JP2011005236A5 - - Google Patents
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本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像装置であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する変更手段と、を有する。
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像装置であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する変更手段と、を有する。
また、別の本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する変更手段と、
前記変更手段により変更された前記位置関係で前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、を有する。
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する変更手段と、
前記変更手段により変更された前記位置関係で前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、を有する。
また、別の本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段と、
前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する変更手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、を有する。
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段と、
前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する変更手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、を有する。
また、本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像方法であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する工程を含む。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程と、
前記解析する工程における解析結果を用いて前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する工程と、を含む。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
被検査物に照射される複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段の走査速度であって、前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する工程と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、を含む。
複数の測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像方法であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する工程を含む。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程と、
前記解析する工程における解析結果を用いて前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する工程と、を含む。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
被検査物に照射される複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段の走査速度であって、前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する工程と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、を含む。
Claims (20)
- 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像装置であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する変更手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記被検査物が、被検眼であり、
前記変更手段が、前記被検眼の眼底表面における前記複数の照射位置の間隔を変更することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。 - 前記変更手段が、前記走査手段の副走査方向における前記複数の照射位置の幅を変更することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項1あるいは2に記載の撮像装置。
- 前記変更手段が、前記複数の照射位置の配列を、前記走査手段の主走査方向から副走査方向に変更する、あるいは該副走査方向から該主走査方向に変更することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記複数の測定光を前記被検査物に射出する複数のファイバ端を含み、
前記変更手段が、前記複数のファイバ端を前記複数の測定光の射出方向を軸にして回転することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記複数の測定光を前記被検査物に射出する複数のファイバ端を含み、
前記変更手段が、前記複数のファイバ端の一部を選択することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記変更手段が、前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を取得した際よりも前記複数の測定光の照射位置の間隔を狭くすることにより前記配置を変更し、
前記広い走査領域に含まれる前記被検査物の注目領域における前記光干渉断層画像が、前記狭くされた間隔で前記複数の測定光を走査することにより、取得されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する変更手段と、
前記変更手段により変更された前記位置関係で前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記解析手段が、前記広域画像から前記被検査物の注目領域を決定し、
前記変更手段が、前記広域画像を取得した際よりも前記複数の照射位置の間隔を狭くするように前記位置関係を変更し、
前記取得手段が、前記変更手段により変更された前記位置関係で前記注目領域の前記光干渉断層画像を取得することを特徴とする請求項9に記載の撮像装置。 - 複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段と、
前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する変更手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 複数の測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像方法であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する工程を含むことを特徴とする撮像方法。 - 前記被検査物が、被検眼であり、
前記変更する工程において、前記被検眼の眼底表面における前記複数の照射位置の間隔を変更することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項12に記載の撮像方法。 - 前記変更する工程において、前記走査手段の副走査方向における前記複数の照射位置の幅を変更することを特徴とする請求項12あるいは13に記載の撮像方法。
- 前記変更する工程において、前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を取得した際よりも前記複数の測定光の照射位置の間隔を狭くすることにより前記配置を変更し、
前記広い走査領域に含まれる前記被検査物の注目領域における前記光干渉断層画像が、前記狭くされた間隔で前記複数の測定光を走査することにより、取得されることを特徴とする請求項12乃至14のいずれか1項に記載の撮像方法。 - 前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程を含み、
前記変更する工程において、前記解析する工程における解析結果に基づいて、前記配置を変更することを特徴とする請求項12乃至15のいずれか1項に記載の撮像方法。 - 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程と、
前記解析する工程における解析結果を用いて前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。 - 前記広域画像から前記被検査物の注目領域を決定する工程を含み、
前記変更する工程において、前記広域画像を取得した際よりも前記複数の照射位置の間隔を狭くするように前記位置関係を変更し、
前記取得する工程において、前記変更された前記位置関係で前記注目領域の前記断層画像を取得することを特徴とする請求項17に記載の撮像方法。 - 被検査物に照射される複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段の走査速度であって、前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する工程と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。 - 請求項12乃至19のいずれか1項に記載の撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
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