査光学系により走査される走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある前記各スポットからの干渉信号を用いて加算処理、又は平均化処理をすることにより、信号対雑音比を向上させることができる。
また、全てのスポットによるデータを用いない場合でも、少なくとも2つのデータがあれば、信号対雑音比を向上させる効果は得られる。
すなわち、上記異なるスポット位置への照射による各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも2つのスポットによる干渉信号を用いるようにすればよい。
実施例2として、バルク光学系による光断層画像撮像装置の構成例について説明する。実施例1では光ファイバを用いて構成した例を示したが、バルク光学系でも同様に構成することができる。
図4に、本実施例における光断層画像撮像装置の構成例について説明する図を示す。
図1に示す構成と同じ構成には同一の符号が付されているので、共通する部分の説明は省略する。
図4において、401はキューブ型ビームスプリッタ、402は分散補償ガラス、403は参照ミラー、404はファイバコリメータである。
光源より発せられた光は1対3のファイバビームスプリッタ102により3本に等分され、ファイバコリメータ104にて平行ビームになって出射される。
3本のビームはキューブ型ビームスプリッタ401によって、測定光と参照光に分けられる。
測定光は実施例1と同様に、走査光学系105、対物レンズ106を通じて、ビーム径約1mmの平行ビームとなって、眼の網膜120上の異なる点に照射される。
参照光側は分散補償ガラス402を介して参照ミラー403によって反射され、ファイバコリメータ404に戻される。
それぞれのビームにより生成された干渉信号は、実施例1と同様にそれぞれ3つの分光検出部110に入射し、データは記録処理部111に記録される。
バルク光学系による本実施例の光断層画像撮像装置の構成は、光ファイバによる実施例1と異なるが、ビーム配置は実施例1と同様のため、信号処理の工程は実施例1と同様に行うことができる。
これらの他に、重み付けをして平均化処理をすることもできる。
例えば、このような重み付けをして平均化処理をする工程において、各スポットの光量に対応した値で重み付けを行うことにより、平均化処理をすることもできる。
通常ビームスプリッタ、ファイバカプラなどは製造ばらつきがあるため、各スポットの光量にばらつきが生じる。
例えば、本実施例で用いている1対3のファイバビームスプリッタ102には最大5%の分岐比ばらつきがある。
図2の各スポット201a、201b、201cの光量を測定すると、それぞれ705μW、730μW、700μWであった。
したがって、実施例1に記載したデータ列の定義を用いて、Xn=(An+24÷705+Bn+12÷730+Cn÷700)÷3という計算処理を行えば、光量に応じた信号強度の違いを補正した上で信号対雑音比を向上させることができる。
また、これらの光量、信号強度レベル、雑音レベルを組み合せた指標でも良い。
実施例3として、走査光学系が、走査速度を可変にできる機構を備え、測定する領域に応じて走査周波数を変えるようにした構成例について説明する。
上記した実施例1、実施例2では、走査速度について述べなかったが、ガルバノミラーを用いた走査光学系105は500Hzまでの任意の周波数で走査周波数を変えることができる。
したがって、測定する領域に応じて適切に走査周波数を変えることにより、信号対雑音比を落とさずに高速に測定する場合、低速で信号対雑音比を高める場合など使い分けることが可能になる。
ここで、6mm×2mmの測定領域を実施例1の測定系で測定する場合を考える。
スポット径が20μmの場合、通常の単一スポットOCT測定の場合、300×100÷20kHz=1.5秒の測定時間が必要である。
本実施例の場合は3つのスポットで測定し、実施例1に記載の信号対雑音比を高める処理を行うので、3分の1の測定時間でも同じ信号対雑音比で測定できるため、異常箇所の発見が容易となる。
初めに眼底上で黄斑を中心とした6mm×2mmの測定領域501aを粗測定する。
粗測定のため走査周波数を100Hzと高速にすると、往復走査で0.5秒の測定時間となる。
前述のように、3分の1の測定時間であるが信号対雑音比は確保されているため、この測定により測定領域の端に疾患が疑われる箇所(図5斜線部分)を発見することができる。
今度は詳細な測定を行うため、走査周波数を33.3Hzと3分の1に低速にすると、測定時間は1.5秒となる。
今回は、通常の単一スポットOCT測定と同じ測定時間だが、測定スポットが3倍のため、通常の単一スポットOCTの3倍の時間をかけて測定した場合と同じ信号対雑音比で測定でき、詳細に異常箇所を調べることができる。
以上の実施例ではスポット数が3つの場合の例を述べたが、2つ以上であれば同様の効果が得られる。
図6に本実施例の光断層画像撮像装置の構成を説明する図を示す。
光源が3つのSLD光源510a,510b,510cからなること以外は図4に示す構成と同じ構成である。図4と共通する部分は同一の符号を付し、説明は省略する。
本実施例のように光源がビーム毎に異なる場合においても本発明の効果は有効である。
また、本実施例においてはビームが3つの場合を示したが、2つ以上の複数のビームのいずれの場合においても効果は同様である。
以上の実施例ではマイケルソン型の干渉計を用いた例を示したが、本実施例ではマッハツェンダー型の干渉計の場合の構成例を示す。
図7に、本実施例におけるマッハツェンダー型の干渉計を用いた光断層画像撮像装置の構成を説明する図を示す。
なお、図7において、図1に示す構成と同じ構成に同一の符号が付されている。
SLD光源101より発せられた光は1対2のファイバビームスプリッタ601により、測定光と参照光に分岐される。
測定光は、1対3のファイバビームスプリッタ602により3等分され、それぞれ光サーキュレータ603に入力される。
光サーキュレータ603を通った光は3つのファイバコリメータ104によって平行ビームにされ、ガルバノスキャナとスキャンレンズで構成される走査光学系105と対物レンズ106によって、目の網膜120上の異なる点に照射される。
この3つのビームは実施例1と同じ領域を走査するように調整されている。
網膜120によって反射あるいは散乱された戻り光は、再び同じ光学系を通って、光サーキュレータ603に戻される。
光サーキュレータに戻った光は、光サーキュレータの性質により、ファイバビームスプリッタ602側ではなく、ファイバコリメータ604側に出力される。
これらの戻り光はファイバコリメータ604により平行ビームになりビームスプリッタ701に入力される。
この戻された反射光は、光サーキュレータ605により1対3のファイバビームスプリッタ609側に出力され、3等分される。
この3等分された参照光は、ファイバコリメータ610にて平行ビームになり、ビームスプリッタ703に入力される。
網膜120より散乱されビームスプリッタ701に入力された3つの測定光と、3等分された後ビームスプリッタ701に入力された3つの参照光は、ビームスプリッタ701にて合成され干渉光となる。
それぞれの干渉光のうち、一方はファイバコリメータ611にて光ファイバに入力され、分光検出部110に入射し、実施例1と同様に分光処理され、OCT信号を得る。他方は不要のため黒色アルマイト処理されたアルミ板702で遮蔽する。
このように、本発明の効果は干渉計の形によらず有効である。
また、本実施例においてはビームが3つの場合を示したが、2つ以上の複数のビームのいずれの場合においても効果は同様である。
102:ファイバビームスプリッタ
103:ファイバカプラ
104:ファイバコリメータ
105:走査光学系
106:対物レンズ
107:ファイバコリメータ
108:分散補償ガラス
109:参照ミラー
110:干渉信号の検出手段
111:記録処理手段
120:被測定物
Claims (11)
- 光源から出射され複数に分割された光を、該分割された複数の光からなる測定光と参照光とに更に分割し、該測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に該参照光を参照ミラーに導き、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光とを用い、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像方法であって、 前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導くに際し、
前記複数の光からなる測定光を走査する走査光学系を用い、
該走査光学系により同一方向に走査される前記複数の光からなる測定光の各スポットによる走査領域の走査方向に垂直な方向の大きさが、
該各スポットのそれぞれを合計した大きさよりも小さくなるようにして、前記複数の光からなる測定光の各スポットを同一方向に走査し、
該複数の光からなる測定光を、照射光学系を介して前記被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する工程と、
前記検出された各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも2つのスポットによる干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理工程と、
を有することを特徴とする光断層画像の撮像方法。 - 複数の光からなる測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、複数の光からなる参照光を合成する合成手段によって合成された干渉光を検出し、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像方法であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導くに際し、
前記複数の光からなる測定光を走査する走査光学系を用い、
該走査光学系により同一方向に走査される前記複数の光からなる測定光の各スポットによる走査領域の走査方向に垂直な方向の大きさが、
該各スポットのそれぞれを合計した大きさよりも小さくなるようにして、前記複数の光からなる測定光の各スポットを同一方向に走査し、
該複数の光からなる測定光を、照射光学系を介して前記被検査物の異なるスポット位置に照射する工程と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する工程と、
前記検出された各スポットに対応する干渉信号のうち、少なくとも2つのスポットによる干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理工程と、
を有することを特徴とする光断層画像の撮像方法。 - 前記演算処理をする工程が、
前記走査光学系により走査される走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある前記各スポットからの干渉信号を用いて加算処理あるいは平均化処理をする工程を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光断層画像の撮像方法。 - 前記平均化処理をする工程が、
前記走査光学系により走査される走査領域内における、走査方向に垂直な方向にほぼ同じ位置にある前記各スポットからの干渉信号を用いて重み付けをして平均化処理をする工程を含むことを特徴とする請求項3に記載の光断層画像の撮像方法。 - 前記重み付けをして平均化処理をする工程が、前記各スポットの光量、信号強度レベル、雑音レベルのうち、いずれか一つに対応した値で重み付けを行うことを特徴とする請求項4に記載の光断層画像の撮像方法。
- 前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導くに際し、前記走査光学系による走査速度を変えて走査することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光断層画像の撮像方法。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載の光断層画像の撮像方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納したことを特徴とするコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載の光断層画像の撮像方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
- 光源から出射され複数に分割された光を、該分割された複数の光からなる測定光と参照光とに更に分割し、該測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に該参照光を参照ミラーに導き、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光とを用い、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導く走査光学系と、
前記走査手段によって走査された前記複数の光からなる測定光を、前記被検査物の異なるスポット位置に照射する照明光学系と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する干渉信号の検出手段と、
前記検出された干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理手段と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。 - 複数の光からなる測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、複数の光からなる参照光を合成する合成手段によって合成された干渉光を検出し、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像の撮像装置であって、
前記複数の光からなる測定光を前記被検査物に導く走査光学系と、
前記走査手段によって走査された前記複数の光からなる測定光を、前記被検査物の異なるスポット位置に照射する照明光学系と、
前記被検査物の異なるスポット位置に照射された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光と、による干渉信号を検出する干渉信号の検出手段と、
前記検出された干渉信号を用い、前記異なるスポット位置に照射された各スポットの位置ずれ量を元にして演算処理し、信号雑音比を向上させる信号処理手段と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。 - 前記走査光学系が、走査速度を可変にできる機構を備えていることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の光断層画像撮像装置。
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